「ion deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The determination device determines a state of a lithium ion battery 20 which outputs energy used when a vehicle 1 travels and receives regeneration energy in response to switching from on to off of an accelerator 101 of the vehicle, and includes an estimation means 90 for estimating the deposition amount of the lithium metal in the lithium ion battery.例文帳に追加

車両（１）の走行に用いられるエネルギを出力するとともに、車両のアクセル（１０１）がオンからオフに切り替わることに応じて回生エネルギを受け入れるリチウムイオン電池（２０）の状態を判別する判別装置であって、リチウムイオン電池におけるリチウム金属の析出量を推定する推定手段（９０）を有する。 - 特許庁

The molecule-deposition device for depositing an objective molecule on the substrate comprises an ion-trapping part for capturing the above objective molecule charged with electricity, an electric field-applying means for applying an electric field to the above objective molecule trapped in the above ion-trapping part and charged with electricity, and a substrate-supporting means for supporting the substrate.例文帳に追加

基板上に対象分子を堆積させるための分子堆積装置であって、帯電した前記対象分子を捕獲するイオントラップ部と、前記イオントラップ部に捕獲された、前記帯電した対象分子に電場を印加する電場印加手段と、基板を支える基板支持手段と、を含む分子堆積装置など。 - 特許庁

By irradiating the principal surface of the optical substrate 200 with ion beams of xenon gas, the barium fluoride film 210 is formed by vapor deposition supported by the ion beams of the xenon gas on the smoothened principal surface of the optical substrate 200, and further the zinc selenide film 220 is formed on the barium fluoride film 210.例文帳に追加

光学基材２００の主表面にキセノンガスのイオンビームを照射することによって光学基材２００の平滑化された主表面上に、キセノンガスのイオンビームで支援された蒸着により、弗化バリウム膜２１０を形成し、弗化バリウム膜２１０の上にセレン化亜鉛膜２２０を形成する。 - 特許庁

To provide a method for performing electric dialysis in stable state over an extended time period owing to absence of scale deposition onto the surface of ion-exchange membrane during electric dialysis, when manufacturing a dealkalized water glass solution preferably used as a ground improver by dealkalizing a water glass solution through electric dialysis using ion exchange membrane.例文帳に追加

イオン交換膜電気透析法により水ガラス溶液を脱アルカリして、地盤改良材として好適に使用できる脱アルカリ水ガラス溶液を製造するに際し、電気透析中にイオン交換膜の表面にスケールが付着することがなく長時間安定して電気透析を行うことができる方法を提供する。 - 特許庁

The waterproof membrane 1 is deposited by spraying a coating film deposition composition containing a high-speed curable urethane resin main agent 32, a curing agent 42, and a minus ion generation powder 2 by a jetting nozzle 18 along with the flow of compressed air and is provided with high water-proofness and high minus ion generation capability.例文帳に追加

防水膜１は、高速硬化ウレタン樹脂主剤３２とその硬化剤４２およびマイナスイオン発生粉末２を含む塗膜形成組成物を圧縮空気の流れに乗せて噴射ノズル１８から噴射させて形成され、高い防水性能とともに、高いマイナスイオン発生能と水蒸気透過性を有する。 - 特許庁

In the deposition method performing thin-film formation by irradiating a target material with ions in a vacuum chamber to deposit the constitution material of the target material on a substrate, at least one or more seconds of non-irradiation time is set within one period of a first operation period of intermittent ion irradiation consisting of ion irradiation and ion non-irradiation.例文帳に追加

本発明によって、真空チャンバー内においてターゲット物質にイオン照射を行い該ターゲット物質の構成物質を基板に堆積させて薄膜作製を行う成膜法であって、イオン照射とイオン非照射とからなる断続的なイオン照射の第１の動作周期の１周期内に少なくとも１秒以上の非照射時間を設ける、ことを特徴とする成膜方法が提供される。 - 特許庁

To provide an EUV (extreme ultraviolet) radiation source which has a contamination barrier to reduce a deposition rate of such as ion, atom, molecule or particle debris on a light collecting mirror and to minimize an amount of EUV radiation to be absorbed, scattered, or deflected.例文帳に追加

集光ミラー上へのイオン、原子、分子及び粒状デブリなどの堆積率を減少させ、吸収、散乱又は偏向されるＥＵＶ放射の量を最小限にするための汚染バリアを有するＥＵＶ放射源を提供する。 - 特許庁

