「"formation region"」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

In the first resist patterning step, a first resist pattern 11 having an opening pattern 111 is formed in a contact hole formation region.例文帳に追加

第１のレジストパターン形成工程では、コンタクトホール形成領域に、開口パターン１１１を有する第１のレジストパターン１１を形成する。 - 特許庁

The p-type well 2 is isolated by the element isolation insulation film 4, and an element formation region 2A for forming memory transistors therein is formed.例文帳に追加

素子分離絶縁膜４によりｐ型ウェル２が分離され、メモリトランジスタが形成される素子形成領域２Ａが形成される。 - 特許庁

A second conductive type high concentration impurity layer 170 is formed in an element formation region 110, and functions as a source and drain.例文帳に追加

第２導電型高濃度不純物層１７０は、素子形成領域１１０に形成されており、ソース及びドレインとして機能する。 - 特許庁

An acquisition layer formation region Y is covered with a silicon oxide film 10 and then, a metal layer 11 is formed on the surface of a silicon substrate 1.例文帳に追加

捕捉層形成領域Ｙをシリコン酸化膜１０で覆ったのち、シリコン基板１の表面に金属層１１を成膜する。 - 特許庁

A post P for emitting a laser beam is separated from a pad formation region 118 by a groove 116 formed on the semiconductor layer.例文帳に追加

レーザ光を出射するポストＰとパッド形成領域１１８とが半導体層に形成された溝１１６によって分離されている。 - 特許庁

On the surface of a silicon substrate 1, an active region 3 as an islet-shaped element formation region is separated by an element isolation insulation film 2.例文帳に追加

シリコン基板１の表面は素子分離絶縁膜２により島状の素子形成領域である活性領域３に分離されている。 - 特許庁

The Vcc line 13a and the GND line 13b are formed continuously across the formation region of a plurality of electrode pads 7.例文帳に追加

Ｖｃｃライン１３ａ及びＧＮＤライン１３ｂは複数の電極パッド７の形成領域にまたがって連続して形成されている。 - 特許庁

A wiring metal layer and a contact are laminated to form a seal ring structure 28 surrounding the element formation region 22 of the semiconductor chip 20.例文帳に追加

配線金属層及びコンタクトを積層して、半導体チップ２０の素子形成領域２２を囲むシールリング構造２８を形成する。 - 特許庁

The impurity regions 104 suppress the expansion of the drain side depletion layer to the channel formation region 103 for preventing the short channel effect.例文帳に追加

この不純物領域１０４がドレイン側空乏層のチャネル形成領域１０３への広がりを抑え、短チャネル効果を防止する。 - 特許庁

The insulating resin layer 5 is formed to cover the wiring layer 3 so that it may have an aperture 5a in the formation region of the pad electrode.例文帳に追加

絶縁樹脂層５は、配線層３を覆うように、パッド電極の形成領域に開口部５ａを有するように形成される。 - 特許庁

A sub-laser beam application circuit 2 applies a sub-laser beam to detect the pre-pit formation region of a phase-change optical disk 1.例文帳に追加

副レーザ光照射回路２は相変化光ディスク１のプリピット形成領域を検出するために副レーザビーム光を照射する。 - 特許庁

The peeled part of the inorganic film 36 is a part which covers a part of the wiring 44 at outside of the formation region of the organic film 46.例文帳に追加

無機膜３６の剥離される部分は、有機膜４６の形成領域の外側で配線４４の一部を覆う部分である。 - 特許庁

Therefore, the thickness of the film to be etched on the source line formation region 88 can be made the same as that on a region in which a storage element is formed.例文帳に追加

よってソース線形成領域８８上の被エッチング膜の厚みは、記憶素子が形成される領域上のそれと同じになる。 - 特許庁

Thus, a semiconductor device is manufactured, where the area of the element formation region 20 is larger with fewer limitations about element layout.例文帳に追加

そのため、素子形成領域２０の面積を大きくできて、素子のレイアウトに関する制限が少ない半導体装置を製造できる。 - 特許庁

The pad 18 is inside a circuit formation region D1 of the semiconductor chip and is provided in a region that is not overlapped with the inductor 16.例文帳に追加

