「ion irradiation」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The ion beam irradiation device is provided with the ion source for bringing out an ion beam, and a target drive device for moving the target 14 to a direction along a y-axis in an irradiation region of the ion beam brought out from the ion source.例文帳に追加

このイオンビーム照射装置は、イオンビームを引き出すイオン源と、それから引き出されたイオンビームの照射領域内でターゲット１４をｙ軸に沿う方向に移動させるターゲット駆動装置とを備えている。 - 特許庁

FILM REMOVING DEVICE OF BEAM IRRADIATION ELECTRODE IN ION SOURCE, ION SOURCE EQUIPPED WITH THIS, AND MEMBER FOR FILM REMOVING OF BEAM IRRADIATION ELECTRODE例文帳に追加

イオン源におけるビーム照射電極の被膜除去装置、これを備えたイオン源、及びビーム照射電極の被膜除去用部材 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR FILM DEPOSITION BY NEGATIVE ION IRRADIATION AND MULTI-SOURCE EVAPORATION例文帳に追加

負イオン照射・同時蒸着による膜形成方法とその装置 - 特許庁

To suppress charging of a substrate surface at ion beam irradiation.例文帳に追加

イオンビーム照射の際の基板表面の帯電をより小さく抑制する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING METAL MATRIX COMPOSITE MATERIAL WHICH WITHSTANDS HEATING BY IRRADIATION WITH ION例文帳に追加

イオン照射加熱に耐える金属マトリックス複合材の製造方法 - 特許庁

To provide an information display medium suitable for printing by ion irradiation.例文帳に追加

イオン照射による印字に適した情報表示媒体を提供する。 - 特許庁

This is the beam profile monitor 10 which has an irradiation face 10a opposing to an ion beam source and measures intensity distribution of an ion beam in an irradiation face.例文帳に追加

イオンビーム源に対向する照射面１０ａを有し照射面におけるイオンビームの強度分布を計測するビームプロファイルモニター１０。 - 特許庁

The analysis is carried out under the irradiation condition where a spattering yield comes to 1.0 atom/ion or more as O_2^+, using oxygen ion as a primary ion.例文帳に追加

一次イオンとして酸素イオンを用い、スパッタ収率が、Ｏ_2^+として１．０原子／イオン以上となる照射条件で分析を行なう。 - 特許庁

To provide an ion beam irradiation device which restrains the density of an ion beam from becoming uneven on a surface of a base plate even when the base plate is scanned in a state of slanted against ion beam irradiation direction.例文帳に追加

イオンビームの照射方向に対して傾斜した状態で基板を走査した場合であっても、イオンビームの濃度が基板の表面内において不均一となることを抑制する。 - 特許庁

An ion beam is introduced from the synchrotron 4 to the irradiation field forming device 13.例文帳に追加

イオンビームはシンクロトロン４から照射野形成装置１３に導かれる。 - 特許庁

MULTIVALENT ION IRRADIATION DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF FINE STRUCTURE USING IT例文帳に追加

多価イオン照射装置及びそれを用いた微細構造の製造方法 - 特許庁

It is preferable that the irradiation ion energy is 20 to 200 eV, and the irradiation ion amount is 1×10^13 to 1×10^16 ions/cm^2.例文帳に追加

照射イオンエネルギーが２０〜２００ｅＶであり、照射イオン量が１×１０^１３〜１×１０^１６ｉｏｎｓ／ｃｍ^２であることが好ましい。 - 特許庁

To provide ion beam irradiation equipment with which uniform alignment treatment is conducted in alignment treatment with ion beam irradiation.例文帳に追加

本発明の目的は、イオンビーム照射により配向処理をおこなう際に、均一な配向処理ができるイオンビーム照射装置を提供することにある。 - 特許庁

The recorder further comprises a surface potential sensor and ion irradiation is controlled by feeding surface potential of the recording head back to the ion irradiation unit.例文帳に追加

さらに、表面電位センサを備え、記録ヘッドの表面電位をイオン照射ユニットへフィードバックして、イオン照射量を制御するインクジェット記録装置。 - 特許庁

To provide an ion implanting device in which ion irradiation of both kinds of a single atom ion and a cluster molecule ion is made possible without decreasing utilization efficiency of the ions.例文帳に追加

イオンの利用効率を低下させること無く、単原子イオンとクラスタ分子イオンとの両方の種類のイオン照射を可能とするイオン注入装置を実現する。 - 特許庁

Further, a far infrared irradiation or minus ion irradiation can be combined in a structurally compact form.例文帳に追加

