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「irradiation position」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索
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irradiation positionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1502



例文

A method is disclosed for applying heat hardening to a roll in which periphery of core metal is coated with unvulcanized rubber, and the method is characterized in that a center of the rubber roll is installed in a position which is not in a direction of gravity of an infrared heater and heat hardening is carried out by infrared irradiation while the roll is rotated.例文帳に追加

芯金の周囲に未加硫状態のゴムを被覆させた状態のロールを加熱硬化させる方法において、前記ゴムロールの中心が、赤外線ヒータの重力方向にない位置に配置され、回転させた状態で赤外線照射し加熱硬化することを特徴とする導電ロールの製造方法である。 - 特許庁

The EO crystal voltage control unit 13 maintains the irradiation position on the photosensitive drum 7 irradiated with the luminous flux, by applying a prescribed voltage to the electro-optic crystal structure 4 based on the rotation number of the polygon mirror 5 during the time period in which an electrostatic latent image corresponding to one dot is formed on the photosensitive drum.例文帳に追加

EO結晶電圧制御部13は、1ドットに対応する静電潜像を感光体上に形成する時間内において、ポリゴンミラー5の回転数に応じた所定電圧を電気光学結晶構造体4に印加することにより、光束が照射される感光ドラム7上の照射位置を保持する。 - 特許庁

This sample body is provided with a masking layer 13 formed from such a material that chemical transformation occurs reversibly to produce an aperture 3 by the chemical transformation caused by heat or light irradiation and a recording layer 15 provided at the reachable position of an evanescent field caused by the aperture 3 when the masking layer 13 is irradiated with light.例文帳に追加

熱あるいは光照射により化学変化を起こしてアパーチャ3を生じ、前記化学変化が可逆的である材料により形成されたマスク層13と、このマスク層13に光を照射したときにアパーチャ3にて生じるエバネッセント場が到達可能な位置に設けられた記録層15とを備えている。 - 特許庁

The light propagation section 84 is arranged to connect the density measurement section 80 to nearby a position irradiated with irradiation light from the light emitting diode 82 on a surface of a setup test print TP conveyed at the drying section 60, and propagates reflected light from the surface of the setup test print TP to the density measurement section 80.例文帳に追加

光伝播部84は、濃度測定部80と、乾燥部60において搬送されるセットアップ用テストプリントTP表面における発光ダイオード82からの照射光の照射位置近傍と、を接続するように配置されており、セットアップ用テストプリントTP表面からの反射光を濃度測定部80まで伝播させる。 - 特許庁

例文

In the neighborhood of a position where the pulse gas which transitionally advances in a parallel direction to the vacuum chamber 17 by being ejected from the pulse gas ejecting device 12 and the pulse gas is transitioned to have a triangle type pressure distribution not having a flat part from the flat top trapezoidal type pressure distribution having a flat part, the laser beam irradiation system is set so that the laser beam is irradiated to the sample molecules.例文帳に追加

レーザー光照射システムは、パルスガス噴射装置12から噴射されて真空室17を並進するパルスガスが、フラット部を有するフラットトップ台形型圧力分布からフラット部を有しない三角型圧力分布に遷移する位置付近において、レーザー光をサンプル分子へ照射するように設定される。 - 特許庁


例文

At least one pair of separated finger placing bases are provided toward the recessed part, a sensor detecting the finger vein pattern is provided in a separation part, and a light irradiation means irradiating light rays toward the finger set onto the pair of the finger placing bases and a position detection means of the finger vein pattern are provided inside the operation panel.例文帳に追加

該凹部に向けて離間された少なくとも一対の指置台および離間部に指静脈パターンを検知するセンサを設け、前記一対の指置台にセットされる指に向けて光線を照射する光照射手段および指静脈パターンの位置検知手段を前記操作盤の内部に設ける。 - 特許庁

A position designating mechanism 70 includes four visible lasers irradiation devices 71 to 74 mounted to a transparent light source unit 30b and irradiating visible laser beams to the original platen 20.例文帳に追加

