「irradiation position」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a laser welding method capable of adequately preventing deterioration of welding quality caused by positional deviation of a laser irradiation position and reducing work delay and work cost caused by countermeasures against the positional deviation in laser welding of oppositely arranged welding members.例文帳に追加

向かい合わせて配置された溶接部材のレーザー溶接に際し、レーザーの照射位置の位置ずれに伴って生じ得る溶接品質の低下を好適に防止するとともに、位置ずれ防止対策に伴う作業遅延、および作業コストを低減し得るレーザー溶接方法を提供する。 - 特許庁

The distance to the article existing in the observation area is measured with principle of triangulation based on the irradiation direction of each dot pattern light on the picked-up image of the camera 20, the picking-up direction of each dot pattern light, and the relative position relation between the projector 10 and the camera 20.例文帳に追加

そして、カメラ２０の撮像画像上の各ドットパタン光の照射方向と、各ドットパタン光の撮像方向と、投光器１０とカメラ２０との相対位置関係とに基づいて、三角測量の原理により、観測領域に存在する物体までの距離を計測する。 - 特許庁

To provide an X-ray positioning device adapted to determine the X-ray irradiation direction and a radiation field by simulation prior to X-ray treatment, improving the work efficiency by simply forming a mark for visually confirming the range and position of a diseased part on a subject.例文帳に追加

Ｘ線治療に先立ってＸ線の照射方向や照射野をシミュレーションして決定するＸ線位置決め装置に関し、被検体上に患部の範囲及び位置を視認できるマークを簡便に形成できるようにして作業効率を向上させる技術を提供する。 - 特許庁

The illumination lamp including a light-emitting part that has a light emitter including a plurality of LEDs or organic ELs, and constituting the suction pad in which a suction position and light irradiation angle are variable, can be mounted by being sucked on a flat spot such as a glass or a window pane inside or outside of a vehicle.例文帳に追加

本発明は、複数のＬＥＤまたは有機ＥＬを発光体とする発光部に、吸着位置及び投光角度可変可能な吸着パッドを構成した照明灯を、自動車内外のガラスや窓ガラスなどの平らな場所に吸着させることによって、取り付けるもである。 - 特許庁

To provide a stroboscopic device where a stroboscopic discharge tube can surely emit light as an irradiation angle switching type stroboscopic device where a stroboscopic light emitting part is moved back and forth by arranging an acrylic plate at the position of the stroboscopic light emitting part corresponding to the front of a reflector.例文帳に追加

本発明は、ストロボ発光部の反射傘の前方に対応する位置にアクリル板を配置することによって、ストロボ発光部が前後移動する照射角切換式のストロボ装置において、ストロボ放電管を確実に発光させることができるストロボ装置を提供する。 - 特許庁

The recording medium which is formed with the hologram recording layer for recording the hologram information by irradiation with reference light and signal light is characterized in that at least one layer of the magnetic recording layer including ferromagnetic powder and a binder is arranged on a hierarchical position different from the hologram recording layer.例文帳に追加

参照光と信号光を照射してホログラム情報を記録するホログラム記録層を有する記録媒体であって、前記ホログラム記録層とは異なる階層位置に強磁性体粉末と結合剤を含む磁気記録層を少なくとも１層有することを特徴とする記録媒体。 - 特許庁

On a shift position display plate 10, a paint layer 18 for light shielding and a paint layer 20 for design are partly removed by the irradiation with the laser light and then a portion of a paint layer 16 for display formed by mixing paints of the three primary colors of colors is exposed to form the display portion 22.例文帳に追加

シフト位置表示板１０では、レーザー光の照射により遮光用塗料層１８及び意匠用塗料層２０の一部が除去され、色の３原色の塗料が混ぜ合わされて作られた表示用塗料層１６の一部が露出することで表示部２２が形成されたものである。 - 特許庁

When forming a via hole in the insulating layer or the like in the succeeding process, a corresponding alignment mark among the plurality of alignment marks is detected by the light made to pass through the openings by using the light irradiation member, and positioning is performed with the detected mark as a position reference.例文帳に追加

以降の工程において絶縁層にビアホールの形成等を行う際に、上記の光照射用部材を用いて上記の開口部を通過させた光により、上記の複数のアライメントマークのうち対応するアライメントマークを検出し、検出したマークを位置基準として位置合わせを行う。 - 特許庁