さらに、構造的にコンパクトな形で、遠赤外線照射やマイナスイオン照射を併用することを可能とする。 - 特許庁

It is possible to obtain excellent processing characteristics and uniformity in both processes of ion irradiation and radical irradiation.例文帳に追加

イオン照射及びラジカル照射の両方の工程で良好な処理特性及び均一性を得ることができる。 - 特許庁

Pulsing primary ion is irradiated from the primary ion irradiation device 12 toward the surface of the metal sample 17.例文帳に追加

一次イオン照射装置１２から金属試料１７の表面に向けてパルス状の一次イオンが照射される。 - 特許庁

Acceleration voltage of the ion beam when irradiation with the ion beam is performed in the milling step is in the range of 400 to 1,400 V.例文帳に追加

ミリング工程におけるイオンビームを照射する際のイオンビームの加速電圧は、４００〜１４００Ｖである。 - 特許庁

The ion irradiation part 300 irradiates an ion generated from an ion source 320 different from the plasma 700 to an outer peripheral part of the target 200.例文帳に追加

また、イオン照射部３００は、プラズマ７００と異なるイオン源３２０から発生したイオンをターゲット２００の外周部に対して照射する。 - 特許庁

In the device for processing a sample 2 by generating an ion beam 1, this plate for detecting an irradiation point of the ion beam 1 by irradiating it with the ion beam 1 is composed by using a material allowing the irradiation point of the ion beam 1 to be discriminated from its circumferential part without emitting gas by the ion beam irradiation.例文帳に追加

イオンビーム１を発生させて試料２を加工する装置において、イオンビーム１を照射してイオンビーム１の照射点を検出するための板であって、イオンビーム１の照射点と周囲の部位との区別がつくような材料であって、且つイオンビーム照射によりガス放出がない材料を用いて構成される。 - 特許庁

The present invention controls a substrate rotation mechanism 70 after one round trip of ion beam irradiation processing, inputs a substrate 2 into an ion beam irradiation device 100 again after rotating the substrate by 180 degrees, and irradiates a range where ion beam irradiation processing has not yet been completed with ion beams to irradiate the whole surface of the substrate with ion beams.例文帳に追加

イオンビーム照射処理を１往復行った後、基板回転機構７０を制御し、基板２を１８０度回転させた後、イオンビーム照射装置１００に再投入し、イオンビーム照射処理未完了の範囲をイオンビーム照射し、基板の全面にイオンビーム照射させることを特徴としたイオンビーム照射方法。 - 特許庁

The carbon nanotube 3 is heated during or after the irradiation of gallium ion beam.例文帳に追加

ガリウムイオンビームの照射中あるいは照射後に、カーボンナノチューブ３を加熱する。 - 特許庁

Irradiation from an alpha source or ion implantation techniques may be used.例文帳に追加

アルファ源からの照射またはイオン注入技術を使用することができる。 - 特許庁

OPTICAL HYDROGEN SENSING MATERIAL USING ION IRRADIATION AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

イオン照射を用いた光学式水素検出材料及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR CREATING MUTANT OF CYCLAMEN PLANT BY IRRADIATION OF HEAVY ION BEAM例文帳に追加

重イオンビーム照射によるシクラメン植物の突然変異株の作出方法 - 特許庁

Light irradiation mechanisms 51, 52 are provided at the second area for dissociating ion.例文帳に追加

第二の領域にイオンを解離するための光照射機構５１，５２を設ける。 - 特許庁

Alternately, an ion irradiation process is executed after the last divided implantation process.例文帳に追加

または、最後の分割注入過程の後にイオン照射工程が実行される。 - 特許庁

Air blowing to the processing object at the time of the ion irradiation is preferable.例文帳に追加

イオンの照射と共に、処理対象物にエアーを吹き付けるのが好ましい。 - 特許庁

To provide an ion beam irradiation method for applying favorable uniform ion beam irradiation to the whole surface of a large substrate while reducing the size of a device and eliminating the need for a divided zone to exist on the substrate, and to provide the ion beam irradiation device.例文帳に追加

大型の基板に対してもその全面に均一性良くイオンビーム照射を行うことができ、かつ装置をコンパクトなものにすることができ、しかも基板が分割帯を有していなくても良いイオンビーム照射方法および装置を提供する。 - 特許庁

The ion beam irradiation device includes ion sources 2a, 2b, analysis electromagnets 6a, 6b, and a substrate driving device 14.例文帳に追加