走査方向に沿って、かつ原稿載置台上に設けられた支持部材30bと、原稿載置台20と支持部材30bとを原稿載置面に沿ってかつ走査方向と交差する副走査方向に相対移動させる移動手段と、支持部材30bに取り付けられ、原稿載置台上の1対以上の点の位置を指定可能な位置決め手段とを有する。 - 特許庁

An optical disk apparatus is disclosed for performing label recording on a label recording surface located at an different position from a disk recording surface in an optical disk 1 by irradiating the label recording surface with a light beam, wherein recording of the label on the label recording surface is performed using tracking control information of light beam irradiation by an optical pickup 2 for a track of the disk recording surface.例文帳に追加

光ディスク1におけるディスク記録面とは別の位置にあるラベル記録面に光ビームの照射によりラベル記録を行う光ディスク装置であって、ラベル記録面上へのラベルの記録を、ディスク記録面のトラックに対する光ピックアップ2による光ビーム照射のトラッキング制御情報を用いて行う。 - 特許庁

This living body imaging device is provided with: an irradiation means for irradiating a living body presented to a prescribed position; and a plurality of imaging means having at least imaging lenses and imaging elements for imaging the blood vessel pattern of the living body on which near-infrared rays of light have been reflected or the blood vessel pattern of the living body which has transmitted the near-infrared rays of light.例文帳に追加

所定の位置に差し出された生体に近赤外光を照射する照射手段と、少なくとも撮像レンズ及び撮像素子を有し、近赤外光が反射した生体の血管パターン、若しくは近赤外光が透過した生体の血管パターンを撮像する複数の撮像手段と、を備えたこと。 - 特許庁

例文

The method 100 for measuring the lens focal position is provided with a probe 50 which condenses light from a light source 53 by using an irradiation lens 40, a flat mirror 55 which is disposed on the output side of the probe 50, a holding mechanism 56 which holds the flat mirror 55, and a detector 54 which detects the intensity of light being reflected by the flat mirror 55.例文帳に追加

レンズ焦点位置測定装置100は、光源53からの光を照射レンズ40で集光するプローブ50と、プローブ50の出力側に配された平面ミラー55と、平面ミラー55を保持する保持機構56と、平面ミラー55で反射した光の光量を検出する検出器54とを備える。 - 特許庁

例文

A substrate, which is set to a tool 13 provided to a work-mounting part 12 at a place A, is subjected to a resin coating process, a process of making it adhesion tightly to a mold, a UV irradiation process, successive exfoliation processes at corresponding places according to the rotation of a support table 11, and finally, a completed optical element is removed from a position F.例文帳に追加

場所Aにおいてワーク取付部12に設けられた治具13にセットされた基板は、支持台11の回転に応じて、順次、樹脂塗布工程、型に密着させる工程、紫外線照射の工程、剥離の工程を対応する場所で施され、最後に位置Fから完成した光学素子が取り出される。 - 特許庁

The method for sorting the cultured cells comprises a process of applying a fluorescent labeling treatment to cultured cells containing removal target cells in a culture device, a process of specifying the positions of the removal target cells in the culture device on the basis of the presence or absence of the fluorescent labeling, and a process of annihilating the position-specified removal target cells by the irradiation of laser.例文帳に追加

除去対象細胞を含む培養細胞を培養装置において蛍光標識する工程、培養装置中の除去対象細胞の位置を蛍光標識の有無により特定する工程、位置を特定された除去対象細胞にレーザを照射して死滅させる工程を含む、培養細胞の選別方法。 - 特許庁

Data processing starts from one image irradiation, and other geometric factors (455 and 800) passing through the region-of-interest area are considered by using a geometric straight line (450) passing through the region-of-interest area, and next, the intersection positions of this straight line and the other geometric factors are found at three-dimension to position the region-of-interest area.例文帳に追加