Since the irradiation of the observation object with the deep ultraviolet light is stopped when the line width of the pattern provided at the prescribed position of the observation object attains the limiting value, the observation object is prevented from being damaged equal to or above the limiting value.例文帳に追加

本発明によれば、観察対象の所定の位置に設けられたパターンの線幅が所定の制限値に達した場合に、観察対象への深紫外光の照射を停止するので、観察対象が制限値以上に損傷を受けることを防止することができる。 - 特許庁

With the workpiece (paper) transported by a belt conveyor 13 and delivered to the stage 12, a prescribed number of rollers 21 are rotated in the transporting direction, placing the workpiece at a fixed position on the stage 12, so that a specified laser beam machining is performed using a laser irradiation means 15 in this system.例文帳に追加

ベルト搬送部１３で搬送されてきた被加工物（用紙）がステージ１２に搬入されてきたときに、所定数のローラ２１が搬送方向に回転することで当該ステージ１２上の所定位置に載置させ、レーザ照射手段１５で所定のレーザ加工を行わせる構成とする。 - 特許庁

A method and a device for determining a position to detect a charged particle by comparing a dyed optical microscopic image with an element mapping image formed based on a X-ray detected by irradiation of a charged particle beam are provided.例文帳に追加

本発明では、上記目的を達成するために、染色された光学顕微鏡像と、荷電粒子線の照射によって検出されるＸ線に基づいて形成される元素マッピング像を比較することによって、荷電粒子検出のための位置を決定する方法、及び装置を提供する。 - 特許庁

To specify the position of a fluorescent emitter which emits light and a gamma ray simultaneous generation position by converging fluorescence which a plurality of fluorescent emitters arranged around a plurality of hollow disks emit by irradiation with two gamma rays simultaneously generated at the time of positron extinguishment by optical fibers wound in two directions, and precisely measuring the generation time of the converged fluorescence.例文帳に追加

複数の中空円盤の周囲に配置された複数の蛍光発光体がポジトロン消滅時に同時発生する２個のガンマ線の照射によって発した蛍光を双方向に巻かれた光ファイバによって集光し、集光した蛍光の発生時刻を精密に測定することによって発光した蛍光発光体の位置とガンマ線同時生成位置を特定することが本発明の主要な課題である。 - 特許庁

There are provided illumination division optics 24 to divide illumination guided from a light source apparatus 15 and an irradiation range changing plate 30 to change a position and a range of illumination by opting for the illumination divided by the illumination division optics 24 according to the position of an imaging range and the variable power magnification selected by an imaging element transfer apparatus 9 and a zoom lens 8.例文帳に追加

光源装置１５から導光される照明光を分割する照明光分割光学系２４と、撮像素子移動機構９とズームレンズ８とによって選択された撮像範囲の位置と変倍倍率に応じて、照明光分割光学系２４で分割された照明光を選択することによって照明光の照明位置及びその範囲を可変する照射範囲変更板３０とを設けたものである。 - 特許庁

The stage 3 and the irradiation part 15 are arranged so that a virtual line connecting together in this order, the first point existing in an adjacent domain adjacent to the chamfered part, the second point existing in the chamfered part, and the third point existing on a position sandwiching the chamfered part with the first point in a top view, is faced to the optical axis of the laser light at every position.例文帳に追加

ステージ３および照射部１５は、面取り部に隣接する隣接領域内に存在する第１の点と、面取り部内に存在する第２の点と、隣接領域内に存在し、かつ平面的に見て第１の点とともに面取り部を挟む位置に存在する第３の点とをこの順序で結んだ仮想線が全ての位置においてレーザ光の光軸に対して対向するように配置されている。 - 特許庁

To provide an oblique-incidence fluorescent X-ray analyzer for automatically adjusting the irradiation position of the primary X rays from an X-ray source by the sample holder corresponding to a sample having every shape so that the intensity of the fluorescent X rays emitted from the sample becomes maximum and capable of always performing analysis with high sensitivity and high precision.例文帳に追加

種々の形状の試料に対応した試料ホルダにより、試料より発生する蛍光Ｘ線の強度が最大になるようにＸ線源からの一次Ｘ線の照射位置を自動調整し、常に短時間で高感度、高精度の分析が行える斜入射蛍光Ｘ線分析装置を提供する。 - 特許庁