A method for protecting an article from a high temperature, oxidative environment is presented, along with alloy compositions and ion plasma deposition targets (108) suitable for use in the method, and an article used in the environment.例文帳に追加

物品を高温酸化環境から保護する方法と共に、その方法において使用するのに適する合金組成及びイオンプラズマ蒸着ターゲット（１０８）、並びにそのような環境において使用するための物品が提示される。 - 特許庁

The negative electrode 21 has a structure where a deposition substrate 21B for depositing Li and an inorganic compound layer 21C having Li ion conductivity formed by a dry film forming process are laminated on a substrate 21A for film forming.例文帳に追加

負極２１は、成膜用基体２１Ａの上に、Ｌｉを析出させるための析出基板２１Ｂと、乾式成膜プロセスにより形成されたＬｉイオン伝導性を有する無機化合物層２１Ｃとが積層された構成を有している。 - 特許庁

The external electrode 2 can be formed from ITO and the like in addition to a conductive adhesive, and can also be formed as a metal film by the vapor deposition method or ion plating method, and may cover even an end of the glass tube 1.例文帳に追加

また外部電極２は、導電性接着剤の他、ＩＴＯなどにより形成することができ、蒸着法やイオンプレーティング法などにより金属膜として形成することもでき、ガラス管１の端部まで覆うものとしても良い。 - 特許庁

The process device 1 is a vacuum device, such as a vapor deposition device, a molecular beam epitaxial device or an ion beam sputtering device, or a thin-film growth device, such as an organic-metal gas-phase growth device or a liquid phase epitaxial device, or a surface treatment device, etc.例文帳に追加

プロセス装置１は、蒸着装置、分子ビームエピタキシャル装置、イオンビームスパッタ装置等の真空装置や、有機金属気相成長装置、液相エピタキシャル装置等の薄膜成長装置、表面加工装置等である。 - 特許庁

A plurality of layers composed of transparent materials are laminated on a support plate 101 made of glass or the like by such means as vacuum deposition, ion plating, and sputtering (an intermediate layer 102 and an electro-conductive layer 103 of the Figure (b)).例文帳に追加

即ち、ガラス等からなる支持板１０１に対し、透明性の材料からなる層を真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の手法によって複数積層せしめる（図１（ｂ）の中間層１０２や導電層１０３）。 - 特許庁

To provide a charging method and a charging system for a lithium-ion secondary battery capable of charging without making an electrical potential of a negative electrode reduced to a lithium deposition electrical potential or below even when rapid charging is performed by a large electric current equal to or more than a designated electric current value.例文帳に追加

所定の電流値以上の大電流で急速充電を行っても、負極電位をリチウム析出電位以下に低下させずに充電可能なリチウムイオン二次電池の充電方法と充電システムを提供する。 - 特許庁

Further, as a crucible 8, the one whose opening diameter is smaller than that of a substrate holder 16 is used, thus the amount of vapor upon arrival at the substrate 6 can be made uniform on the substrate 6, and uniform film deposition by ion plating is made possible.例文帳に追加

また、坩堝８として開口径が、基板ホルダー１６の径より小さいものを用いることより、基板６到達時の蒸気量を基板６上で均一にすることができ、イオンプレーティングによる均一成膜が可能である。 - 特許庁

Because acceleration energy can be minimized by the use of the helium ion beam, the rise in the temperature of the substrate at vapor deposition can be prevented and the titanium oxide thin film can be formed even on the substrate made of organic material easily affected by heat.例文帳に追加

ヘリウムイオンビームを用いることにより、加速エネルギーが小さくてすむため、蒸着の際の基板の温度上昇を押さえることができ、熱に弱い有機材料基板上にも酸化チタン薄膜を形成させることができる。 - 特許庁

Here, the addition of the reducing agent, addition of the ion compound of the platinum group element, and deposition of the alloy fine particles are performed in a state where the aqueous solution is heated in a temperature range of 30 to <100°C.例文帳に追加

ここで、上記水溶液を３０℃以上１００℃未満の温度域に加熱した状態で、上記還元剤の添加、および上記白金族元素のイオン化合物の添加、ならびに上記合金微粒子の析出が行われる。 - 特許庁

