「ion irradiation」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

In this manufacturing method for the micro space structure bio-nano tool, a beam irradiation position and an irradiation time are determined based on three-dimensional model data designed by using a computer and the front end of a glass capillary is cut by a focused ion beam.例文帳に追加

微小立体構造バイオナノツールの製造方法において、電子計算機を利用して設計した微小立体構造物の三次元モデルデータに基づき、ビームの照射位置、照射時間を決定し、集束イオンビームによりガラスキャピラリーの先端部の切断加工を行う。 - 特許庁

When the n-side electrode is provided on the n-type conductive substrate, first of all, the n-type conductive substrate is irradiated with plasma in an atmosphere of a chlorine-based compound gas containing Si to form an ion irradiation layer on the n-type conductive substrate (an irradiation step, a step S52).例文帳に追加

ｎ側電極をｎ型導電性基板上に設けるときには、まず、ｎ型導電性基板にＳｉを含む塩素系化合物ガスの雰囲気中でプラズマ照射してｎ型導電性基板にイオン照射層を形成する（照射工程、ステップＳ５２）。 - 特許庁

The soft X-ray ionizer having an ion balance control function consists of soft X-ray irradiation equipment 1 and an electrode 2 for bias impression, which is arranged between the soft X-ray irradiation equipment 1 and a destaticized substance 5, in a soft X-ray irradiation domain, and is constituted so that plus ions or minus ions may be attracted by impressing bias voltage to the electrode 2 for bias impression.例文帳に追加

軟Ｘ線照射装置１と、軟Ｘ線照射領域内であって軟Ｘ線照射装置１と被除電物５との間に配置されるバイアス印加用電極２とを備え、バイアス印加用電極２にバイアス電圧を印加してプラスイオンまたはマイナスイオンを吸引させるイオンバランス制御機能付軟Ｘ線式イオナイザとした。 - 特許庁

To execute ion beam machining by allowing a reference object to be always recognized in process of the machining to carry out accurate drift correction even when a minute hole or a minute pattern is used as the reference object in correcting the drift of an irradiation position of an ion beam using the reference object.例文帳に追加

参照対象を用いてイオンビームの照射位置のドリフトを補正する際に、参照対象として微細穴や微細パターンを用いた場合でも、加工途中で参照対象を常に認識できるようにし、高精度のドリフト補正をし、イオンビーム加工を行なう。 - 特許庁

A driving means 31, a driving means 32 and a driving means 33 by which the angle of irradiation of an ion beam emitted from an ion gun 23 is fixed and by which a stage 3 used to hold a sample 4 is moved along the vertical direction (Z-direction) and the horizontal direction (X-direction and Y-direction) are installed.例文帳に追加

イオン銃２３から照射されるイオンビームの照射角を固定するとともに、鉛直方向（Ｚ方向）および水平方向（ＸおよびＹ方向）に沿って、試料４を保持するステージ３を移動させる駆動手段３１、３２、３３を設ける。 - 特許庁

To provide a minus ion generator which appropriately controls the amount of generation of minus ion or the amount of irradiation generated from an exciting agent and, further, decreases the pressure loss caused by a mixture of powder having spontaneous polarization and the exciting agent.例文帳に追加

マイナスイオンの発生量または励起剤から発生する放射線量を適切に調節することが可能であり、さらには、自発分極を有する粉体と、励起剤との混合物に起因する圧力損失を小さくするマイナスイオン発生装置を提供する。 - 特許庁

The method of imparting anti-thrombotic properties to the surface of a polymeric material comprises ionizing a nitrogen and oxygen- containing compound having a decomposition temperature of ≥140°C by irradiation with an ion beam cluster to accelerate and bond it to the surface of a polymeric material.例文帳に追加

イオンビームクラスター照射法により、窒素および硫黄を含む分解温度１４０℃以上の化合物をイオン化して加速し、高分子材料表面に結合させる。 - 特許庁

Then, a beam irradiation angle θ when performing the ion milling of the magnetic material layer is determined according to the etching amount (shifting amount S) in the width direction of the hard mask and the side wall inclination α of the hard mask.例文帳に追加

