「ion deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

This method comprises adding metallic iron in the existence of Ni ion resulting in the deposition of cobalt ion which is contained as an impurity in the ferrous chloride and/or ferric chloride aqueous solution or is generated in the ferrous chloride and/or ferric chloride aqueous solution through an etching treatment or the like.例文帳に追加

塩化鉄水溶液に不純物として含まれるコバルトイオン、又はエッチング処理などによって塩化鉄水溶液中に生成されたコバルトイオンを、ニッケルイオンの存在下に金属鉄を加え、塩化鉄水溶液中に含まれるコバルトイオンを析出させる。 - 特許庁

To provide a capacity-coupling type plasma treatment device for sputtering film deposition in which ion flux is uniformly deposited on a surface of a substrate at high concentration, but not re-deposited on a target.例文帳に追加

基板表面で均一・高濃度のイオンフラックスを形成し、またターゲットへの再堆積を生じる事のない、スパッタ成膜用の容量結合型プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The surface of a plug body 1 consisting of a rubber-like elastic body is provided with a thin film 2 of either of a metal oxide or metal nitride by a sputtering process, vapor deposition process, ion plating process or CVD process.例文帳に追加

ゴム状弾性体からなる栓本体１の表面に、スパッタ法、蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法により、金属酸化物、金属窒化物のいずれかの薄膜２を設ける。 - 特許庁

A silver thin film (thickness 50 nm) 2 and an SiO_2 film (thickness 10 nm) 7 are deposited in order on one side surface of a slide glass 1 by ion beam sputtering deposition, so that a supporting substrate for sample solution is formed.例文帳に追加

スライドガラス１の片面に、イオンビームスパッタ堆積法により銀薄膜（厚さ５０ｎｍ）２とＳｉＯ_２膜（厚さ１０ｎｍ）７を順に堆積したものを試料溶液の支持基板とする。 - 特許庁

Then, the indium ions in the In ion implanted layer 12 are diffused to form an In deposition layer 13 near an interface between the TiN film 10 and the gate insulation film 9.例文帳に追加

次に熱処理によりＩｎイオン注入層１２中のインジウムを拡散させ、ＴｉＮ膜１０のゲート絶縁膜９との界面付近にＩｎ析出層１３を形成する。 - 特許庁

Hydroxyl radical, which is produced in a hydroxyl-ion producing device 14 outside of a chemical vapor deposition reactor 30, are mixed with a precursor to form a hydroxyl ions-precursor mixture.例文帳に追加

化学蒸着反応器３０の外側のヒドロキシルイオン発生装置１４内で発生させたヒドロキシルラジカルを、先駆物質と混合させてヒドロキシルイオン・先駆物質混合体を形成させる。 - 特許庁

If the isotropic deposition and ion milling of the second material are repeated, a pattern structure having a high density pitch four times that of the pattern structure formed from the second material can be also obtained.例文帳に追加

第２の材料の等方堆積およびイオン・ミリングを反復すれば、第２の材料から形成されたものの４倍の高密度ピッチのパターン構造を得ることも可能である。 - 特許庁

The electrolyte layer which is, in substance, made of a lithium ion conductive inorganic solid material and of which film thickness is regulated to 500 μm or less is formed preferably by a blast method or an aerosol deposition method.例文帳に追加

実質的にリチウムイオン伝導性無機固体物質のみからなり、膜厚を５００μｍ以下に規制した電解質層を、好ましくはブラスト法又はエアロゾルデポジション法にて形成させる。 - 特許庁

An ion plating system 100 has a substrate holder 28, a crucible 41 and a plasma generation part 50 for evaporating and ionizing a vapor deposition material, a bias electrode 63, and a bias supply 61.例文帳に追加

イオンプレーティング装置１００には、基板ホルダ２８と蒸着物質を蒸発してイオン化する坩堝４１及びプラズマ生成部５０と、バイアス電極６３と、バイアス電源６１とが設けられる。 - 特許庁

The antibacterial material is produced by forming a zinc oxide thin film on a glass substrate, a plastic sheet, a plastic film substrate, etc., by vacuum deposition, sputtering, ion plating, etc.例文帳に追加

ガラス基板、プラスチックシート、プラスチックフィルム基板等の上に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の手法で酸化亜鉛薄膜を形成させることを特徴とする抗菌性材料である。 - 特許庁