パッド１８は、半導体チップの回路形成領域内Ｄ１であって、インダクタ１６と重ならない領域に設けられている。 - 特許庁

A trench groove 22 is formed in a diffusion layer formation region A2 and an epitaxial film 4 is formed to fill in the trench groove 22.例文帳に追加

次いで、拡散層形成領域Ａ２にトレンチ溝２２を形成し、このトレンチ溝２２を埋め込むかたちでエピタキシャル膜４を成膜する。 - 特許庁

The visible toner image is formed on a margin region of the paper, and the invisible toner image is formed on a normal image formation region of the paper.例文帳に追加

可視トナー像は用紙の余白領域に形成され、不可視トナー像は用紙の通常の画像形成領域に形成される。 - 特許庁

A source and drain region 12SD and a formation region of the gate electrode 141 in the oxide semiconductor layer 12 are spaced apart from each other.例文帳に追加

酸化物半導体層１２におけるソース・ドレイン領域１２ＳＤとゲート電極１４１の形成領域とは、互いに離隔している。 - 特許庁

Further, the transistor may have a source or drain formed in the region where the semiconductor film is deformed in addition to the channel formation region.例文帳に追加

また上記トランジスタは、チャネル形成領域に加え、ソースまたはドレインが半導体膜の歪んでいる領域に形成されていても良い。 - 特許庁

An amorphous silicon film is patterned for forming a growth source region 1 where a catalysis should be added, an element formation region 2 that is isolated from the growth region 1 and does not have the catalysis, and a path 3 for connecting the growth source region 1 to the element formation region 2.例文帳に追加

触媒を添加すべき成長源領域１と、成長源領域１に対して隔離されて触媒が非添加の素子形成領域２と、成長源領域１と素子形成領域２とを繋ぐ経路３とを、非晶質珪素膜をパターニングすることにより形成する。 - 特許庁

When a core 7 of an optical waveguide W is formed on a surface of an electric circuit board E, the core 7 and optical element positioning alignment marks A are simultaneously formed from a photosensitive resin layer including a core 7 formation region and an alignment mark A formation region by a single photolithography process.例文帳に追加

電気回路基板Ｅの表面に光導波路Ｗのコア７を形成する際に、コア７形成領域とアライメントマークＡ形成領域とをもつ感光性樹脂層から、１回のフォトリソグラフィ法により、コア７と同時に、光学素子位置決め用のアライメントマークＡを形成する。 - 特許庁

By elongating an end of a element formation region Ac, in which nonvolatile memory cells are formed, by length D using a region under a dummy conductive film DSG, stress added from an insulating film 6 surrounding the element formation region Ac is concentrated to the elongated region.例文帳に追加

不揮発性メモリセルが形成される素子形成領域Ａｃの端部を、ダミー導電性膜ＤＳＧの下の領域を利用して長さＤだけ伸長することにより、かかる伸長した領域に、素子形成領域Ａｃを囲む絶縁膜６から加わる応力を集中させる。 - 特許庁

A second conductivity type surface storage layer 25, which restrains a dark current element is formed in a surface of a first conductivity type depletion layer formation region 24 which forms a photoelectric conversion part 23, and the surface storage layer 25 is formed wider than the depletion laver formation region 26.例文帳に追加

光電変換部２３を形成する第１導電型の空乏層形成領域２４の表面に暗電流成分を抑制する第２導電型の表面蓄積層２５を有し、表面蓄積層２５が空乏層形成領域２６より広く形成されて成る - 特許庁

A lead frame 10A comprises, as shown in figure 1 (a), a semiconductor device formation region 12 in which a plurality of semiconductor chips are collectively resin-sealed at its central section, with the peripheral part of the semiconductor device formation region 12 connected to and supported by a frame rim 13.例文帳に追加

図１（ａ）に示すように、リードフレーム１０Ａは、その中央部分に複数の半導体チップが一括して樹脂封止される半導体装置形成領域１２を有し、半導体装置形成領域１２の周辺部は、フレーム枠部１３に連結されて支持されている。 - 特許庁

To prevent water etc., which enters an inter-layer insulating film on a fuse from an opening of a protection film on the fuse in a trimming element formation region surrounded with a guard ring made of metal from entering a device formation region through an opening for a fuse lead-out electrode formed in the guard ring.例文帳に追加

