例文 (363件) |
ion depositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 363件
ION DISCHARGING MECHANISM AND ION DEPOSITION MASS SPECTROGRAPH例文帳に追加
イオン放出機構及びイオン付着質量分析装置 - 特許庁
The physical vapor deposition may be ion-enhanced electron beam physical vapor deposition.例文帳に追加
物理蒸着は、イオン強化電子ビーム物理蒸着とすることができる。 - 特許庁
The multilayer films 3, 4, 6, 7 are deposited with vacuum deposition, ion plating, ion assisted deposition and sputtering method.例文帳に追加
前記多層膜3,4,6,7は、真空蒸着、イオンプレーティング、イオンアシスト蒸着、スパッタリング法で成膜される。 - 特許庁
The method for forming the film uses an ion-beam vapor deposition method or a plasma vapor deposition method.例文帳に追加
成膜方法には、イオンビーム蒸着法またはプラズマ蒸着法を用いる。 - 特許庁
On a slide surface S2 of an outer clutch plate 34b, a diamond- like carbon thin film D is applied by a known method such as a CVD(Chemical Vapor Deposition) method, a PVD(Physical Vapor Deposition) method, and an ion deposition method.例文帳に追加
アウタクラッチプレート34bの摺動面S2にCVD(ChemicalVapor Deposition )法、PVD(Physical Vapor Deposition )法、イオン蒸着法等の公知の方法によりダイヤモンド状炭素薄膜Dを施す。 - 特許庁
A diamond-like carbon thin film D is applied onto a sliding face S2 of an outer clutch plate 34b by known methods such as a CVD (Chemical Vapor Deposition) method, a PVD (Physical Vapor Deposition) method and an ion vapor deposition method.例文帳に追加
アウタクラッチプレート34bの摺動面S2にCVD(Chemical Vapor Deposition )法、PVD(Physical Vapor Deposition )法、イオン蒸着法等の公知の方法によりダイヤモンド状炭素薄膜Dを施す。 - 特許庁
A DLC-Si thin film D is applied to a sliding surface S2 of an outer clutch plate 34b by publicly known method such as CVD (Chemical Vapor Deposition) method, PVD (Physical Vapor Deposition) method and Ion Deposition method or the like.例文帳に追加
アウタクラッチプレート34bの摺動面S2にCVD(ChemicalVapor Deposition )法、PVD(Physical Vapor Deposition )法、イオン蒸着法等の公知の方法によりDLC−Si薄膜Dを施す。 - 特許庁
In this way, film deposition utilizing the ion mixing effect is performed.例文帳に追加
これにより、イオンミキシング効果を利用した成膜が行なわれる。 - 特許庁
The second oblique vapor deposition films 23 with gentle inclination are formed by ion-assist vapor deposition.例文帳に追加
緩傾斜の第2種の斜め蒸着膜23は、イオンアシスト蒸着によって形成される。 - 特許庁
METHOD AND SYSTEM FOR FILM DEPOSITION BY NEGATIVE ION IRRADIATION AND MULTI-SOURCE EVAPORATION例文帳に追加
負イオン照射・同時蒸着による膜形成方法とその装置 - 特許庁
To obtain an ion beam deposition system which reduces a production cost by increasing the wafer throughput of a deposition system.例文帳に追加
堆積システムのウェハ・スループットを増加させることにより製造コストを減少させる、イオン・ビーム堆積システムを得る。 - 特許庁
ION-ZIRCONIUM-BORON-SILVER SOFT MAGNETIC MATERIAL AND METHOD FOR DEPOSITION OF THIN FILM例文帳に追加
鉄−ジルコニウム−ホウ素−銀系軟磁性材料及び薄膜の製造方法 - 特許庁
To provide an ion nitriding apparatus which performs ion nitriding treatment safely with simple configuration at a low cost without generating white layers and a deposition system using the same.例文帳に追加
白層を生じないイオン窒化処理を、安全で、しかも簡単な構成かつ低コストで実現する。 - 特許庁
The inorganic oxide layer is preferably manufactured by a vacuum deposition method, a spattering method, an ionization vapor deposition method, an ion beam method, or a chemical vapor phase deposition method.例文帳に追加
前記無機酸化物層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオン化蒸着法、イオンビーム法、または化学気相蒸着法により作製されるのが好ましい。 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus capable of obtaining the higher ion-assist effect than heretofore.例文帳に追加
より高いイオンアシスト効果を得ることができる成膜装置を提供する。 - 特許庁
This electrode is constituted of an ionization gage ion collector and disposed to the spacing between the inner wall of the film deposition chamber and a chamber-deposition shield plate.例文帳に追加
該電極は電離計イオンコレクタで構成し、該成膜室の内壁と該防着板との間の空間に設けた。 - 特許庁
To prevent the omission of fluorine in a fluoride film caused by an electronic charge during film deposition in a film deposition method using a cluster ion assist.例文帳に追加
クラスターイオンアシストによる成膜方法において、成膜中の電子チャージによるフッ化物膜のフッ素欠損を防ぐ。 - 特許庁