そして、磁性材料層をイオンミリングする際のビーム照射角θを、ハードマスクの幅方向のエッチング量（シフト量Ｓ）と、ハードマスクの側壁傾斜角αとに応じて決定する。 - 特許庁

The gas ion irradiation uses either nitrogen gas alone or a gas mixture of nitrogen gas and at least one gas selected from the group consisting of helium, hydrogen, and B_2H_6.例文帳に追加

ガスイオン照射には、ヘリウム、水素、及びＢ_２Ｈ_６からなる群から選択される少なくとも１種のガスと窒素ガスの混合ガス、あるいは単独の窒素ガスのいずれかを使用する。 - 特許庁

To provide an ion beam irradiation device which utilizes a dividing band on a substrate and can improve a throughput without requiring a large-scaled device for driving a substrate.例文帳に追加

基板上の分割帯を利用する装置であって、基板駆動に大掛かりな装置を必要とせず、しかもスループットを向上させることができるイオンビーム照射装置を提供する。 - 特許庁

To provide a light-emitting apparatus in which a current plunging into a grid electrode is controlled and discharge near a cathode electrode by ion irradiation from a phosphor plate is controlled and a breakdown is made hard to occur.例文帳に追加

グリッド電極へ飛び込む電流を抑制するともに、蛍光板からのイオン照射によるカソード電極近傍の放電を抑制し、故障しにくい発光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in sensitivity, resolution, and moreover, a pattern profile and line edge roughness relating to pattern formation by irradiation of X-rays, electron beams or ion beams.例文帳に追加

Ｘ線、電子線又はイオンビームの照射によるパターン形成に関して、感度、解像力に優れ、更にはパターン形状、ラインエッジラフネスにも優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device capable of controlling an irradiation angle of a gas ion beam accurately and easily according to an arrangement state of a sliced specimen.例文帳に追加

薄片化試料の配置状況に応じて、正確かつ簡単に気体イオンビームの照射角度を制御することが可能な荷電粒子ビーム装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

Stable sex expression of the plant can be changed by irradiation of ion particles.例文帳に追加

本発明の発明者らは、イオン粒子-照射によりその安定な性発現が変化しうるかどうかを調べることにより、上記課題を解決できることを示し、本発明を完成するに至った。 - 特許庁

When ions produced from an ion source 13 are accelerated in an accelerating tube 17, the irradiation energy of ions is changed by controlling the electric field applied on the accelerating tube 17.例文帳に追加

イオン源１３で発生させたイオンを加速管１７で加速する際に、この加速管１７に印加する電界を制御することによってイオンの照射エネルギーを変化させる。 - 特許庁

This laser ablation mass spectrometer 1 of the present invention includes a sample stage 10, a laser irradiation part 20, a pneumatic conveying system 30, an ion source 40 and an analytical part 50.例文帳に追加

本発明にかかるレーザーアブレーション質量分析装置１は、試料ステージ１０と、レーザー照射部２０と、気流搬送系３０と、イオン源４０と、分析部５０とを備えている。 - 特許庁

To provide an ion synchrotron capable of easily controlling energy change of an irradiation beam required in a particle beam medical treatment device, and capable of suppressing a device cost and upsizing of the device.例文帳に追加

粒子線治療装置で要求される照射ビームのエネルギーの変更制御が容易でありかつ、装置コストおよび装置の大型化を抑えられるイオンシンクロトロンを提供する。 - 特許庁

To provide an X-ray tube capable of uniformizing temperature distribution of a coil-like filament in a length direction and prolonging its life by preventing it from ion impact from an electron beam irradiation area.例文帳に追加

コイル状のフィラメントの長手方向の温度分布を均一にできて，かつ，フィラメントが電子ビーム照射領域からのイオン衝撃を受けないようにして，フィラメントの寿命を長くする。 - 特許庁

The polymer electrolyte membrane containing an ion conductive polymer and a photo-irradiation product of a photo-acid generator, the manufacturing method of the polymer electrolyte membrane, and the fuel cell are provided.例文帳に追加

本発明によれば、イオン伝導性高分子と、光酸発生剤の光照射生成物とを含む高分子電解質膜とその製造方法および燃料電池が提供される。 - 特許庁

This electrification suppressing device 30 suppresses the electrification of the wafer when treating the wafer by irradiation by scanning the ion beam back and forth over a specific range.例文帳に追加