データ処理は、1回の画像照射から始まり、関心領域を通る幾何学的直線(450)を用い、関心領域を通る別の幾何学的要素(455、800)を考慮して、次にこの直線と別の幾何学的要素との交点の位置を3次元で求めて、関心領域の位置決めをする。 - 特許庁

A reflection mirror M is provided at a substrate 2 side of a delivery head 30, the laser light B from a laser head 36 is multiply reflected between a first reflection surface Ma of the reflection mirror M and a second reflection surface 31a of the delivery head 30 and the multiply reflected laser light B is led to an irradiation position P of a surface 2a.例文帳に追加

吐出ヘッド30の基板2側に反射ミラーMを設け、レーザヘッド36からのレーザ光Bを、反射ミラーMの第1反射面Maと吐出ヘッド30の第2反射面31aとの間で多重反射させて、多重反射したレーザ光Bを表面2aの照射位置PTに導くようにした。 - 特許庁

By irradiating a detection beam from an irradiation system 69A of the detection device PDY_1 to a scale 39Y_2 used for measuring the position of a wafer stage and detecting the detection beam via the scale 39Y_2 by a photodetection system 69B, a surface state (an existence state of foreign substance) of the scale is detected.例文帳に追加

ウエハステージの位置を計測するために用いられるスケール39Y_2に対して検出装置PDY_1の照射系69Aからの検出ビームを照射し、スケール39Y_2を介した検出ビームを受光系69Bで検出することにより、スケールの表面状態(異物の存在状態)を検出する。 - 特許庁

In laser lap welding, a light receiving apparatus 4 receives laser reflected light 1b from a boundary wall face between a keyhole 6 formed at the laser irradiation position 5 of the metal 2 to be welded and a molten pool formed on the backside in the welding progression direction of the keyhole 6, i.e., the tip wall face 7 of the molten pool.例文帳に追加

レーザ重ね合わせ溶接において、被溶接金属物2のレーザ光照射位置5に生成されるキーホール6と、このキーホール6の溶接進行方向後側に生成される溶融池との境界壁面である溶融池先端壁面7からのレーザ反射光1bを受光装置4で受光する。 - 特許庁

The method for generating the exposure data has a process of generating irradiation position data on the block mask of the first transmission beams so that the edges in the Y or the X direction of the first transmission beams are positioned at a common separation region in the X or Y direction of the plurality of discrete patterns of the block mask.例文帳に追加

この露光データの生成方法では、ブロックマスクの複数の離散パターンのX方向またはY方向の共通離間領域に前記第1の透過ビームのY方向またはX方向のエッジが位置するように、前記第1の透過ビームの前記ブロックマスク上での照射位置データを生成する工程を有する。 - 特許庁

This ion beam irradiation device is equipped with an ion source to generate an ion beam 4, an electron beam source G to emit an electron beam two-dimensionally scanned in the ion source 2, a power supply 14 for it, an ion beam monitor 10 to measure the two-dimensional beam current distribution of the ion beam 4 at a position equivalent to the substrate, and a control device 12.例文帳に追加

このイオンビーム照射装置は、イオンビーム4を発生するイオン源2と、イオン源2内で2次元で走査される電子ビームを放出する電子ビーム源Gと、それ用の電源14と、基板相当位置におけるイオンビーム4の2次元のビーム電流分布を測定するイオンビームモニタ10と、制御装置12とを備えている。 - 特許庁

The optical path converting member is disposed at a position blocking light from the light source 9 for preventing the direct irradiation of the light to the subject 15, and reflects or refracts the light from the light source 9 to irradiate the periphery of the optical path converting member 10 with the light so as to indirectly irradiate the subject 15 with the light.例文帳に追加

光源9からの光を被写体15に直接照射させないように光を遮る位置に配置され、光源9からの光を反射又は屈折させて光路変換部材10の周囲の方向へ向けて光を照射することで、被写体15に光を間接的に照射させる。 - 特許庁