To realize high-quality defect correction of a photomask without leaving a halo component or re-deposition in the mask defect correction using ion beams or the mask defect correction using electron beams.例文帳に追加

イオンビームを用いたマスク欠陥修正や電子ビームを用いたマスク欠陥修正に対して、ハロー成分や再付着のない高品位なフォトマスクの欠陥修正を可能にする。 - 特許庁

A sputtering apparatus 10 for depositing a metal thin film on a PET film 4 and an ion gun 11 for emitting oxygen ions are arranged on a film deposition stage in a vacuum tank 3.例文帳に追加

真空槽３内の成膜ステージには、ＰＥＴフィルム４上に金属薄膜を形成するスパッタリング装置１０と、酸素イオンを放出するイオン銃１１とが配されている。 - 特許庁

A method for manufacturing the separator 1 for the fuel cell is that a coating layer 14 (a carbon layer as a corrosion resistant layer) is formed on a metallic substrate 12 by combining a filterless arc ion plating method with a vapor deposition method different from the filterless arc ion plating method, and a conductive part is formed on the carbon layer by the filterless arc ion plating method.例文帳に追加

燃料電池用セパレータ１の製造方法は、フィルターレスアークイオンプレーティング法及び前記フィルターレスアークイオンプレーティング法と異なる蒸着法を併用して、金属基板１２上に被覆層１４（耐食層としてのカーボン層）を形成すると共に、前記フィルターレスアークイオンプレーティング法により、前記カーボン層に導電部を形成する。 - 特許庁

To provide an AIP (Arc Ion Plating) system which can satisfy the requirements to an evacuation system to each other between a step requiring initial high evacuation and deposition step, both steps substantially contradicting each other with one turbo molecular pump, and which obtains an exhaust velocity desirable to the deposition step.例文帳に追加

１台のターボ分子ポンプで、本質的に相矛盾する初期の高真空排気を必要とする工程と成膜工程との間での真空排気システムへの要求事項を相互に満足させ得るとともに、成膜工程に対して望ましい排気速度を得るＡＩＰ装置を提供する。 - 特許庁

At this time, the Cr-V-B-N alloy film is formed preferably by a physical vapor deposition method, particularly, an ion plating method, a vacuum deposition method or a sputtering method, and, preferably, the content of V is 0.1 to 30 wt.%, and the content of B is 0.05 to 20 wt.%.例文帳に追加

このとき、Ｃｒ−Ｖ−Ｂ−Ｎ合金皮膜が、物理的蒸着法、特にイオンプレーティング法、真空蒸着法またはスパッタリング法で形成されることが好ましく、Ｖ含有量が０．１〜３０重量％およびＢ含有量が０．０５〜２０重量％であることが好ましい。 - 特許庁

In some embodiments, a converged gallium ion beam not containing a deposition precursor gas is scanned on a silicon substrate with a pattern to form a conductive pattern, and copper structure is formed on the conductive pattern by electrochemical deposition with one or more kinds of metals.例文帳に追加

いくつかの実施形態では、付着前駆体ガスを含まない集束ガリウム・イオン・ビームが、シリコン基板上をあるパターンで走査して、導電パターンを生成し、次いでこの導電パターン上に、１種または数種の金属の電気化学付着によって銅構造が形成される。 - 特許庁

In the vapor deposition film, plasma treatment by a reactive ion etching (RIE) method is applied to one side of a coextrusion stretched film base material made of at least a polyester resin and a polyamide resin, and a vapor deposition film layer of an inorganic compound is formed on the plasma-treated surface.例文帳に追加

少なくともポリエステル樹脂とポリアミド樹脂からなる共押出し延伸フィルム基材の片面に、リアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）法によるプラズマ処理を施し、該プラズマ処理面上に無機化合物の蒸着膜層を設けたことを特徴とする蒸着フィルムである。 - 特許庁

In the method of forming the metal-macromolecule composite film, an electric current is made flow into an aqueous electro-deposition liquid containing metal ion and a macromolecular compound so as to deposit the metal ion and the macromolecular compound at the same time, thereby a metal-macromolecule composite film is electrodeposited on the surface to be electrodeposited.例文帳に追加

金属イオンと高分子化合物とを含む水性電着液に通電して、該金属イオンと該高分子化合物とを同時に析出させることにより、金属‐高分子コンポジット膜を被電着部材表面に電着する、金属‐高分子コンポジット膜の形成方法。 - 特許庁