本帯電抑制装置３０は、イオンビームを特定範囲にわたって往復スキャンさせながらウエハに照射して処理を行うに際し、ウエハへの帯電を抑制するためのものである。 - 特許庁

To improve a throughput and avoid problems caused by a mechanical shutter, in an apparatus and a method for forming a compound thin-film, by keeping an ion-beam irradiation time constant.例文帳に追加

化合物薄膜成膜装置及び化合物薄膜成膜方法に関し、イオンビーム照射時間を一定にしてスループットを向上するとともに、機械的シャッターに起因する問題を回避する。 - 特許庁

Next, after the mask member is removed, the other impurity area is formed by implanting an impurity into the semiconductor by performing ion irradiation with the gate part as a mask.例文帳に追加

次に、前記マスク材を除去した後、前記ゲート部をマスクとして、イオン照射を行うことによって不純物を前記半導体に注入して、他方の不純物領域を形成する。 - 特許庁

To provide a lithium-ion secondary battery enabled to detect bubbles existing between electrodes in high accuracy by X-ray irradiation, as well as a battery pack equipped with the same and a vehicle.例文帳に追加

電極間に存在する気泡をＸ線照射により高精度で検出することを可能とするリチウムイオン二次電池、および、これを有する組電池および車両を提供する。 - 特許庁

One impurity area is formed by implanting an impurity into a semiconductor by performing ion irradiation with a gate part formed on the semiconductor and a mask member as a mask.例文帳に追加

半導体上に形成されたゲート部およびマスク材をマスクとして、イオン照射を行うことによって不純物を前記半導体に注入して、一方の不純物領域を形成する。 - 特許庁

To provide a photocatalyst capable of removing a heavy metal ion present in a liquid by precipitating it as a heavy metal by efficiently reducing it by light irradiation at a low cost without requiring a precious metal such as platinum, and a method for removing a heavy metal ion from a liquid containing the heavy metal ion using the photocatalyst.例文帳に追加

白金等の貴金属を必要とせずに低コストでかつ効率よく、液中に存在する重金属イオンを光照射により還元し重金属として析出させることによって除去することのできる光触媒、並びに該光触媒を使用して重金属イオンを含有する液体から重金属イオンを除去する方法を提供する。 - 特許庁

On the ion irradiation device, a plasma 12 is generated by arranging a cathode 18 extended in an X-direction in a plasma generation container 8 of an ion source 2 drawing out the sheet-shaped ion beam widely spread in the X-direction, and by releasing thermion 19 by heating the cathode with an electron beam 38 scanned in the X-direction from an electron beam source 30.例文帳に追加

このイオン照射装置では、Ｘ方向に幅広のシート状のイオンビーム４を引き出すイオン源２のプラズマ生成容器８内に、Ｘ方向に伸びているカソード１８を設け、それを電子ビーム源３０からのＸ方向に走査される電子ビーム３８によって加熱して熱電子１９を放出させて、プラズマ１２を生成する。 - 特許庁

Cleaning by ion beam irradiation is performed to eliminate conductive smear after grinding a row bar or a floating plane of a magnetic head slider 10, oxygen exposure is performed to recover a damage region 14a formed at an end plane of an intermediate layer 14 of a magneto-resistance effect film 5 by ion beam irradiation , after that, floating plane protection films 7, 8 are formed, successively, rail processing is performed.例文帳に追加

ローバー５０あるいは磁気ヘッドスライダ１０の浮上面機械研磨後に、導電性スメアを除去するためにイオンビーム照射によるクリーニングを行い、イオンビーム照射により磁気抵抗効果膜５の中間層１４の端面に形成されている損傷領域１４ａを回復させるために酸素曝露を行い、この後、浮上面保護膜７，８を形成し、続いてレール加工を行う。 - 特許庁

In the manufacturing method of a magnetic material thin film, the magnetic material thin film is deposited to be a specimen 3, and then the specimen 3 is irradiated with an ion beam 2 at a current density in a value range at which a perpendicular magnetic anisotropy coefficient value becomes positive by the irradiation of the ion beam 2.例文帳に追加