To provide an amino group-containing copolymer having the iron ion deposition preventing ability.例文帳に追加
鉄イオン沈着防止能を有するアミノ基含有共重合体を提供する。 - 特許庁
The vacuum process is performed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method or the like.例文帳に追加
真空プロセスは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等である。 - 特許庁
The DLC film 86 is provided on the die head body 85 by an ion deposition method.例文帳に追加
DLC膜86は、イオン蒸着法によりダイヘッド本体85に設けられる。 - 特許庁
To improve a deposition speed without increasing the current density of an ion beam.例文帳に追加
イオンビームの電流密度を上げることなく、成膜スピードの向上を可能とする。 - 特許庁
PARTIAL ETCHING FOR SURFACE MODIFICATION OR CONTROLLING OF DEPOSITION BY PULSE ION BEAM例文帳に追加
パルスイオンビームによる表面改質のための局所エッチングまたは堆積の制御 - 特許庁
Aerosol deposition, CVD or ion plating can be utilized suitably as a coating means.例文帳に追加
その手段としては、エアロゾルディポジション法、CVD法、イオンプレーティング法が好適に利用できる。 - 特許庁
To provide an amino group-containing copolymer having sufficient iron ion deposition prevention ability.例文帳に追加
十分な鉄イオン沈着防止能を有するアミノ基含有共重合体を提供。 - 特許庁
The second deposition, with an associated ion implant for doping, completes the gate electrode.例文帳に追加
第2堆積は、ドーピングに関連するイオン注入により、ゲート電極を完成させる。 - 特許庁
In the stage of the vapor deposition, the thin film 16 is irradiated with ions from an ion source 18.例文帳に追加
蒸着の工程において、イオン源18からイオンを薄膜16に照射する。 - 特許庁
To provide a degradation determination device for a lithium ion battery capable of accurately determining degradation due to deposition in the lithium ion battery.例文帳に追加
リチウムイオン電池における析出劣化の発生を正確に判定可能なリチウムイオン電池の劣化判定装置を提供する。 - 特許庁
The transparent conductive film 2, oxidation coloring film 3, electrolytic film 4, reduction coloring film 5, and transparent conductive film 6 are formed by vacuum vapor-deposition, ion plating, ion assisted vapor-deposition, sputtering, etc.例文帳に追加
透明導電膜2、酸化発色膜3、電解質膜4、還元発色膜5、透明導電膜6が、真空蒸着、イオンプレーティング、イオンアシスト蒸着、スパッタリング法等で成膜される。 - 特許庁
A deposition device is arranged in the vicinity of the sample holding member and the sample is allowed to be put in the ion liquid while carrying out deposition.例文帳に追加
また、試料保持部材の近傍に、蒸着装置を設けて蒸着しながらイオン液体内に試料を投入できるようにする。 - 特許庁
The cationic ion deposition source is introduced for a time sufficient for depositing a cationic ion-oxide or a cationic-ion nitride film simultaneously on the plurality of wafer substrates.例文帳に追加
カチオン性イオン堆積源は、複数のウェーハ基板上にカチオン性イオン酸化膜又はカチオン性イオン窒化膜を同時堆積させるのに十分な時間にわたって導入される。 - 特許庁
A vacuum film deposition system is provided with an ion source in a film deposition chamber, and a thin film is deposited by projecting ion seeds on a film traveling according to the rotation of a main roll by the sputtering method, the CVD method, the vapor deposition method, etc.例文帳に追加
本真空成膜装置は、成膜チャンバ内にイオンソースを備え、メインロールの回転に応じて走行するフィルム上にスパッタ法、CVD法、蒸着法等によりイオン種を投射して薄膜を成膜する装置である。 - 特許庁
To provide a method for removal of contaminants during electron beam-induced deposition, ion beam-induced deposition and laser beam-induced deposition, or a method for real-time inhibition of oxidation during deposition or etching of oxidizable materials.例文帳に追加
電子ビーム誘起付着、イオンビーム誘起付着およびレーザビーム誘起付着中に汚染物を除去する、または酸化可能な材料の付着またはエッチング中の酸化をリアルタイムで抑制する方法を提供する。 - 特許庁
In this manufacturing method of the thin-film metal oxide ion conductor used for the reducing gas sensor, a metal oxide thin film 2 constituting the metal oxide ion conductor is deposited by a liquid-phase deposition method.例文帳に追加
金属酸化物イオン伝導体を構成する金属酸化物薄膜2を液相析出法により析出させる。 - 特許庁
To optimize an ion irradiation angle when an inorganic alignment film is formed of SiO_2 by oblique vapor deposition using an ion assist in combination.例文帳に追加
イオンアシストを併用した斜方蒸着によりSiO_2からなる無機配向膜を形成する際のイオン照射角度を最適化する。 - 特許庁
A deposition stage for a low-refractive index material may be used in place of the second ion exchange stage.例文帳に追加
第2のイオン交換工程に代えて低屈折率材料の堆積工程を用いてもよい。 - 特許庁
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