Thereby irradiation position of electron beams on the CRT display surface is changed for every predetermined period to prevent burning of the CRT display surface by changing location information sent out to a CRT display 10 at a predetermined period and thereby periodically changing time relative relation between the brightness information and the location information.例文帳に追加

これにより、CRT表示装置10へ送出する位置情報を所定周期で変化させ、輝度情報と位置情報との時間的相対関係を定期的に変化させることでCRT表示面上での電子ビームの照射位置を所定周期毎に変化させて焼き付きを防止する。 - 特許庁

The unnecessary photosensitive film 15 is cut off at the trimming position on the downstream side of the laminating roll 23 by a laser irradiation head 63, and the silicon wafer 35 is moved along one side on the opposite side of the rectangle to be housed in the wafer holder 81 on the lift stand 78 by a feed arm 44.例文帳に追加

そしてラミネートロール23の下流側のトリミング位置においてレーザ照射ヘッド63によって不要の感光性フィルム15を切断除去し、この後に矩形の反対側の1辺にほぼ沿うようにして搬送アーム44によってシリコンウエハ35を昇降台78上のウエハホルダ81に収納する。 - 特許庁

To provide an optical scanner capable of reusing a cylindrical lens, adhering and fixing a holding member firmly to a housing in reusing a cylindrical lens, and suppressing the shift of an optical beam irradiation position in a sub-scanning direction because of a temperature variation in an optical scanner, as well as an image forming apparatus.例文帳に追加

シリンドリカルレンズを再利用することができ、シリンドリカルレンズ再利用時に保持部材を強固に筐体に接着固定することができ、かつ、光走査装置内の温度変化によって、光ビーム照射位置が副走査方向にずれてしまうのを抑制することができる光走査装置および画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a fiber laser irradiation device which, of low device cost, small device size, and having a high operation efficiency, is capable of an easy irradition to an arbitrary position of an object which is to be irradiated by freely guiding the laser beam containing a plurality of wavelength components of different effect in the space, related to the interaction between the laser beam and material.例文帳に追加

レーザビームと物質の相互作用において,異なる作用を有する複数の波長成分を内包するレーザビームを空間的に自在に誘導し、照射対象物体の任意の位置に容易に照射可能で、装置コストが低く、装置サイズが小さく、高い動作効率を有する、ファイバレーザ照射装置を提供する。 - 特許庁

A CPU 7 sets the track at a jump destination in identifiable by using part of the light beams among the plural light beams emitted by an actuator 2 by controlling an ASP 4 and a DSP 6 in executing the track jump to move the irradiation position of the light beams emitted by the actuator 2 in a radial direction of the optical disk 1.例文帳に追加

CPU7は、アクチュエータ2が出射する光ビームの照射位置を光ディスク1の半径方向に移動させるトラックジャンプを実行する際に、ASP4及びDSP6を制御して、アクチュエータ2が出射する複数の光ビームのうちの一部の光ビームを用いてジャンプ先のトラックを特定可能に設定する。 - 特許庁

In one direction magnetic field 3, a part of a magnetic recording medium 1 is irradiated with a light and heated while the magnetic recording medium 1 is rotated and, after the magnetic recording medium 1 is rotated at least one round, a light irradiation position is continuously moved in the radial direction of the magnetic recording medium 1.例文帳に追加

一方向磁場3中において、磁気記録媒体1を回転させながら磁気記録媒体1の一部に光を照射して加熱するとともに、磁気記録媒体1を少なくとも1周回転させたのち光の照射位置を磁気記録媒体1の半径方向に連続的に移動させる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, capable of surely checking the irradiation position of a electron beam from the outside even when the supplying power or the electron beam is increased, efficiently carrying out vapor deposition work, and providing a stable quality vapor diposition film.例文帳に追加

たとえ電子ビームの投入パワーが増大しても、電子ビームの照射位置を外部から確実に確認することが可能で、効率よく蒸着作業を行なうことができるとともに、品質の安定した蒸着膜を得ることができる磁気記録媒体の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