このイオンビーム照射装置は、イオン源２ａ、２ｂ、分析電磁石６ａ、６ｂおよび基板駆動装置１４を備えている。 - 特許庁

A dose Faraday 1 is installed outside a path of an ion beam 6 applied toward a wafer 4 of an ion irradiation object, and measures a beam current of the ion beam 6 during ion implantation treatment into the wafer 4.例文帳に追加

ドーズファラデー1は、イオン照射対象物のウェハ4に照射するイオンビーム6の軌道外に設けられ、ウェハ4へのイオン注入処理中のイオンビーム6のビーム電流を測定する。 - 特許庁

With this, the filament is not affected by ion impact from the electron beam irradiation area.例文帳に追加

これにより，フィラメントは電子ビーム照射領域からのイオン衝撃を受けない。 - 特許庁

To provide an ion beam irradiation device and an ion beam irradiation method which can remove an entire damaged layer while suppressing loss of a sample other than the damaged layer.例文帳に追加

ダメージ層以外の試料の消失を抑制してダメージ層を全て除去することができるイオンビーム照射装置およびイオンビーム照射方法を提供する。 - 特許庁

The precleaning process may be conducted with plasma process, soft X-ray irradiation process, ultraviolet irradiation process, and ion-including liquid process, or the like.例文帳に追加

除電処理は、プラズマ処理、軟Ｘ線照射処理、紫外線照射処理、イオン含有液処理等により行うことができる。 - 特許庁

Accordingly, irradiation with hydrogen ions can be performed positively by an ion-doping method.例文帳に追加

したがって、水素イオンの照射をイオンドーピング法で積極的に行うことができる。 - 特許庁

METHOD FOR GENERATING LIGHT ELEMENT CHARACTERISTIC X RAY FROM INSULATOR BY LOW ENERGY ION IRRADIATION例文帳に追加

低エネルギーイオン照射による絶縁体からの軽元素特性Ｘ線発生方法 - 特許庁

The resist pattern 5 is cured by a plasma irradiation or the ion injection method, and this mold 1 is obtained.例文帳に追加

レジストパターン５をプラズマ照射またはイオン注入法により硬化し、モールド１を得る。 - 特許庁

An ion beam irradiation system 1 and a gas inlet mechanism 21 are attached to an irradiated material chamber 2.例文帳に追加

被照射物チャンバー２にイオンビーム照射系１と、ガス導入機構２１を取り付ける。 - 特許庁

To provide an ion beam processing method capable of preventing damage on a cross section by heat in cross section processing by irradiation of an ion beam.例文帳に追加

イオンビームの照射による断面加工において，断面に熱によるダメージを与えないイオンビーム加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ion irradiation device capable of irradiating a sheet-shaped ion beam having large current and good uniformity on a target.例文帳に追加

大電流でしかも均一性の良いシート状のイオンビームをターゲットに照射することができるイオン照射装置を提供する。 - 特許庁

To improve precision, for example, in machining a workpiece and in analyzing a specimen using an ion beam, by accurately determining the irradiation position of the ion beam.例文帳に追加

イオンビームの照射位置を正確に求め、イオンビームによる加工時の加工精度、試料の分析の精度等を向上させる。 - 特許庁

The laser irradiation may be either in an atmosphere or under a vacuum, but when the laser irradiation is carried out in an atmosphere, the substrate is carried in a vacuum tank for the ion beam irradiation.例文帳に追加

レーザ照射は大気中及び真空中のいずれでも良いが、大気中でレーザ照射した場合は、イオンビームを照射するために、基板を真空槽内に搬送する。 - 特許庁

To provide a liquid metal ion source, capable of improving the stability of an emission current value for ion beams, to provide a method of manufacturing the liquid metal ion source, and to provide an ion beam irradiation device with the liquid metal ion source.例文帳に追加

イオンビームの放出電流値の安定性を向上させることの可能な液体金属イオン源、該液体金属イオン源を製造する方法、及び該液体金属イオン源を備えるイオンビーム照射装置を提供する。 - 特許庁

To provide an ion beam irradiation device capable of realizing various ion beam irradiation characteristics and suppressing increase in the device size, deterioration of through-put, and adhesion of particles on a substrate.例文帳に追加

多様なイオンビーム照射特性を実現することができ、しかも装置の大型化、スループットの低下および基板へのパーティクル付着を抑えることができるイオンビーム照射装置を提供する。 - 特許庁