To provide an ion exchange device which can prevent scale deposition onto an anion exchange resin in a column, can surely prevent an anion-exchange resin and a cation-exchange resin from being reversely regenerated, and can stably produce deionized water of high water quality even immediately after regeneration, and a column for the ion exchange device.例文帳に追加

塔内部のアニオン交換樹脂へのスケール析出が防止されると共に、アニオン交換樹脂及びカチオン交換樹脂の逆再生が確実に防止され、再生直後でも高水質の脱イオン水を安定して生産することができるイオン交換装置とそのための塔体を提供する。 - 特許庁

An examined body 2 is immersed into a metal ion solution 1, light 3 is applied and the presence of the photocatalyst layer 2a on the examined body surface is confirmed by the presence of deposition of a metal 4 on the examined body surface.例文帳に追加

金属イオン溶液１に被検体２を浸漬して光３を照射し、被検体表面における金属４の析出の有無によって被検体表面の光触媒層２ａの有無を確認する。 - 特許庁

A plurality of sets of alternate multilayered films combined with ZnSe or Zns as low-refractive index layers and Ge as high-refractive index layers on a silicon or oxygen-free silicon substrate are formed by ion assisted vapor deposition.例文帳に追加

シリコンまたは無酸素同基材の上に、低屈折率層としてＺｎＳｅまたはＺｎＳを、高屈折率層としてＧｅを組み合わせた交互多層膜を複数組、イオンアシスト蒸着する。 - 特許庁

This arc-type ion plating apparatus comprises a carry-in chamber 4, a preliminary heating chamber 6, the film deposition chamber 8 and a carry-out chamber 10 which are arranged in series with vacuum valves 15-17 interposed therebetween.例文帳に追加

このアーク式イオンプレーティング装置は、真空弁１５〜１７を介在させて互いに直列配置された搬入室４、予備加熱室６、成膜室８および搬出室１０を備えている。 - 特許庁

The film deposition apparatus has an ion beam irradiating unit, a target 105 containing a film forming substance to be sputtered, and a holding unit 112 for holding a substrate 106 on which the sputtered film forming substance is deposited.例文帳に追加

成膜装置は、イオンビーム照射手段と、スパッタリングされる成膜物質を含むターゲット１０５と、スパッタリングされた成膜物質が析出する基板１０６を保持する保持手段１１２を有する。 - 特許庁

On the basis of at least the deviation capacity (ΔQs(Li)) caused by the lithium deposition, the MPU determines whether or not the lithium ion secondary battery as a target of deterioration determination can be reused and/or recycled (S200).例文帳に追加

ＭＰＵは、少なくともリチウム析出に起因したずれ容量（ΔＱｓ（Ｌｉ））に基づいて、劣化判定対象であるリチウムイオン二次電池のリユースおよび／またはリサイクルの可否を判定する（Ｓ２００）。 - 特許庁

In this case, film deposition is performed by allowing a mask 41 to constantly face the first and second target units 33, 34 and an ion beam source 35, so that the treatment by each of the units 33-35 becomes equivalent.例文帳に追加

この際、第１及び第２ターゲットユニット３３，３４やイオンビーム源３５に対してマスク４１を常に正対させて成膜を行うことになるので、各ユニット３３〜３５による処理が等価になる。 - 特許庁

To provide a detergent additive which exerts the excellent performances capable of preventing the resoling, especially that of a chemical fiber, and preventing the deposition of ferrous ion, and to provide a detergent composition containing the additive.例文帳に追加

再汚染防止能、特に化繊に対する再汚染防止能と、鉄イオン沈着防止能との両方において優れた性能を発揮する洗剤添加物、およびこれを含む洗剤組成物を提供する。 - 特許庁

An ion diffusion property on the surface of a negative active material is improved, and the deposition of lithium on the surface of the negative electrode can be suppressed even when the thickness of the negative active material layer is increased.例文帳に追加

これにより、負極活物質表面でのイオン拡散性を改善し、負極活物質層の厚みを厚くした場合であっても負極表面でのリチウムの析出を抑制することができる。 - 特許庁

The film-forming method comprises continuously forming an organic EL layer on the anode 3 with a vacuum deposition method, and forming a cathode on the organic EL layer with an ion beam sputtering method, by using the apparatus 10.例文帳に追加