The machining apparatus 25 is equipped with a means 13 for emitting a laser beam from inside the new main pipe 260 to its branching part, a means 22 for transferring the irradiation position of the laser beam in the direction of and around the piping axis, and a sensor 140 for detecting the branching part of the existing buried pipe.例文帳に追加

そして、この埋設管加工装置25は、新規本管260の内部から当該新規本管260の分岐部にレーザー光を照射する手段13と、レーザー光の照射位置を配管軸方向及び配管軸回りに移動させる移動手段22と、既存埋設管の分岐部を検出するためのセンサ140とを備える。 - 特許庁

To provide a laser beam welding method and equipment that compensate signal delay due to interposition of an I/O interface between a robot controller and a laser oscillator and that, when the robot hand comes to a starting end or a completing end of a laser irradiation position, start or stop the laser oscillator with a timing concurrent with the robot hand.例文帳に追加

ロボットコントローラとレーザ発振器との間にI/Oインタフェースが介在することによる信号の遅れを補償して、ロボットハンドがレーザ照射位置の始端または終端に来たとき、これに合致したタイミングでレーザ発振器を起動または停止させるレーザ溶接方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a light-emitting diode manufacturing method and cutting method which use a metal substrate having excellent chemical resistance and which include a step of achieving the purposes for reducing debris generated when the metal substrate is cut by laser and determining the position of laser irradiation suitable for the metal substrate at the same time, and a light-emitting diode itself.例文帳に追加

耐薬品に優れた金属基板を用い、金属基板のレーザー切断時に生成するデブリの低減と金属基板に適したレーザー照射の位置決めの両方の目的を同時に果たす工程を含む発光ダイオードの製造方法、切断方法及び発光ダイオードを提供することを目的とする。 - 特許庁

The multivalent ion irradiation device 30 comprises a multivalent ion generating source 1, a multivalent ion guide 33 for introducing the multivalent ions to a test piece, a movable testpiece table 36 for mounting a test piece 35, and a secondary electron detector 38, and irradiates multivalent ions 34 on a prescribed position of the test piece 35 by controlling the movable testpiece table 36.例文帳に追加

多価イオン照射装置30は、多価イオン発生源1と、多価イオンを試料に導くための多価イオンガイド33と、試料35を搭載する可動の試料台36と、二次電子検出器38と、を含み、多価イオン34を可動の試料台36の制御により試料35の所定位置に照射する。 - 特許庁

The electrode 10 is arranged outside a plane including the incident optical axis of the incident light L and the reflecting optical axis of reflected light R with respect to the incident light L, and also arranged at a position distant from the center of irradiation of the incident light L in a direction perpendicular to the incident optical axis on the surface to be irradiated of the photodetector 7.例文帳に追加

電極10は入射光Lの入射光軸と入射光Lに対する反射光Rの反射光軸とを含む平面の外に配置されるとともに、受光素子7の被照射面において、入射光Lの照射中心から入射光軸と垂直方向に隔たった位置に配置される。 - 特許庁

In the laser welding method, a laser beam L is relatively scanned on a work 5 composed of a plurality of superimposed members 1, 3 to be welded and then, while an assist gas is supplied to the irradiation position P of the laser beam L, the fused part 7 is formed in the work 5; thus, the members 1, 3 to be welded are joined to each other.例文帳に追加

レーザ溶接方法では、重ね合わされた複数の被溶接部材1,3からなるワーク5に対してレーザビームLを相対的に走査すると共に、レーザビームLの照射位置Pへアシストガスを供給しながら、ワーク5に溶融部7を形成することで被溶接部材1,3同士を接合する。 - 特許庁

A laser irradiation device comprises: a laser oscillator; an optical system for repeatedly scanning a beam spot formed by laser light oscillated from the laser oscillator in one axis direction on a surface of an object to be irradiated; and position control means for moving a relative position of the object to be irradiated to the laser light toward a direction crossing the one axis direction on the surface.例文帳に追加