磁性材料薄膜の製造方法は、磁性材料薄膜を成膜した後、それを試料３として、垂直磁気異方性定数の値がイオンビーム２の照射によって正となるような数値範囲の電流密度でイオンビーム２を試料３に照射する。 - 特許庁

In this configuration, the suitable driving voltage can be applied to the display layer 2 with an irradiation electric charge amount by which an existent ion flow recording head 21 is less loaded, and display information can sharply be written without shortening a life of the ion flow recording head 21 or of the information display medium 1.例文帳に追加

かかる構成によれば、既存のイオンフロー記録ヘッド２１に負荷の少ない照射電荷量で、表示層２に適正な駆動電圧を印加可能となり、イオンフロー記録ヘッド２１や情報表示媒体１の寿命を縮めることなく、表示情報を鮮明に書き込むことができる。 - 特許庁

This charged particle beam irradiation system stops the supply of ion beams to an angle domain reaching a target dose out of a plurality of angle domains formed by dividing RMW (Range Modulation Wheel) in the rotating direction, and supplies the ion beams to another angle domain non-reaching the target dose.例文帳に追加

ＲＭＷを回転方向において分割して形成される複数の角度領域のうち目標線量に達した角度領域へのイオンビームの供給を停止しその目標線量に到達していない他の角度領域にイオンビームを供給することにある。 - 特許庁

The porous coordinated polymer compound is a coordinated polymer compound in which a metal ion and an organic compound (a ligand) coordinative with the metal ion constitute a repeating unit, and which can generate an electron-deficient species in a pore by the irradiation with light.例文帳に追加

金属イオンと該金属イオンに配位可能な有機化合物（配位子）とが繰り返し単位を構成するた配位高分子化合物であって、光照射することにより細孔内に電子欠損種を発生させることが可能であることを特徴とする多孔性配位高分子化合物。 - 特許庁

This method can easily adjust the exposure radiation dose to each position inside a patient in the ion beam advancing direction to greatly reduce the probability of the erroneous irradiation causing excess/deficiency of the exposure radiation dose in each position in the ion advancing direction in the patient.例文帳に追加

このため、患部内のイオンビーム進行方向における各位置に対する照射線量を容易に調節することができ、患部内のイオン進行方向における各位置において照射線量の過不足が生じる誤照射の確率を著しく低減することができる。 - 特許庁

The method of generating high speed ion comprises a process of converging a laser by 10^15 W/cm^2 or higher on a low-density conductive first target having an effective thickness of 0.3 mm or thinner, and emitting the high speed ion from a back side of the laser irradiation part of the first target.例文帳に追加

有効な厚みが０．３ｍｍ以下である低密度導電性第一ターゲットにレーザーを１０^１５Ｗ／ｃｍ^２以上に集光し、該第一ターゲットのレーザー照射部の裏側から高速イオンを放出させる工程を含む、高速イオンの発生方法を提供する。 - 特許庁

By enabling the irradiation of different type ion beams generated by first and second ion sources 11, 12, a process irradiating a silicon wafer 10 with a polyatomic molecule ion beam for removing a surface oxide film and a process irradiating the silicon wafer 10 with an ion beam of the implanted ions for implanting ions are continuously carried out to the silicon wafer 10 attached to a platen in a chamber 18 without breaking a vacuum atmosphere during them.例文帳に追加

第１および第２のイオン源１１・１２で生成される、異なる種類のイオンビームの照射を可能とすることで、多原子分子のイオンビームをシリコンウェーハ１０に照射して表面の酸化膜を除去する工程と、注入イオンのイオンビームをシリコンウェーハ１０に照射してイオンを注入する工程とを、チャンバ１８内のプラテンに装着されたシリコンウェーハ１０に対し、その間の真空雰囲気を破ること無く連続して行う。 - 特許庁

To provide a substrate for a magnetic head, consisting of silicon carbide of which precise workability can be stably obtained at 20-250°C temperature range in the working utilizing ion irradiation and to provide a magnetic head slider using the same.例文帳に追加

イオン照射を用いる加工において、２０〜２５０℃の温度範囲において安定した精密加工性が得られる炭化珪素からなる磁気ヘッド用基板及びこれを用いた磁気ヘッドスライダを提供する。 - 特許庁