The process unit 1 is a vacuum device such as a vapor deposition device, a molecular beam epitaxial device, or an ion beam spatter device, or a film growing device, a surface treatment device or the like such as an organic metal vapor phase growing device, a liquid phase epitaxial device or the like.例文帳に追加

プロセス装置１は、蒸着装置、分子ビームエピタキシャル装置、イオンビームスパッタ装置等の真空装置や、有機金属気相成長装置、液相エピタキシャル装置等の薄膜成長装置、表面加工装置等である。 - 特許庁

Deposition of the film 117, a CMP(chemical and mechanical polishing) and the like are performed to form a surface flattened film 122 of the flat surface and hydrogen of a required dose for the adjustment of the threshold voltages, is ion-implanted in the film 122 from over the film 122.例文帳に追加

絶縁膜の堆積とＣＭＰ（化学的機械研磨）等を行って表面が平坦な表面平坦化膜１２２を形成し、その上からしきい値電圧調整に必要なドーズ量の水素をイオン注入する。 - 特許庁

A copper foundation film is formed on the surface of the resin substrate cleaned by ion irradiation or neutral atom irradiation, etc., by vapor deposition or sputtering, and copper foil is press-bonded to the formed copper foundation film.例文帳に追加

イオン照射あるいは中性原子照射等による清浄化処理を施した樹脂基板の表面に銅の下地膜を蒸着あるいはスパッタリングによって形成し、形成された銅の下地膜上に銅箔を加圧接合する。 - 特許庁

To provide a means capable of suppressing deposition of metal dendrite in a negative electrode by correctly monitoring the potential difference between a positive electrode and the negative electrode in a laminated type nonaqueous electrolyte lithium ion secondary battery suitable for mounting on a vehicle.例文帳に追加

車両への搭載に好適な積層型非水電解質リチウムイオン二次電池において、正負極間の電位差を正確にモニターし、負極におけるリチウム金属のデンドライト析出の発生を抑制しうる手段を提供する。 - 特許庁

To measure the temperature of a substrate with a high precision even on vacuum film deposition using a substrate holder as an electrode by an ion plating method, or the like.例文帳に追加

イオンプレーティング法など、基板ホルダを電極とする真空成膜時においても基板の温度を高精度に測定することができる真空成膜装置での基板温度測定方法、及び該方法に用いることができる真空成膜装置の提供。 - 特許庁

This electrophotographic photosensitive body is constituted in such a manner that a film is formed by a vapor deposition method using the metallic complex in which nitrogen atom, oxygen atom and metallic ion have a specified coordination environment and, thereupon, a charge generation layer and a charge transport layer are successively formed.例文帳に追加

本発明は、窒素原子と酸素原子と金属イオンが特定の配位環境を有する金属錯体を蒸着法により形成した膜とし、その上に順次、電荷発生層、電荷輸送層を形成する構成である。 - 特許庁

The coated turbine engine 100 components include the turbine engine components 102, 104, 106, 108, 110, 112, and the erosion resistant coatings arranged on at least a portion on the surface of the turbine engine components 102, 104, 106, 108, 110, 112 by using electron beam physical vapor deposition or ion plasma cathode arc vapor deposition.例文帳に追加

被覆されたタービンエンジン１００構成要素は、タービンエンジン構成要素１０２、１０４、１０６、１０８、１１０、１１２と、電子ビーム物理蒸着又はイオンプラズマカソードアーク蒸着を用いてタービンエンジン構成要素１０２、１０４、１０６、１０８、１１０、１１２の表面の少なくとも一部分上に配置された耐浸食性コーティングとを含んでいる。 - 特許庁

This film deposition method includes a process in which, by FIB assist deposition in which a material having an Si-O-Si bond and an Si-H bond is fed to the surface of a structure, and further, a desired part in the surface fed with the above material is irradiated with a focused ion beam, a silicon oxide film is deposited.例文帳に追加

本発明の成膜方法は、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合及びＳｉ−Ｈ結合を有する材料を構造体の表面に供給するとともに前記材料を供給された前記表面の所望の部分に集束イオンビームを照射するＦＩＢアシストデポジションによりシリコン酸化膜を形成する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

Pretreatment using plasma of a reactive ion etching (RIE) mode is applied to at least one surface of a substrate consisting of an antistatic plastic material, and a vapor deposition layer with a thickness of 5-100 nm comprising a metal or an inorganic compound is provided on the treated surface of the substrate to constitute the vapor deposition film strong in adhesion having the antistatic capacity.例文帳に追加