本発明のレーザ照射装置は、レーザ発振器と、被照射体の表面における一軸方向に、前記レーザ発振器から発振されたレーザ光によって形成されるビームスポットを繰り返し走査するための光学系と、前記表面において前記一軸方向と交差する方向に向かって、前記レーザ光に対する前記被照射体の相対的な位置を移動させるための位置制御手段とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an image forming method capable of preventing an defective image such as black stripes on an image, even in the case of forming the image by an image forming apparatus where a lamp irradiation position by an eraser lamp lies on the upstream side of a toner removing area by a cleaning device in the electrostatic latent image carrier rotating direction.例文帳に追加

イレーサーランプによるランプ照射位置がクリーニング装置によるトナー除去領域よりも静電潜像担持体の回転方向上流側である画像形成装置を用いて画像形成を行う場合であっても、画像上に黒筋が生じるなどの画像不良が発生するのを防止することができる画像形成方法を提供することである。 - 特許庁

This microscope where observation data are acquired by irradiating an observation object with the deep ultraviolet light has a control part measuring the line width of a pattern provided at the prescribed position of the observation object and stopping the irradiation of the observation object with the deep ultraviolet light when the line width of the pattern attains a prescribed limiting value.例文帳に追加

観察対象に深紫外光を照射して観察データを取得する顕微鏡において、該観察対象の所定の位置に設けられたパターンの線幅を測定し、該パターンの線幅が所定の制限値に達した場合に、該観察対象への深紫外光の照射を停止する制御部を有することを特徴とする。 - 特許庁

A dot pattern DP that can provide position information is printed on the write surface of paper with luminous ink transparent and emitting readable light to a CMOS camera 2b when irradiated with light of a prescribed wavelength from the infrared irradiation part L provided at the CMOS camera 2b constituting the input locus reading means 22.例文帳に追加

用紙の被書込面に、位置情報を提供可能なドットパターンDPを、透明であり且つ入力軌跡読取手段22を構成するCMOSカメラ2bに具備された赤外線照射部Lによって所定波長の光を照射されて当該CMOSカメラ2bに読み取り可能な光を発光する発光インクによって印刷した。 - 特許庁

In a laser processing machine 1 for processing workpieces 2, a shielding device for shielding a laser beam oriented to a workpiece and/or an irradiation part by the laser beam in the workpiece, includes a detecting device 5 that can detect the orientation with respect to a surface of the workpiece, of an end face 19 of a shielding member 14 positioned in a use position.例文帳に追加

被加工物2を加工するためのレーザ加工機械1において被加工物に向けられたレーザビーム及び/又は被加工物におけるレーザビームの衝突箇所を遮蔽するための遮蔽装置において、使用位置にある遮蔽部材14の端面19の、被加工物面に対する配向を検出可能な検出装置5を備えるようにした。 - 特許庁

The radiation controller 134 changes the position of the flash coverage of a radiation 22 which is set so that the distal end of a biopsy needle 50 and a biopsy site may be fitted, along the puncture direction of the biopsy needle 50 by an irradiation range moving part, when a radiation image is acquired in a state in which the biopsy needle 50 is punctured in a mammo 20.例文帳に追加

放射線制御部134は、生検針50をマンモ20に穿刺した状態において放射線画像を取得する場合に、照射範囲移動部により、生検針50の先端部と生検部位が収まるように設定された放射線22の照射範囲の位置を生検針50の穿刺方向に沿って変更する。 - 特許庁

To provide a spark plug and a manufacturing method of the spark plug, capable of suppressing the occurrence and growth of cracks without causing large variations in the constituent distribution and coefficient of thermal expansion of a laser weld part in the electrode axial direction (the weld-bead widthwise direction) if the irradiation position of a laser beam is shifted (varied) in the electrode axial direction among individual spark plugs.例文帳に追加