To provide a stencil mask facilitating thickness reduction and stress adjustment, high in mechanical strength, excelling in electron beam irradiation resistance, suitable for providing a stencil mask for electron beam exposure, simple in a manufacturing process, and high in pattern position accuracy; a method of manufacturing the same; and a method of transferring a pattern for the same.例文帳に追加

薄膜化及び応力調整が容易であるとともに、機械的強度が高くかつ電子線照射耐性に優れた電子線露光用のステンシルマスクを得るために好適で、かつ製造プロセスが簡便かつパターン位置精度の高いステンシルマスク、その製造方法、およびそのパターン転写方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To enhance reliability and productivity of semiconductor devices by preventing anomalous electrostatic charging of a circuit pattern, and controlling electrostatic charge voltage to a desired value uniformly in an electron-beam irradiation region in a method of inspecting the position and the type of defect on a wafer having a circuit pattern using a charged-particle beam during a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

荷電粒子線を用いて、半導体製造工程途中の回路パターンを持つウエハ上の欠陥の位置や種類を検査する方法において、回路パターンの異常な帯電を防ぎ、電子線照射領域を均一に、所望の帯電電圧に制御し、半導体装置の信頼性および生産性を高める。 - 特許庁

Further, the disturbance of dropping liquid drop can be prevented during drawing image by only sensing the vicinity of the mark 12 to prevent the deterioration and degeneration of a substrate surface by light irradiation or the dropping liquid drop to detect reproductivity and precisely the position of the mark 12 on the substrate 3.例文帳に追加

さらに、マーク１２の近傍のみをセンシングすることによって、描画実行中に着弾液滴等による外乱を防止することが可能になり、光照射による基板表面あるいは着弾液滴の変質や劣化を防いで基板３上のマーク１２の位置を再現よく高精度に検出することが可能になる。 - 特許庁

The back projection type display device which projects irradiation light from a light source section on a Fresnel screen through a light valve includes a light measuring means provided at a position where reflected light from the Fresnel screen converges and a control means of controlling the light valve based upon the measurement result of the light measuring means.例文帳に追加

光源部からの照射光をライトバルブを介してフレネルスクリーンに投射する背面投射形表示装置において、フレネルスクリーンからの反射光が集光する位置に設けられた光測定手段と、光測定手段による測定結果に基づいてライトバルブを制御する制御手段とを備える。 - 特許庁

The inspection system 1 performs the control of emitting the light of a single wavelength from the main light source 11 at first intensity in a state that first bias light is emitted from the sub-light source 12 when performing the control of changing the position of the main light source 11 and the control of stopping the irradiation with the light of the single wavelength.例文帳に追加

検査装置１は、メイン光源１１の位置を変更する制御を行うと、第１バイアス光をサブ光源１２から照射させた状態で、単一波長の光をメイン光源１１から第１強度で照射させる制御と、当該単一波長光の照射を停止させる制御とを行う。 - 特許庁

To provide a method for analyzing secondary ion masses, capable of specifying an analyzing position, even with respect to a sample, where the hole formed by the irradiation with ion beam is difficult to be discriminated, because the optical surface reflectivity is low, by irradiating the surface of the sample with a laser beam through the route of a secondary ion optical system.例文帳に追加

二次イオン光学系の経路を通して試料表面にレーザを照射することにより、表面の光学的な反射率が低いため、イオンビームを照射して形成された穴が判別しにくい試料であっても分析位置を特定することができる二次イオン質量分析方法を提供する。 - 特許庁

A region whose electric characteristics in a sample are to be measured is set to be a blanking region, the number of direct irradiation of charged particles is set to one or none, and the current position of a probe tip is calculated from an image obtained in the past or an image at a peripheral region, thus bringing the probe into contact with a target location.例文帳に追加

試料の電気特性測定対象領域をブランキング領域とし、直接荷電粒子を照射する回数を１回ないし皆無にした上で、過去に得られた画像あるいは周辺領域の画像から探針先端の現在位置を演算することで探針を目的の場所に接触させる。 - 特許庁

An altered region 20 is formed by irradiation with laser light La focused on a condensing point F on a predetermined position between the reverse surface 3b and the p-type semiconductor regions 7 to be inside a depletion layer 19 spreading from the pn junction 11 between the semiconductor substrate 3 and p-type semiconductor region 7.例文帳に追加

改質領域２０は、裏面３ｂとｐ型半導体領域７との間の所定位置に集光点Ｆを合わせてレーザ光Ｌａを照射することによって形成されており、半導体基板３とｐ型半導体領域７とのｐｎ接合１１から広がる空乏層１９の内部に形成されている。 - 特許庁