帯電防止性を有するプラスチック材料からなる基材の少なくとも一方の面に、リアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）モードのプラズマを利用した前処理を施し、その上に厚さ５〜１００ｎｍの金属もしくは無機化合物からなる蒸着層を設けることを特徴とする帯電防止性能を有する強密着蒸着フィルムである。 - 特許庁

The correcting method for a photomask to correct a white defect in a photomask is characterized in that: a deposition film 11 is formed at a white defect portion C by a FIB-CVD (focused ion beam chemical vapor deposition) system; if the film protrudes a desired pattern, the protruding portion 2 is shaved off with a needle; and the needle is preferably a probe of a scanning probe microscope.例文帳に追加

フォトマスクの白欠陥を修正するフォトマスク修正方法において、白欠陥部ＣにＦＩＢ−ＣＶＤ方式でデポジション膜１１を形成し、膜の形状が所望の形状よりはみ出た場合、はみ出た部分２を針で削りとり、好ましくは前記針は、走査プローブ顕微鏡の探針であることを特徴とする。 - 特許庁

This magnetic recording medium is provided with at least with the magnetic film, the protective film essentially consisting of carbon to protect the magnetic film and a lubricating film of perfluoropolyether having at least one functional group on a nonmagnetic substrate, in which the deposition component by ion contribution of the protective film is specified to 10 to 30% and the deposition component by radical contribution is specified to 70 to 90%.例文帳に追加

非磁性基板上に少なくとも磁性膜と該磁性膜を保護する炭素を主成分とする保護膜及び少なくとも一つの官能基を有するパーフルオロポリエーテルの潤滑膜とを設けた磁気記録媒体において、該保護膜のイオン寄与による成膜成分を１０〜３０％、ラジカル寄与による成膜成分を７０〜９０％とする。 - 特許庁

The impurities are made by electroplating copper after copper seed is deposited on inside the holding place and ion is implanted, or by electrodepositing the copper composition including the impurities and diffusing the impurities inside the copper seed layer after the copper layer is deposited, or by implanting dopant ion after the deposition of a barrier layer and then depositing the copper seed layer.例文帳に追加

不純物は、銅シード層を収容箇所内に付着してイオン注入してから銅を電気メッキすること、銅シード層の付着後に、不純物を含む銅組成を電着し不純物を銅シード層内に拡散すること、又はバリア層の付着後にドーパント・イオンを注入し、次いで銅シード層を付着することにより行われる。 - 特許庁

An anodized aluminum film 11 formed by anodized aluminum film treatment, a gradient layer 12 formed with a specific element in a gradient form by plasma ion implantation treatment on a surface layer side of the anodized aluminum film 11, and a DLC layer 13 formed by plasma ion deposition treatment on the surface layer side of the gradient layer 12 are formed on the surface of the main body 10 of the parts made of an aluminum alloy.例文帳に追加

アルミニウム合金製の部品本体１０表面には、アルマイト処理により形成されたアルマイト１１と、アルマイト１１の表層側にプラズマイオン注入処理により特定の元素が傾斜状に形成された傾斜層１２と、傾斜層１２の表層側にプラズマイオン成膜処理により形成されたＤＬＣ層１３とが形成されている。 - 特許庁

By irradiating an ion beam on a surface of the drawing base plate 2a before making a drawing hole, a cleaning of a surface of the drawing base plate is conducted and/or a drawing hole is formed and, then, a blasting of deposition gas and irradiation of ion beams are carried out on the surface of the drawing plate to form a conductive thin membrane on the surface of the drawing plate.例文帳に追加

また、絞り孔を形成する前に絞り基体２ａの表面にイオンビームを照射することにより絞り基体の表面を清浄化する処理及び／又は絞り孔を形成した後に絞りプレートの表面にデポジション用ガスの吹き付けとイオンビーム照射行うことによって絞りプレートの表面に導電性薄膜を形成する処理を行う。 - 特許庁

To provide a plasma CVD system and a plasma CVD method, by which controllability of film quality can be improved restraining ion damage to a thin film and the thin film of excellent uniformity in a film thickness can be deposited, even at a high film deposition rate.例文帳に追加