To provide a device for generating a large amount of electrons of low energy, reducing the charge-up of a base in accompany with the irradiation of ion beam, and free from the vacuum down of a beam line and the like.例文帳に追加

低エネルギーの電子を大量に発生させて、イオンビーム照射に伴う基板のチャージアップを小さく抑えることができ、しかもビームライン等の真空度悪化を惹き起こすことのない装置を提供する。 - 特許庁

To provide a transistor substrate for a liquid crystal display device preventing damage of a gate electrode when carrying out ion implantation in source/drain are of an active layer, and carrying out activation by irradiation of a laser beam.例文帳に追加

アクティブ層のソース／ドレイン領域にイオン注入を行い、レーザビームの照射による活性化を行う際に、ゲート電極の損傷を防止する液晶表示装置用トランジスタ基板を提供する。 - 特許庁

The comparatively smooth surface of the intermediate layer (IL) so obtained is denaturalized by irradiation with ion, such as sputter etching in an argon ambient atmosphere, to form surface roughness in a nano-scale and to grow the recording layer (RL) on it.例文帳に追加

そのようにして得られた比較的平滑な中間層(IL)の表面をアルゴン雰囲気中でのスパッタエッチング等のイオン照射により変性し、ナノスケールの粗さとし、その上に記録層(RL)を成長させる。 - 特許庁

This TEM FIB sample of a solid material is made very thin by irradiation of a sample surface alternately on its both sides with an ion beam in a step of a post-treatment, without being contaminated and destructed.例文帳に追加

固体材料のＴＥＭ ＦＩＢ試料は、汚染および破壊されることなく、後続処理のステップのイオンビームを用いた試料表面の交互の側での打込みによって、非常に薄くされる。 - 特許庁

The introduction of gaseous iodine into the device through a valve 13 is made possible, and the conditions under which the transmittance of a processing region is high, and an etching rate is low are selected for the irradiation conditions of an ion beam 2 under a gaseous iodine atmosphere.例文帳に追加

沃素ガスをバルブ13を介して装置内に導入できるようにし、沃素ガス雰囲気下で、イオンビーム2の照射条件を加工領域の透過率が高く、エッチレートも低くくなる条件を選ぶ。 - 特許庁

The static eliminating transport device is provided with a transportation robot 2 which holds and transports a charged glass substrate M, and a soft X-ray irradiation unit 3 which neutralizes charged electricity on the glass substrate M by air ion for electrostatic elimination.例文帳に追加

帯電したガラス基板Ｍを保持して搬送する搬送ロボット２と、ガラス基板Ｍに帯電した電気を空気イオンによって中和して除電する軟Ｘ線照射器３とを備える。 - 特許庁

To provide a production process of a separator for a lithium ion secondary battery in which internal short circuit caused by shrinkage of a separator during storage at a high temperature is prevented by using a separator subjected to an electron ray irradiation treatment.例文帳に追加

電子線照射処理を行ったセパレータを使用することにより、高温保存時にセパレータの収縮による内部短絡を防止するリチウムイオン二次電池用セパレータの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dense silicon carbide sintered compact having high surface smoothness after surface processing by mechanical working such as grinding or ion irradiation, small quantity of metallic impurities and non- magnetism.例文帳に追加

緻密質であって、研磨等の機械加工やイオン照射による表面加工後の表面平滑性が高く、金属不純物が少なく、しかも非磁性の炭化珪素質焼結体を提供する。 - 特許庁

Furthermore, the position of the functional connection is further thinned, and simultaneously at least one of ion irradiation for local heating and high frequency electric field application for high-frequency heating is carried out.例文帳に追加

さらに、機能的結合個所に、更なる薄片化を行うと同時に局所加熱を行うイオン照射と局所的に高周波加熱を行う高周波電界印加との少なくとも一方を行なう。 - 特許庁

Ultraviolet light with a wavelength about 363.8 nm emitted from an argon ion laser 10 is condensed on a wafer of a measuring object test piece 60 through a condensing irradiation mechanism 40 and the like.例文帳に追加

アルゴンイオンレーザ１０から発せられる波長約３６３．８ｎｍの紫外光を集光照射機構４０等を介して測定対象試料６０であるシリコンウェーハ上に集光させる。 - 特許庁