| 例文 (363件) |
ion depositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 363件
If the OCV calculated by the OCV calculation part 72 is in a predetermined region, a degradation determination part 76 determines that the lithium ion battery is degraded due to deposition, when properties of changes in SOC and OCV occurring when the vehicle travels from a predetermined spot A up to a spot B vary by specified amounts from properties acquired when the battery is brand-new.例文帳に追加
劣化判定部７６は、ＯＣＶ算出部７２により算出されたＯＣＶが所定領域にある場合において、所定のＡ地点からＢ地点へ車両が走行したときのＳＯＣおよびＯＣＶの変化の特性が新品時の特性から規定量のずれを生じたとき、リチウムイオン電池において析出劣化が発生したものと判定する。 - 特許庁
The electrochemical cell 10 includes: the solid electrolyte 11 made by the electron-beam physical deposition method or the discharge plasma sintering method, endowed with oxide ion conductivity or protonic conductivity, and containing columnar crystal with crystal orientation controlled; and a pair of electrodes 12, 13 formed on a pair of opposed main surfaces of the solid electrolyte 11.例文帳に追加
電子ビーム物理蒸着法あるいは放電プラズマ焼結法などを用いて作製された、酸化物イオン導電性あるいはプロトン導電性を有し、結晶配向を制御された柱状結晶を含む固体電解質１１と、固体電解質１１の相対向する一対の主面上に形成された一対の電極１２，１３と、を具えるようにして形成された電気化学セル１０。 - 特許庁
To provide an electrode inserting method that more secures the insertion of an electrode into an electrode guide and a device therefor, provide a pore electric discharge machining method capable of stably feeding the electrode by preventing a contaminated liquid in the processing solution from entering the electrode guide and reduction of a metal ion in the processing solution to cause deposition of the metal on the electrode guide and improving machining accuracy, and provide a device therefor.例文帳に追加
電極ガイドに対する電極挿通をより確実にする電極挿通方法および装置の提供と、加工液中の汚液の電極ガイドへの侵入および加工液中の金属イオンが還元されて電極ガイドへ付着を防止して安定した電極送りを可能にし、かつ加工精度を向上させる細穴放電加工方法および装置の提供。 - 特許庁
The method for producing the optical article includes a step of forming a light-transmissive first layer on an optical substrate directly or via another layer and a step of reducing electrical resistance of at least a portion of a surface layer of the first layer by ion-assisted deposition of at least one composition selected from a group consisting of titanium, niobium, titanium oxides and niobium oxides.例文帳に追加
光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成する工程と、チタン、ニオブ、チタンの酸化物およびニオブの酸化物からなる群から選ばれる少なくとも１つの組成をイオンアシスト蒸着することにより、第１の層の表層の少なくとも一部を低抵抗化する工程とを有する光学物品の製造方法を提供する。 - 特許庁
This is the method of manufacturing the electrode for lithium secondary battery in which a thin film containing an active material is formed on a current collector, and is provided with an interfacial layer forming process of forming an interfacial layer on the current collector by an ion plating method and an active material layer forming process of forming an active material layer on the interfacial layer by a vapor deposition method.例文帳に追加
本発明方法は、活物質を含む薄膜を集電体上に形成するリチウム二次電池用電極の製造方法であって、集電体上にイオンプレーティング法により界面層を形成する界面層形成工程と、界面層上に蒸着法により活物質層を形成する活物質層形成工程とを具えることを特徴とする。 - 特許庁
The ion-assisted vapor deposition apparatus 1 includes: a vacuum vessel 2 having an exhaust port 29; an exhaust system 4 for vacuumizing the inside of the vacuum vessel 2 through the exhaust port 29; a pressure regulating means 20 for regulating the pressure in the vacuum vessel 2; an actuator 204 for moving the pressure regulating means 20; and a controller 206 for controlling timing to move the actuator 204.例文帳に追加
イオンアシスト蒸着装置１は、排気口２９を持つ真空容器２と、排気口２９を介して真空容器２内を真空引きする排気系４と、真空容器２内の圧力を調整する圧力調整手段２０と、圧力調整手段２０を移動させるアクチュエータ２０４と、アクチュエータ２０４を移動させるタイミングを制御するコントローラ２０６とを有する。 - 特許庁
The grinding material 1 fed from an abrasive material hopper 2 onto a transfer insulating belt 5 is ion- charged by deposition of ions generated by the corona discharge from the charger 10, and attracted to the base material 8 by the electrostatic force from the electric field formed between the electrode 7 and the base material 8, and deposited on a surface of the base material 8 with an adhesive applied thereto in advance.例文帳に追加