金属層からなるガードリングで囲まれたトリミング素子形成領域のヒューズ上の保護膜の開口からヒューズ上の層間絶縁膜に浸入した水分等がガードリングに形成されたヒューズ引き出し電極用の開口を通ってデバイス形成領域に浸入することを防止する。 - 特許庁

A radiation source includes a chamber, a fuel supply configured to supply a fuel to a plasma formation region in the chamber, and a laser configured to emit a radiation beam to the plasma formation region so that plasma for emitting extreme ultraviolet radiation is generated when the radiation beam impacts the fuel.例文帳に追加

放射ソースは、チャンバと、チャンバ内のプラズマ形成部位に燃料を供給するように構成された燃料供給と、放射ビームが燃料と衝突した場合に極端紫外線を放つプラズマが生成されるようにプラズマ形成部位に放射ビームを放つように構成されたレーザとを含む。 - 特許庁

The nonvolatile semiconductor memory device comprises a channel formation region, a charge holding layer, and a tunnel insulating film provided between the channel formation region and charge holding layer and containing silicon particles each having a first nitride-containing layer on a surface.例文帳に追加

チャネル形成領域と、電荷保持層と、前記チャネル形成領域と前記電荷保持層との間に設けられ、表面に第１の窒素含有層を有するシリコン粒を含むトンネル絶縁膜と、を備えたことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置が提供される。 - 特許庁

In the method, while or before droplets of a functional solution are discharged onto a film formation region 1 on a substrate W, a solvent having a vapor pressure equal or nearly equal to that of the liquid medium of the functional solution is applied to a formed-film-free region 8 surrounding the film formation region 1.例文帳に追加

基板Ｗ上の膜形成領域１に機能液を液滴として吐出すると略同時または前に、膜形成領域１の周辺域８（非膜形成領域）に機能液の液媒体と同一または略同等の蒸気圧を有する溶媒を塗布する。 - 特許庁

This method is used for cleaning a liquid injection device including an injection head having an injection surface including a first nozzle formation region where a first nozzle capable of injecting a first liquid is formed, and a second nozzle formation region where a second nozzle capable of injecting a second liquid is formed.例文帳に追加

第１液体を噴射可能な第１ノズルが形成される第１ノズル形成領域、及び第２液体を噴射可能な第２ノズルが形成される第２ノズル形成領域を含む噴射面を有する噴射ヘッドを備える液体噴射装置のクリーニング方法である。 - 特許庁

To provide a semiconductor device of high quality in which an IGBT type formation region and a formation region for a control circuit thereof etc., are separated by a PN junction separating method, a leakage current from an IGBT is not generated, and a CMOS transistor such as the control circuit never latches up and so on.例文帳に追加

ＩＧＢＴ形成領域とその制御回路等形成領域とをＰＮ接合分離法で分離し、且つＩＧＢＴからの漏れ電流が発生せず、制御回路等のＣＭＯＳトランジスタがラッチアップ等することのない高品質の半導体装置を実現する。 - 特許庁

A polycrystalline semiconductor film is formed and thereafter, rare gas element ions are selectively implanted, in only the channel formation region of the semiconductor film and the regions in the vicinity of the channel formation region and in such a way, that the center of the range of charged particles in the ions is positioned from the interface under the lower side of the semiconductor film to be within a distance of 10 nm ±10 nm.例文帳に追加

多結晶半導体膜形成後、希ガス元素イオンを半導体膜のチャネル形成領域およびその近傍領域にのみ選択的に、また、飛程中心が該半導体膜の下側界面から１０ｎｍ±１０ｎｍ内になるよう注入する。 - 特許庁

A sealing member 27 arranged in a frame shape so as to surround an outside of a barrier rib formation region 26 where barrier ribs partitioning a discharge space are arranged, and a plurality of supporting members 28 arranged in a region between an outer periphery of the barrier rib formation region 26 and the sealing member 27 are respectively formed.例文帳に追加

放電空間を区画する隔壁が配置される隔壁形成領域２６の外側を囲むように枠状に配置されるシール部材２７と、隔壁形成領域２６の外周とシール部材２７との間の領域に複数の支持部材２８とをそれぞれ形成する。 - 特許庁

The developing roller is manufactured by injection molding a resin composition into a mold provided with the unevenness at least at a part corresponding to an image formation region part, wherein the surface roughness (Ra: arithmetic mean roughness) of the developing roller in the image formation region part is 0.5 to 5.0 μm.例文帳に追加