When malfunction is caused in the shade driving actuator 44, an irradiation control part releases the engagement by the joint mechanism 46, and the light distribution pattern suitable for traveling is preferentially formed by preferentially rotating the rotary shade 38 to a prescribed light distribution forming position by a preferential rotary mechanism 48.例文帳に追加

そして、シェード駆動アクチュエータ４４に不具合が生じた場合には、照射制御部は、ジョイント機構４６による係合を解除して回転シェード３８を優先回転機構４８により所定の配光パターン形成位置に優先回転させて走行に適した配光パターンを優先的に形成する。 - 特許庁

To provide a method for removing a foreign matter in a color filter such that the foreign matter can be removed without problems even when the filter is irradiated with laser light at specified intensity regardless of the material or the like in the part where the foreign matter intrudes and that unnecessary holes due to the removal of the foreign matter can not be formed even when the irradiation position is misaligned.例文帳に追加

異物が混入している部位の材質等に関係なく、一律の強度でレーザ照射した場合でも不具合なく異物を除去することが可能であり、また照射位置がずれてしまった場合でも、不要な異物除去孔を形成することがないカラーフィルタ異物除去方法を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam drawing method for reducing the deviation amount of electronic beam irradiation, position on a substrate with respect to a second charged particle beam writing apparatus, when differing charged-particle beam writing apparatus perform writing processing with respect to the substrate, and to provide a charged-particle beam writing system.例文帳に追加

基板に対して異なる荷電粒子ビーム描画装置により描画処理を行う際、２番目の荷電粒子ビーム描画装置に対する基板上の電子ビーム照射位置ずれ量を小さくすることのできる荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置システムを提供する。 - 特許庁

The radiography of the subject 1 is performed a plurality of times while the direction or position of irradiation with the radiation to the subject 1 are changed, and image data representing the subject 1 are acquired based on radiation images obtained from the radiation detecting panel 10 for the subject and the radiation detecting panel 30 for the reference markers.例文帳に追加

被写体１に対する放射線の照射方向や照射位置を変更しつつこの被写体１の放射線撮影を複数回行なって、被写体用放射線検出パネル１０および基準マーカ用放射線検出パネル３０から得られる各放射線画像に基づいて被写体１を表す画像データを得る。 - 特許庁

According to such a structure, since adhesion of electrostatic charge to the pre-dosing area is enabled in the pre-dosing area, on the basis of an irradiation condition in which the differences in the electrostatic charges at each position can be restrained, the effect of an electric field on the electrons emitted from a charged particle beam or a sample can be restrained.例文帳に追加

上記構成によれば、予備照射領域内で、各位置の帯電の差異を抑制し得るような照射条件に基づいて、予備照射領域に対する帯電の付着が可能となるため、荷電粒子ビームや試料から放出される電子に対する電界の影響を抑制することが可能となる。 - 特許庁

When a laser irradiation unit is indexed and fed in the Y-coordinate direction to be positioned on the first splitting line 11 to be used as a processing object next, a positioning process indexes and feeds an indexing/feeding position determined by the distance between the first splitting lines 11 by being shifted by the displacement amount L21.例文帳に追加

そして、位置付け工程は、レーザー照射ユニットをＹ座標方向に割り出し送りして次に加工対象とする第１の分割予定ライン１１に位置付ける際に、第１の分割予定ライン１１間の距離によって定まる割り出し送り位置をズレ量Ｌ２１分ずらして割り出し送りする。 - 特許庁

It is not necessary for an observer, therefore, to look into the eyepiece 11 of the laser range finder 10 to irradiate laser while maintaining an eye point position, and the observer follows the flying body by operating the laser range finder 10 while looking at the monitor screen 31 of the video camera 30, resulting in easy laser irradiation operation while following the flying object.例文帳に追加

従って、観測者は、レーザー距離計１０の接眼レンズ１１をのぞき込み、アイポイント位置を保ちながらレーザーを照射する必要はなく、ビデオカメラ３０のモニタ画面３１を見ながら、レーザー距離計１０を操作して飛翔体を追尾でき、飛翔体を追尾しながらのレーザー照射作業が容易となる。 - 特許庁