薄膜へのイオンダメージを抑制し、膜質の制御性を向上することができ、高速成膜時においても膜厚均一性に優れた薄膜を形成することができるプラズマＣＶＤ装置及びプラズマＣＶＤ方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dielectric barrier discharge lamp device, a dielectric barrier discharge lamp lighting device using the same and a ultraviolet irradiation device that can suppress the deposition of ion into a irradiated matter without causing the increase of irradiation non-uniform for the irradiated matter.例文帳に追加

被照射物に対する照射むらの増大を来すことなく、被照射物へのイオン付着を抑制できる誘電体バリヤ放電ランプ装置、これを用いた誘電体バリヤ放電ランプ点灯装置および紫外線照射装置を提供すること。 - 特許庁

A method of manufacturing a silicon thin film comprises the steps of arranging a substrate 1 in a chamber 10, and forming a silicon thin film on the substrate 1 by performing ion beam deposition under a condition of 250°C or less temperature.例文帳に追加

本発明のシリコン薄膜の製造方法は、基板１をチャンバ１０内に配置するステップと、イオンビーム蒸着を２５０℃以下の温度条件で行うことによって前記基板１上にシリコン薄膜を形成するステップと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

Copper deposition is electrodeposited by immersing a substrate into an electrodeposition bath having a copper ion concentration between 0.5 mmol l^-1 and 50 mmol l^-1 and an acid concentration between 0.05% and 10% per volume of the electrodeposition bath.例文帳に追加

０．５ｍｍｏｌ・ｌ^−１と５０ｍｍｏｌ・ｌ^−１との間に含まれる銅イオン濃度と、電着浴の体積あたり０．０５％と１０％との間に含まれる酸濃度とを有する電着浴中に基板を浸責し、銅の堆積物を電着する。 - 特許庁

To provide an arc ion plating apparatus and a film deposition method, which can reduce the change of smoothness of the surface of a thin film and the change of residual stress of a thin film, which occur with the consumption of an evaporation source, and can improve the utilization efficiency of the evaporation source.例文帳に追加

蒸発源の消耗に伴って変化する薄膜表面の平滑性や薄膜の残留応力の変化を低減でき、蒸発源の利用効率を向上させることができるアークイオンプレーティング装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide an arc ion plating apparatus and a film deposition method, which can reduce the change of smoothness of the surface of a thin film and the change of residual stress of a thin film, which occur with the consumption of an evaporation source, and can improve the utilization efficiency of the evaporation source.例文帳に追加

蒸発源の消耗に伴って変化する薄膜表面の平滑性や薄膜の残留応力の変化を低減でき、蒸発源の利用効率を向上させることができるアークイオンプレーティング装置及び成膜方法を提供する。 - 特許庁

The magnetic recording medium has such constitution that a magnetic layer having a ferromagnetic metal thin film is formed at a main plane of a non-magnetic supporter of long-length, and a protective layer containing carbon formed by chemical vapor deposition utilizing an ion source including a hollow cathode is formed on this magnetic layer.例文帳に追加

長尺状の非磁性支持体の一主面に強磁性金属薄膜を有する磁性層を形成し、この磁性層上に、ホローカソードを含むイオン源を利用する化学気相成長法により炭素を含有する保護層を形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the laminate having an inorganic oxide layer on one surface or both surfaces of a polymer film includes a film deposition process for depositing the inorganic oxide layer and a treating process for performing a plasma treatment by RIE (Reactive Ion Etching) and is characterized by simultaneously performing the film deposition process and the treating process.例文帳に追加

本発明の積層体の製造方法及び製造装置は、高分子フィルムの片面もしくは両面上に、無機酸化物層を有する積層体の製造方法において、少なくとも、前記無機酸化物層を成膜する成膜工程と、ＲＩＥ（リアクティブイオンエッチング）によるプラズマ処理を施す処理工程と、を有し、前記成膜工程と処理工程とが、同時に施されることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a correcting method by which a deposition layer where both an opening end part and a top end part are formed generates no thickness difference, top realize correction of white deface by which a local part does not become very fat and further to provide a correcting method by which a long beam-shaped body can be formed in correction of white defect in a silicon stencil by deposition using focusing ion beams.例文帳に追加

本発明の課題は、シリコンステンシルの白欠陥を集束イオンビームを用いたデポジションによって修正するものにおいて、開口端部も先端部も形成されるデポ層に厚さの差がでない修正方法を提供し、局部がむやみに厚くならない白欠陥を修正を実現すること、また、長い梁状体を形成できる修正方法を提供することにある。 - 特許庁