樹脂組成物を少なくとも画像形成領域部に対応する部分に凹凸を設けた金型に射出成形することにより現像ローラを製造し、画像形成領域部の現像ローラの表面粗さ（Ｒａ：算術平均粗さ）が、０．５〜５．０μｍであることを特徴とする現像ローラ。 - 特許庁

This hard mask is constituted by overlapping a first hard mask 32 formed in a direction parallel to an element formation region 17 with a second hard mask 34 formed in a direction intersecting the element formation region 17, these hard masks being manufactured at the other lithography steps, respectively.例文帳に追加

このハードマスクはそれぞれ別のフォトリソグラフィ工程により作製され、素子形成領域１７と平行な方向に形成された第１のハードマスク３２と、素子形成領域１７と交差する方向に形成された第２のハードマスク３４との重ね合わせで構成されている。 - 特許庁

An n-type well layer 21 for relaxing an electric field is formed deeper than the trench 14 under the channel formation region 10 and the offset layer 20 in the separated region Z1, and, what is more, so as to be joined to the channel formation region 10 while covering the lower end of the trench 14.例文帳に追加

ｎ型の電界緩和用ウエル層２１が、素子間分離された領域Ｚ１においてチャネル形成領域１０およびオフセット層２０の下にトレンチ１４よりも深く、かつ、チャネル形成領域１０につながるとともにトレンチ１４の下端を覆うように形成されている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an SiC semiconductor element, capable of maintaining a high-quality element formation region even if subjected to an SiC element forming step.例文帳に追加

ＳｉＣ素子形成工程を経ても高品質な素子形成領域を維持できるＳｉＣ半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A square opening is provided at the central portion of a formation region for the coil conductor CW, with a magnetic core 1 inserted into the opening.例文帳に追加

コイル導体ＣＷの形成領域の中心部には矩形の開口が設けられていて、その開口に磁性体コア１が挿入されている。 - 特許庁

A pair of box masks for measuring the relative positions of a lower layer pattern with upper layer pattern of a semiconductor device are provided in a box mark formation region.例文帳に追加

半導体装置の下層パターンと上層パターンとの相対位置を測定するための１対のボックスマークをボックスマーク形成領域に設ける。 - 特許庁

In other words, the capacitor formation region 14 is formed by achiving etching with its size different from those of the other vias and wiring regions formed in the same process.例文帳に追加

すなわち、同一工程で形成される他のビアや配線領域と異なる寸法でエッチングして容量形成領域１４を構成する。 - 特許庁

To provide a method for processing a wafer by which the wafer having a reinforcing portion at the outer circumference of a device formation region can be divided in a shorter period of time.例文帳に追加

素子形成領域の外周に補強部を形成したウェハーをより短時間で分割可能なウエハーの加工方法を提供する。 - 特許庁

With the above structure, when erasing operation is performed, charges accumulated in the floating gate are extracted to the metal wiring through the channel formation region.例文帳に追加

上記構造により、消去動作において、浮遊ゲートに蓄積された電荷はチャネル形成領域を介して金属配線に引き抜かれる。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate having a shallow trench isolation structure with high integration density in which crystal defects generated in an element formation region are reduced.例文帳に追加

素子形成領域に発生する結晶欠陥が低減された高集積密度のシャロウ・トレンチ分離構造の半導体装置を提供する。 - 特許庁

Each of a plurality of wells of a memory array formation region is formed to be continuous with a corresponding well of memory cells adjoining in a column direction.例文帳に追加

メモリアレイ形成領域の複数のウェルの各々は、列方向に隣接するメモリセルの対応するウェルと連続するように形成される。 - 特許庁

Diffusion regions 170 are formed in a substrate 100 located in the element formation region 104 and serve as a source and a drain of a transistor 110.例文帳に追加

拡散領域１７０は素子形成領域１０４に位置する基板１００に形成され、トランジスタ１１０のソース及びドレインとなる。 - 特許庁

In other words, the laser beam LR obliquely radiates the semiconductor chip 20 up to the end of the formation region of the semiconductor chip exceeding the edge pf the cutting line 25.例文帳に追加

即ち、レーザー光線ＬＲは、カッティングライン２５のエッジを越えて、半導体チップ２０の形成領域の端部まで細長く照射する。 - 特許庁