Before radiographing, in order to confirm whether a radiographing overlapping region OL provided in the adjacent radiographing ranges in dividing the long-length radiographing range is set in the remarked portion of the subject M, a predetermined position of the radiographing overlapping region OL is irradiated by a laser line marker irradiation control means.例文帳に追加

そして、Ｘ線撮影前、長尺撮影範囲の分割の際に隣接する撮影範囲に設けられた撮影重複領域ＯＬが被検体Ｍの注目箇所に設定されていないかを確認するため、レーザラインマーカ照射制御手段によって、撮影重複領域ＯＬの所定の位置をレーザラインマーカ６ａで照射する。 - 特許庁

Further, when the lamp tool 1 is at the topmost position in the movable range as shown in Fig.1(b), a direction of the lamp tool 1 is reversed up and down to make the irradiation direction A1 downward, and therefore, an effect of direct illumination is obtained that the floor face or the like is illuminated by direct light irradiated from the light source LT1.例文帳に追加

また、図１（ｂ）に示すように灯具１が可動範囲の上限位置にあるときには、灯具１の向きが上下反転して照射方向Ａ１が下方向とされ、従って光源ＬＴ１から出射した直射光で床面等が照明されるという直接照明の効果が得られる。 - 特許庁

When the lamp tool 1 is at the lowest limit position in a movable range as shown in Fig.1(a), an irradiation direction A1 where light of the light source LT1 is irradiated is to be upward, and therefore, an effect of indirect illumination is obtained that a floor face or the like is illuminated by reflection light with light of the light source LT1 reflected at the ceiling CE.例文帳に追加

図１（ａ）に示すように灯具１が可動範囲の下限位置にあるときには、光源ＬＴ１の光が照射される照射方向Ａ１が上方向とされ、従って光源ＬＴ１の光が天井ＣＥで反射された反射光で床面等が照明されるという間接照明の効果が得られる。 - 特許庁

An optical sensor 1, including a microlens array 2 and detection elements 6 arranged at least one-dimensionally at a prescribed pitch, includes a light deflection element capable of displacing an irradiation position of light from each microlens constituting the microlens array 2 to the detection element 6 to a prescribed pitch direction.例文帳に追加

マイクロレンズアレイ２と、所定のピッチで少なくとも一次元に配置された検出素子６とを備える光学センサー１において、マイクロレンズアレイ２を構成するそれぞれのマイクロレンズからの光の検出素子６への照射位置を前記所定ピッチの方向に変位させることができる光偏向素子を有することを特徴とする。 - 特許庁

By irradiating a detection beam from an irradiation system 69A of a detection device PDY_1 to a scale 39Y_2 used for measuring a position of a wafer stage and detecting the detection beam via the scale 39Y_2 by a light receiving system 69B, a surface state (an existence state of foreign substance) of the scale is detected.例文帳に追加

ウエハステージの位置を計測するために用いられるスケール３９Ｙ_2に対して検出装置ＰＤＹ_1の照射系６９Ａからの検出ビームを照射し、スケール３９Ｙ_2を介した検出ビームを受光系６９Ｂで検出することにより、スケールの表面状態（異物の存在状態）を検出する。 - 特許庁

The optical sensor 10 irradiates the irradiation beam LBia, having a beam diameter ϕb which is smaller than the width Wt of the reed terminal 1t in the irradiating direction to a detection object tip position Ldet of each reed terminal 1t, detects the reflected beam LBr from each reed terminal 1t, and counts by using a counting part 20a.例文帳に追加

光センサ１０は、照射方向でのリード端子１ｔの幅Ｗｔ以下の光線径φｂを有する照射光線ＬＢｉａをリード端子１ｔの検出対象先端位置Ｌｄｅｔに照射してリード端子１ｔからの反射光線ＬＢｒを検出し、計数部２０ａで計数する。 - 特許庁

Even if the spot position shifts in opposite directions during access in recording and reproduction, it can be guaranteed that an irradiation spot of reproduction light is always positioned in a formation area of a mark, and a great delay of a time of access to a disk head (zone head) in reproduction which is conventionally caused is prevented from being generated.例文帳に追加

記録時と再生時のアクセス時とでスポット位置ずれの発生方向が逆となった場合にも、再生光の照射スポットが必ずマークの形成領域に位置することを保証することができ、従来生じていた再生時のディスク先頭（ゾーン先頭）へのアクセス時間の大幅な遅延の発生を防止できる。 - 特許庁