スパークプラグ個体間で、レーザービームの照射位置が電極軸線方向にずれて(ばらついて)も、レーザー溶接部の電極軸線方向(溶接ビード幅方向)における成分分布や熱膨張率が大きく変動することなく、クラックの発生・成長を抑制できるスパークプラグの製造方法、及びスパークプラグを提供する。 - 特許庁

In irradiation of a flash lamp for flash lamp annealing after implantation of ions into a second conductivity-type separation layer and a second conductivity-type collector layer to form the second conductivity-type collector layer and the second conductivity-type separation layer, the strongest portion of radiation energy is focused on a depth position from the upper portion to the central portion of a tapered side edge surface.例文帳に追加

第2導電型コレクタ層と第2導電型分離層を形成するために、前記第2導電型分離層と第2導電型コレクタ層へイオン注入後、フラッシュランプアニールのためのフラッシュランプの照射の際に、前記テーパー状の側辺面の上部から中央部にかけての深さ位置に照射エネルギーの最強部を合わせる。 - 特許庁

After shaping a secondary electron detecting signal by an input filter, a startup of a voltage of a pattern edge is caught by a Schmidt triggering circuit, time variation from scanning start till edge detection is detected in high sensitivity, by passing the secondary electron detecting signal through an anti-aliasing filter, irradiation position of an electron beam is measured to obtain a signal for stability evaluation.例文帳に追加

2次電子検出信号を入力フィルタで整形した後、パターンエッジの電圧の立ち上がりをシュミット・トリガ回路で捉えることにより、走査開始からエッジ検出までの時間変動を高感度に検出し、アンチ・エイリアシング・フィルタを通過させることによって、電子線の照射位置を計測し、安定性評価のための信号を取得する。 - 特許庁

Adjoining pixel circuits 5O, 5E are made into linearly symmetric figures, in which the differences in the on-characteristics of a driving transistor Tr2 caused by the difference in an irradiation start position of a laser beam on the driving transistor Tr2 between the adjoining pixel circuits 5O, 5E are corrected, by setting the voltage of a driving signal Ssig for a signal line DTL.例文帳に追加

本発明は、隣接する画素回路5O、5Eを線対称形状により作成し、駆動トランジスタTr2に対するレーザービームの照射開始位置がこの隣接する画素回路5O、5Eで相違して発生する駆動トランジスタTr2のオン特性の相違を、信号線DTL用の駆動信号Ssigの電圧の設定により補正する。 - 特許庁

In electron irradiation observation from a normal direction on the surface of a wafer WF using a first column 8 of a scanning electron microscope; when it is determined that a defect is caused by releasing, an edge of the wafer WF is moved to an imaging position of the second column 16 of the scanning electron microscope by an XYθ stage 24, and the edge of the wafer WF is observed obliquely.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡の第一カラム8によるウェハWF表面の法線方向からの電子照射観察において、欠陥がはがれに起因すると判定される場合に、XYθステージ24によってウェハWFのエッジを走査型電子顕微鏡の第二カラム16の撮像位置に移動し、斜方からウェハWFのエッジを観察する。 - 特許庁

Thus, in the encoder 1, even when the irradiation position of the detected light to the scale plate 11 shifts from the reference, the correction amount based on the difference α° between a reference angle range and the angle range corresponding to the half value width W of a light intensity waveform P during angle detection, and the absolute angle of a measuring object can be detected accurately.例文帳に追加

これにより、エンコーダ1では、スケール板11に対する被検出光の照射位置が基準からずれている場合であっても、角度検出時における光強度波形Pの半値幅Wに対応する角度範囲と基準角度範囲との差α°に基づく補正量を加減し、測定対象物の絶対角度を精度良く検出することができる。 - 特許庁