The transparent barrier film including a carbon deposition layer having a thickness of 0.5 to 10 nm at least on one face of the substrate comprising a plastic material and laminating an aluminium oxide layer having a thickness of 3 to 500 nm thereon, the transparent barrier film in which the carbon deposition face of the substrate is a treated face utilizing plasma of a reactive ion etching (RIE) mode, and its production method are provided.例文帳に追加

プラスチック材料からなる基材の少なくとも一方の面に、厚さ０．５〜１０ｎｍのカーボン蒸着層を有し、その上に厚さ３〜５００ｎｍの酸化アルミ層を積層した透明バリアフィルムや上記基材のカーボン蒸着面がリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）モードのプラズマを利用した処理済みの面である透明バリアフィルムおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A device for determining a deterioration of a lithium ion secondary battery includes a measuring section that measures open-circuit voltage characteristics of a lithium ion secondary battery against a capacity and a determination section that can set parameters for identifying the open-circuit voltage characteristics and determines a deterioration state by abrasion and lithium deposition using parameters for identifying open-circuit voltage characteristics that almost match those measured by the measuring section.例文帳に追加

リチウムイオン二次電池の容量対開放電圧特性を測定する測定部と開放電圧特性を特定するためのパラメータを設定可能であり、測定部によって測定された開放電圧特性と略一致する開放電圧特性を特定するパラメータを用いて摩耗およびリチウム析出による劣化状態を判定する判定部とを有する。 - 特許庁

To provide a plasma source device as a novel composite vapor deposition device usable for an ion source and a radical source, capable of forming a good quality thin film on a base board by selectively emitting only a radical of film forming species particularly at operation time as the radical source, usable in common to the ion source and the radical source, and capable of forming respective superior thin films.例文帳に追加

イオン源及びラジカル源に用いることができ、とくにラジカル源としての運用時には、成膜種のラジカルのみを選択的に放出して基板に良質の薄膜を形成し得るようにし、イオン源とラジカル源とに共用してそれぞれの良好な薄膜を形成することができる新規な複合型蒸着装置としてのプラズマ源装置を提供する。 - 特許庁

An ion source 11 injecting ions into a vacuum chamber 2 and a detector 12 detecting recoil atoms made to recoil by injection ions are communicated and mounted in the vacuum chamber 2 installed to the surface treatment apparatus for measuring the hydrogen concentration of a thin-film surface in the surface treatment apparatus (a film deposition device) by an elastic recoil- particle detecting method by a low-energy ion scattering spectral method.例文帳に追加

低エネルギーイオン散乱分光法による弾性反跳粒子検出法によって表面処理装置（成膜装置１）内の薄膜表面の水素濃度を測定するために、真空室２内にイオンを入射するイオン源１１と該入射イオンによって反跳される反跳原子を検出する検出器１２とを、表面処理装置が備える真空室２内に連通させて設ける。 - 特許庁

The method includes: preparation of aqueous solution containing ion of the non-noble metal element; addition of a reducing agent to the prepared aqueous solution; addition of ion compound consisting of the platinum group element after adding the reducing agent; and deposition of the alloy fine particles consisting of the platinum group element and the non-noble metal element in the aqueous solution.例文帳に追加

この方法は、上記非貴金属元素のイオンを含む水溶液を用意すること、上記用意した水溶液に還元剤を添加すること、上記還元剤を添加した後に上記白金族元素を構成元素とするイオン化合物を添加すること、および上記水溶液中に上記白金族元素と上記非貴金属元素とからなる合金微粒子を析出させること、を包含する。 - 特許庁

In the process for producing a thin film, a substrate 10 is irradiated with an ion beam while depositing a thin film on the substrate by electron beam deposition, and the crystal c-axis of the thin film formed on the substrate 10 is oriented in the in-plane direction of the substrate by setting a substantially right angle between the substrate 10 and the irradiation direction of the ion beam.例文帳に追加

本発明に係る薄膜製造方法は、電子ビーム蒸着法によって基板に薄膜を堆積させつつ基板１０に対してイオンビームを照射するとともに、基板１０とイオンビームの照射方向とのなす角度を略垂直とすることで、基板１０上に形成される薄膜の結晶ｃ軸を基板面内方向で一方向に配向させる。 - 特許庁