研磨材ホッパ２から転写絶縁ベルト５上に供給された研磨材１は帯電器１０からのコロナ放電により発生したイオンが付着することによってイオン帯電し、電極７と基材８との間に形成された電界からの静電力を受けて基材８へと引き寄せられ、予め接着剤が塗布されている基材８の表面に付着される。 - 特許庁
The method comprises forming a metal oxide thin film on the surface of a plastic film by the vacuum vapor deposition, ion plating, sputtering or CVD method, applying, onto the oxide film, an active-energy-hardenable composition containing a silane coupling agent containing an acryloyl and/or a methacryloyl group, and irradiating active energy rays to form a hardened coating.例文帳に追加
プラスチックフィルム表面に、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法及びＣＶＤ法から選ばれるいずれかの方法により金属酸化物薄膜を形成し、該金属酸化物薄膜上に、アクリロイル基及び／又はメタクリロイル基を有するシランカップリング剤を含有する活性エネルギー線硬化性組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化被膜を形成するガスバリア性フィルムの製造方法。 - 特許庁
A solid electrolyte layer 3 is formed by splashing moldings of at least two kinds of fine particles selected from among lithium compound, metal oxide and silicon sulfide as a source for deposition, and the solid electrolyte layer 3 having a thin film thickness and high ion conductivity can be obtained, since the electrolyte layer 3 is formed so as to mutually adhere plural kinds of fine particles uniformly mixed.例文帳に追加
固体電解質層３が、リチウム化合物、金属酸化物および硫化珪素のうちの少なくとも２種類の粉体からなる成型物１０を蒸着用ソースとして飛散させてなり、均一に混合された複数種の粉体が相互に固着されるようにして固体電解質層３が形成されるため、膜厚がきわめて薄く、しかも高いイオン導電性を有する固体電解質層３としたもの。 - 特許庁
The transparent gas barrier film 11 has a substrate film 111 of a polyamide resin, an easy adhering layer 112 surface treated by reactive ion-etching and an inorganic oxide layer 113 formed by a vapor phase deposition method thereon, wherein the easy adhering layer 112 is formed on one primary surface of the substrate film 111 and contains nitrogen atoms, an adipic acid and bisphenol glycidyl ether.例文帳に追加
本発明の透明ガスバリア性フィルム１１は、ポリアミド樹脂からなる基材フィルム１１１と、前記基材フィルム１１１の一方の主面上に形成され、窒素原子とアジピン酸とビスフェノールグリシジルエーテルとを含み、リアクティブイオンエッチングによる表面処理が施された易接着層１１２と、前記易接着層１１２上に気相堆積法によって形成された無機酸化物層１１３とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁
In the method for simultaneously forming the contact holes on a gate electrode on the Si active layer and via an insulating SiO_2 film, oxide films that are left in the irregularities of the Si active layer are removed effectively, by subsequently performing sputter etching by Ar gas with a sputtering device and continuously performing sputtering deposition after performing reactive ion etching by a fluorine gas system and wet etching by a buffered hydrofluoric acid.例文帳に追加
Ｓｉ活性層上、及び絶縁ＳｉＯ_２膜を介してゲート電極上にコンタクト孔を同時に形成する方法において、フッ素ガス系による反応性イオンエッチング及びバッファードフッ酸によるウェットエッチングの後に、引き続いてスパッタ装置によりＡｒガスによるスパッタエッチング、及びスパッタ成膜を連続して行うことにより、Ｓｉ活性層の凹凸部に残留する酸化膜を効果的に除去する。 - 特許庁
The electrode for the lithium ion secondary battery contains the current collector and an active material layer formed and joined on the current collector by colliding active material powder which can absorb and release lithium ions against the current collector by an aerosol deposition method, the active material layer contains secondary particles comprising aggregates of primary particles having a particle diameter of 1 μm or less, and the porosity of the active material layer is 10-20%.例文帳に追加
リチウムイオン二次電池用電極は、集電体、およびエアロゾルデポジション法により、リチウムイオンの挿入脱離が可能な活物質粉体を集電体に衝突させることにより、集電体上に形成かつ接合された活物質層を含み、活物質層が粒径１μｍ以下の一次粒子の集合体からなる二次粒子を含み、活物質層の空孔率が１０％以上２０％以下である。 - 特許庁
To provide a cover of a capacitive sensor and the capacitive sensor allowing rapid progress of an injection work process of injecting liquid regarding washing of ion exchange resin and a discharging work process of discharging the liquid and reducing the inspection costs by preventing deposition of impurities in the work of washing the resin, in the cover for the capacitive sensor and the capacitive sensor for use in the detection of liquid including resin.例文帳に追加
樹脂を含有する液体を検知するために用いられる静電容量式センサのカバー及び、静電容量式センサであって、樹脂を洗浄する作業において不純物の付着を防止することにより、イオン交換樹脂の洗浄にかかる液体を注入する注入作業工程及び、液体を排出する排出作業工程の迅速な進行を図ることができると共に、点検コストの低減を図ることができる静電容量式センサのカバー及び、静電容量式センサを提供すること。 - 特許庁
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