この装置１０を用いて、陽極３上に蒸着法により有機ＥＬ層と、この有機ＥＬ層上にイオンビームスパッタリング法により陰極とを連続して成膜することができる。 - 特許庁

Amorphous carbon is formed on a plastic substrate 2 by sputtering, vacuum deposition or ion plating or the like, by using a vacuum film forming device and then a film of chromium or titanium is formed.例文帳に追加

真空成膜装置を用いて、スパッタリング法、真空蒸着法、またはイオンプレーティング法等により、プラスチック製基材上にアモルファス炭素を形成し、次いでクロム、またはチタンの膜を形成する。 - 特許庁

To provide a lithium ion capacitor suitable for mass production because of allowing application of a negative electrode material to be easily performed, and excelling in reliability because of being capable of surely preventing deposition of lithium metal.例文帳に追加

負極材の塗工を容易に行うことができるため量産に適しており、かつリチウム金属の析出を確実に防止できるため信頼性に優れたリチウムイオンキャパシタを提供すること。 - 特許庁

Desired magnetic characteristics can be found by adjusting film deposition conditions during manufacturing of the ferromagnetic thin film, and the fine particles formation and structure thereof can be controlled by the ion etching thereafter.例文帳に追加

強磁性薄膜作製時において製膜条件を調整することにより所望の磁気特性を発現させ，その後のイオンエッチングによって微粒子形成ならびにその組織制御を行うことができる。 - 特許庁

The problem is solved by an electrodeposited copper foil manufacturing process including the following stages: a stage for preparaing a copper deposition bath containing water, copper ion, sulfate ion and < about 20 ppm chlorine ion and a stage for applying a current to the bath at about 200 to 3,000 A/ft2 current density to electrodeposit copper from the bath.例文帳に追加

次の工程を包含する電着銅箔の製造方法により上記課題が達成される：水、銅イオンおよび硫酸イオンを含有し、約２０ｐｐｍ未満の塩素イオンを含有する銅析出浴を調製すること；および上記浴に、１平方フィートあたり約２００から３０００アンペアの割合の電流密度で電流を付与して上記浴から銅を電着させること。 - 特許庁

In the method for depositing a MgO film on a base metal by the ion beam assist sputtering method, a four-times symmetry MgO film can be deposited by executing the film deposition with the back pressure of <0.001 Pa, and a three-times symmetry MgO film can be deposited by executing the film deposition with the back pressure of ≥0.001 Pa.例文帳に追加

イオンビームアシストスパッタ法により金属基材上にＭｇＯ膜を成膜する方法において、背圧を０．００１Ｐａ未満として成膜することにより４回対称ＭｇＯ膜を成膜することができ、背圧を０．００１Ｐａ以上として成膜することにより３回対称ＭｇＯ膜を成膜することができる。 - 特許庁

The halo component in a corrected part of a white defect, re-deposition near a black defect or deposition near a white defect is removed by an electron beam processing device without damages in the corrected part of the white defect or black defect by a mask defect correcting device using ion beams or by a mask defect correcting device using electron beams.例文帳に追加

イオンビームを用いたマスク欠陥修正装置や電子ビームを用いたマスク欠陥修正装置による白欠陥もしくは黒欠陥の修正個所に対して、ダメージのない電子ビーム加工装置で白欠陥修正個所のハロー成分や黒欠陥周辺の再付着もしくは白欠陥周辺の付着を除去する。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition system and a vacuum film deposition method using a pressure gradient ion plating process capable of corresponding even to the case that an electrically insulating substance is film-deposited, capable of sufficiently stably depositing a film on a base material as an object, and also capable of obtaining a stably film-deposited base material.例文帳に追加

電気的絶縁性物質を成膜する場合にも対応でき、対象とする基材上に充分安定的に成膜することができ、且つ、安定的に、成膜された基材を得ることができる、圧力勾配型イオンプレーティング方法を用いた真空成膜装置、真空成膜方法を提供する。 - 特許庁

A thin film component 5 separate from a target sample is transferred and fixed to a processing position in place of the focusing ion beam assist deposition (FIBAD) film formed on the surface of the sample heretofore at the time of machining of the sample to be used as a protective film.例文帳に追加

従来、試料加工の際に試料表面に作製していた集束イオンビームアシストデポジション（ＦＩＢＡＤ）膜の代わりに、対象試料とは別の薄膜部品５を加工位置に移設固定して保護膜とする。 - 特許庁