The position detecting device comprises an irradiating device 7 for irradiating ions B1 to the region where at least a mark is formed on the object W, a detector 8 for detecting energy information of a backscattered ions B2 generated by the irradiation of the ions B1, and a computing unit 9 for computing the positional information of the mark on the basis of the energy information detected.例文帳に追加

物体Ｗ上の少なくともマークが形成された領域に向けてイオンＢ１を照射する照射器７と、イオンＢ１の照射で発生した後方散乱イオンＢ２のエネルギ情報を検出する検出器８と、検出したエネルギ情報に基づいてマークの位置情報を演算する演算器９とを備える。 - 特許庁

In addition, a sample stage 2 for fixing the position of the shielding plate 5 and holding the sample 3 is moved in a two-dimensional plane, whereby scanning for moving the irradiation part 4 of the particle beam on the sample 3 is carried out, and thereby two-dimensional distributions of qualitative information and quantitative information in a predetermined range on the sample 3 can be acquired.例文帳に追加

さらに、この遮蔽板５の位置を固定し試料３を保持する試料ステージ２を二次元面内で移動させることにより、試料３上での粒子線の照射部位４を移動させる走査を行い、それにより試料３上の所定範囲の定性情報や定量情報の二次元分布を取得可能とする。 - 特許庁

To prevent a wearing or damage due to the contact with the coordinates input surface of a light emitting element for light spot irradiation of an indicating tool in an indicating tool for coordinates input while irradiating an optional position on an optical coordinates input device and its coordinates input surface with a light spot and inputting coordinates.例文帳に追加

光学式の座標入力装置、及びその座標入力面上の任意の位置に光スポットを照射して座標を入力するための座標入力用指示具において、指示具の光スポット照射用の発光素子の座標入力面との接触による摩耗ないし損傷を防止する。 - 特許庁

The photosensitive resin composition for forming a polyimide pattern on a substrate comprises (a) a polyamic acid, (b) a photobase generator which generates a secondary amine having at least one substituent in the α position upon irradiation with an actinic ray, and (c) a solvent.例文帳に追加

本発明の一態様における感光性樹脂組成物は、基体上にポリイミドのパターンを形成するための感光性樹脂組成物であって、（ａ）ポリアミド酸、（ｂ）活性光線の照射によりα位に少なくとも一つの置換基を有する２級アミンを発生する光塩基発生剤、（ｃ）溶媒を含有する。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin having a specified repeating unit derived from a vinyl ether having a fluorine atom or a fluoroalkyl group in the α-position and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）α位にフッ素原子又はフルオロアルキル基を有するビニルエーテルに由来する特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To improve a hole inspecting method for performing the irradiation of electron beams to an area on which almost the same number of holes are always formed even when positional relation between a sample on which holes to be measured are formed and the position of an electron beam to be applied to the sample is slightly shifted and capable of improving the stability/reliability of measurement.例文帳に追加

測定対称であるホールが形成された試料と、その試料に照射される電子ビームの位置関係が幾分ずれたとしても、常にほぼ同数のホールが形成された領域に電子ビームの照射を行なうことができ、測定の安定性・信頼度を向上させることができるホールの検査方法を実現する。 - 特許庁

To increase a light convergence efficiency in a variable irradiation angle flash light device by expanding and contracting an auxiliary reflecting mechanism as a reflector changes in relative position with a condenser lens by providing the freely expansible auxiliary reflecting mechanism constituted by combining a plurality of auxiliary reflecting members in a nesting style outside a reflector holding a flash light tube.例文帳に追加

照射角可変の閃光装置において、閃光管を保持する反射器の外側に、複数の補助反射部材が入れ子式に組み合わされて成る伸縮自在の補助反射機構を設け、集光レンズに対する反射器の相対位置の変化に伴い、補助反射機構を伸縮させて集光効率を高める。 - 特許庁

When a second trench G2 intersecting a first trench G1 first formed is formed by irradiation of laser beams along a second division planned line B, in a section d0 to d2 until a position immediately before the second division planned line B reaches the first trench G1, an output of laser beams La is a first output.例文帳に追加

第２の分割予定ラインＢに沿ってレーザ光線を照射して、先に形成した第１の溝Ｇ１に交差する第２の溝Ｇ２を形成するにあたり、第２の分割予定ラインＢが第１の溝Ｇ１に到達する直前の位置までのｄ０〜ｄ２の区間は、レーザ光線Ｌａの出力を第１の出力とする。 - 特許庁