This cutting position marking device provided near a cutting device 1 provided with a rotary cutting edge 1A moved relatively to the cut object 3, is constituted by providing a device body 2 with a laser beam irradiation device 5 for irradiating the rotary cutting edge 1A of the cutting device 1 and the cut object 3 with wide-angle laser beams 4 of vertical plane shape.例文帳に追加

被切断物3に対して相対移動する回転切断刃1Aを備えた切断装置1の近傍に設けられるものであって、装置本体2に、前記切断装置1の回転切断刃1Aと被切断物3とに鉛直面状の広角レーザー光4を照射するレーザー光照射装置5を設けて成る切断位置マーキング装置。 - 特許庁

The optical disk 1 has spiral tracks including a plurality of tracks having a pitch smaller than a recording pitch, and has a control area 9, a test area 10 and a user area 11 where a hologram recording layer and a tracking reflection layers are stacked and address signals to accurately determine an irradiation position of information light and reference light are preliminarily recorded in the tracking reflection layer.例文帳に追加

光ディスク1のらせん状のトラックを記録ピッチより細かいピッチで複数本のトラックを有し、コントロール領域9、テスト領域10及びユーザー領域11には、ホログラム記録層とトラッキング反射層とが積層されており、トラッキング反射層には情報光と参照光との照射位置を正確に定めるアドレス信号が予め記録されている。 - 特許庁

An elevation drive mechanism 430 and an advancing and retreating drive mechanism 440 are controlled, to bring a vertical irradiation position of a laser beam 458 onto a reflecting plate 470, by photomultiplier idling start control processing, and the laser beam 458 is emitted to photodetectors 460a, 460b of the photomultiplier via the reflecting plate 470 in idling time.例文帳に追加

光電子増倍管アイドリング開始制御処理によりレーザビーム458の垂直照射位置が反射板470上となるように昇降駆動機構430、進退駆動機構440を制御し、アイドリング時に、レーザビーム458を反射板470を介して光電子増倍管である光検出器460a、460bに照射する。 - 特許庁

The apparatus for detecting a surface position includes: a holding device having a holding part holding the backside of a substrate and a concave formed into a concave pattern with respect to the holding part; a fluid supply device supplying a fluid that has a refractive index equivalent to that of the substrate into the concave; and an irradiation device irradiating the surface of the substrate above the concave with light.例文帳に追加

その面位置検出装置は、基板の裏面を保持する保持部と、該保持部に対して凹状に形成された凹部とを有する保持装置と、基板の屈折率と同等の屈折率を有する流体を凹部に供給する流体供給装置と、凹部の上方の基板の表面に光を照射する照射装置と、を備える。 - 特許庁

In the beam detection member 2 for detecting the position or the intensity of a beam 7, a beam irradiation part 6 for irradiating the beam 7 comprises a polycrystal diamond film 4 containing boron (B) averagely 10-150 ppm, and the boron (B) concentration in the polycrystal diamond 4 has an uneven concentration distribution in the film thickness direction of the polycrystal diamond film 4.例文帳に追加

ビーム7の位置や強度を検出するためのビーム検出部材2であって、ビーム7が照射されるビーム照射部6が、ホウ素(B)を平均10〜150ppm含む多結晶ダイヤモンド膜4からなり、この多結晶ダイヤモンド4中のホウ素(B)濃度は、前記多結晶ダイヤモンド4の膜厚方向に不均一な濃度分布を持つ。 - 特許庁

例文

In a charged particle beam apparatus and a method of irradiation of a charged particle beam, focusing elements which focus orbits of charged particles emitted from a specimen are arranged at such a position that focusing action by the focusing elements does not affect (or can suppress influence on) the charged particle beams toward the specimen.例文帳に追加

上記目的を達成するために、試料から放出される荷電粒子の軌道を集束する集束素子を、当該集束素子による集束作用が、試料に向かう荷電粒子線に影響を与えない(或いは影響を抑制可能な)位置に配置した荷電粒子線装置、及び荷電粒子線の照射方法を提案する。 - 特許庁




  
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