A thin plate of a minute thin film different from a target sample is transferred and fixed to a processing position in place of the focusing ion beam assist deposition (FIBAD) film fabricated on the surface of the sample during sample processing to be used as a protective film.例文帳に追加

試料加工の際に試料表面に作製していた集束イオンビームアシストデポジション（FIBAD）膜の代わりに、対象試料とは別の微小な薄膜の薄板を加工位置に移設固定して保護膜とする。 - 特許庁

The optical element is provided with an optical element base plate 1 and a hafnium oxide HfO_2 film 2 which is formed on the surface of the optical element base plate 1 by an ion beam assist deposition method and functions as the protective film for the optical element base plate 1.例文帳に追加

光学素子は、光学素子基板１と、光学素子基板１の表面にイオンビームアシスト蒸着法により成膜された、光学素子基板１の保護膜として機能する酸化ハフニウム（ＨｆＯ_２）膜２とを備える。 - 特許庁

In the apparatus, a grid electrode is arranged on the front face of the deposition substrate in a plasma stream side and the positive or negative bias voltage to the potential of the plasma is applied to the grid electrode corresponding to the polarity of the atom ion to be doped.例文帳に追加

堆積基板の前面、プラズマ流側にグリッド電極を配置し、内包対象原子イオンの極性に応じて、グリッド電極にプラズマの電位に対し正または負のバイアス電圧を印加することにした。 - 特許庁

The method disclosed includes (i) ion implantation to create a thin amorphization layer, (ii) deposition of a high stress film on the amorphization layer, (iii) a thermal anneal to recrystallize the amorphization layer, and (iv) removal of the high stress film.例文帳に追加

（ｉ）薄いアモルファス化層を生成するためのイオン注入と、（ｉｉ）アモルファス化層上への高応力膜の堆積と、（ｉｉｉ）アモルファス化層を再結晶させるための熱アニールと、（ｉＶ）高応力膜の除去とを含む。 - 特許庁

In the method for depositing a fluoride film on a substrate, at the time of vapor-depositing a fluoride by a vapor deposition method so as to deposit a film, the vapor depositing face is irradiated with fluorine based gas cluster ion beams.例文帳に追加

基板上にフッ化物膜を成膜する方法であって、蒸着法によりフッ化物を蒸着させて成膜を施す際に、蒸着面にフッ素系ガスクラスターイオンビームを照射することを特徴とする。 - 特許庁

From the shape of a halo component 33 formed during deposition processing, such an ion beam irradiation profile (dose distribution) on a processing target as forms a sharp edge when the halo component 33 is removed is obtained.例文帳に追加

デポジション加工を行った際に形成されたハロー成分３３の形状から、当該ハロー成分３３を除去した時に急峻なエッジとなるような、加工目標のイオンビーム照射プロファイル（ドーズ分布）を得る。 - 特許庁

Dispersion of a plurality of nanoparticles is conducted by a step of decompressing an internal pressure less than the atmospheric pressure using a vapor deposition apparatus so that the nanoparticles of nanoparticle precursors are vapor deposited on the ion gel.例文帳に追加

複数のナノ粒子の分散は、ナノ粒子分散イオンゲルは、内部気圧を大気圧よりも減圧させた蒸着装置を用いて、ナノ粒子前駆体のナノ粒子をイオンゲルに蒸着させる工程により行われる。 - 特許庁

A sintering tray base material is formed of alumina, and the base material surface is coated with a metal film of the same quality as a metal of the ceramic capacitor by a coating method performing deposition in a form of a vapor phase or an ion, such as a sputtering method.例文帳に追加

焼結用トレイ基材をアルミナで形成すると共に基材表面にセラミックコンデンサーの金属と同質の金属膜をスパッター法などの気相、イオンなどの形態で堆積するコーティング法により被覆する。 - 特許庁

To provide an electrolytic cell for iron by which yield is remarkably improved by inverting of polarity with good maintainability the deposition of both negative and positive products on iron electrode plates is prevented by increasing the interpole flow velocity, and the iron ion is efficiently eluted.例文帳に追加

メンテナンス作業性に優れ、極性変換により歩留まり性を高め、また、極間流速を高めることで、鉄電極板の表裏面への陰陽生成物の付着防止や抑制に対処する。 - 特許庁