「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a barium compound precursor which is a monomer or a dimer, and is thermally stable, easily volatile, much fitted to BST (barium strontium titanate) produced by ALD (atomic layer deposition) or CVD (chemical vapor deposition) and is not fluorinated.例文帳に追加

単量体又は二量体であり、熱的に安定な、易揮発性であり、且つＡＬＤ又はＣＶＤにより製造されるＢＳＴに非常に適したフッ素化されていないバリウム前駆体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for preparing bis(pentamethylcyclopentadienyl)strontium on a large scale which is a suitable raw material for forming a membrane comprising strontium oxide by a chemical vapor deposition method or by an atomic layer deposition method.例文帳に追加

酸化ストロンチウムを含有する膜を化学気相成長法や原子層堆積法により形成するための好適な原料であるビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ストロンチウムを量産することができる製造方法を提供する。 - 特許庁

A vacuum vapor deposition apparatus 1 comprises a vacuum chamber 101, a substrate holder 103, a film deposition source holder 113, a shielding mechanism 109, a first film thickness measuring mechanism 104, and a correction control unit 110.例文帳に追加

本発明に係る真空蒸着装置１は、真空チャンバ１０１と、基板ホルダ１０３と、成膜源ホルダ１１３と、遮蔽機構１０９と、第１膜厚測定機構１０４と、補正制御部１１０と、を備えている。 - 特許庁

The translucent gas barrier film for precluding static electricity is structured so that a metal oxide vapor-deposition layer, an organic-inorganic hybrid barrier layer, and a metal deposition layer are formed on one surface of a base film.例文帳に追加

本発明は、電子部品等を包装する包装体に適し、静電シールド性及びガスバリア性に優れ且つ低コストで製造可能な静電気防止半透明ガスバリア性フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a coating agent that has sufficient mechanical strength as a vapor deposition protective layer, does not block, and can protect a deposition surface and does not easily diminish gas barrier properties even after chemical treatment or wet heat treatment is performed.例文帳に追加

蒸着保護層としての機械的強度が十分で、ブロッキングせず、薬品処理や湿熱処理を施した後においても蒸着面を保護できガスバリアー性が低下しにくいコーティング剤を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for processing a surface of a substrate in physical vapor deposition (PVD) chamber that has an increased anode surface area to improve the deposition uniformity on large area substrates, and to provide a method therefor.例文帳に追加

本発明は、一般に、大面積の基板の堆積の均一性を高めるために陽極の表面積を増やした物理気相蒸着（ＰＶＤ）チャンバで、基板の表面を処理する装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To resolve a conventional problem being very slow in forming a film by atomic layer deposition method by supplying both a metal source and an oxygen source into a film forming chamber at the same time in chemical vapor deposition (CVD) method.例文帳に追加

化学気相成長(CVD)法において金属源、ケイ素源および酸素源を成膜室に同時給送することにより、原子層堆積法の成膜は非常に低速であるという従来の難点を克服する。 - 特許庁

To realize suppression of bending of a substrate serving as a deposition target due to its own weight and release of constraints on materials for a mask and a mask holder in vapor deposition, in which an evaporation source is located below the substrate, with a simple structure.例文帳に追加

蒸着源が基板の下方に位置する蒸着において、蒸着対象となる基板の自重による撓みの抑制とマスクやマスクホルダの材質等の制約の解除とを簡素な構成で実現する。 - 特許庁

The strontium-containing thin film such as a SrTiO_3 film and a (Ba, Sr)TiO_3 film is formed by using bis(propyltetramethylcyclopentadienyl) strontium as an Sr source, with a chemical vapor deposition method or an atomic layer deposition method.例文帳に追加

Ｓｒ源として、ビス（プロピルテトラメチルシクロペンタジエニル）ストロンチウムを用いて、化学気相成長法または原子層堆積法により、ＳｒＴｉＯ₃または（Ｂａ，Ｓｒ）ＴｉＯ₃膜等のストロンチウム含有薄膜を形成する。 - 特許庁

This vapor-emitting device has a shower plate type emitting portion 11 in which a plurality of emission ports 12 are arrayed in a plane, and a supply pipe 14 which is provided in the emitting portion 11 and supplies the vapor 50 of an organic vapor deposition material to the emitting portion 11.例文帳に追加

本発明の蒸気放出装置は、複数の放出口１２が面内に配列されたシャワープレート型の放出部１１と、放出部１１内に設けられ有機蒸発材料蒸気５０を当該放出部１１内に供給する供給管１４とを有する。 - 特許庁

In the ND filter 10 having the base substance consisting of the transparent plastic sheet 11 and the vapor-deposited films 12, 13 and 14 formed on the surface of the base substance, the base substance is formed of resin material of norbornene system and one of the vapor-deposited films uses chromel as vapor-deposition material.例文帳に追加

透明プラスチックシート１１からなる基体と、この基体表面に形成した蒸着膜１２，１３，１４とを有するＮＤフィルタ１０において、前記基体がノルボルネン系の樹脂材料によって形成されると共に、前記蒸着膜の一つがクロメルを蒸着材料としている。 - 特許庁

This thin tabular mask 100 for vapor deposition having such an opening 10 as to match a pattern to be vapor-deposited on the article formed therein has a protrusion 14 formed on the surface which faces the surface to be vapor-deposited of the article.例文帳に追加

被蒸着対象物への蒸着パターンに対応する開口部１０が形成された薄板状の蒸着用マスク１００であって、被蒸着対象物の蒸着対象面と向かい合う対向面に突起１４を形成することによって上記課題を解決できる。 - 特許庁

In a state where a region, at the surface of the substrate, free from deposition of vapor grown film, is coated with a silicon-metal-containing film containing silicon metal, a vapor grown film on a region other than the above region having vapor grown film on a region other than the above region having the silicon-metal-containing film thereon.例文帳に追加

基体の表面のうち気相成長膜を形成しない領域を、珪素金属を含有する珪素金属含有被膜によって被覆した状態で、基体を気相成長プロセスに供することによって、珪素金属含有被膜以外の領域に気相成長膜を形成する。 - 特許庁

Regarding the ND filter, a plastic sheet composed of a norbornene based resin material is used as a base, a vapor-deposited film composed of a vapor deposition material of a nickel-chromium alloy is formed on the surface of the base, and the surface of the vapor-deposited film is thereafter coating-treated with a water repellent film.例文帳に追加

このＮＤフィルタは、ノルボルネン系の樹脂材料から成るプラスチックシートを基体として用い、その基体表面にニッケル−クロム合金の蒸着材料から成る蒸着膜を形成した後に、その蒸着膜上に撥水性皮膜をコーティング処理して成る。 - 特許庁

Since the material scattering range in the carrying direction of a base material scattered from the vapor deposition source 113 is proportional to the film thickness of the material vapor-deposited on the base material, the quantity of the material to be vapor-deposited on the base material, and the thickness of the film to be deposited can be controlled thereby.例文帳に追加

蒸着源１１３から飛散する材料の基材の搬送方向における飛散範囲と、基材に蒸着される材料の膜厚とは比例の関係となるため、これにより、基材に蒸着される材料の量、形成される膜の厚さを制御することができる。 - 特許庁

The thin film is formed by heating the vapor deposition material storage container at the temperature above the temperature at which the vapor deposition material is evaporated, applying the positive electric potential to the vapor deposition material storage container, and emitting the electrons emitted from the plasma gun to the vapor deposition material.例文帳に追加

アノード電極を有するプラズマガンを備えた真空成膜装置を用いて、該真空成膜装置内の蒸着材料収納容器に保持された蒸着材料を蒸発させ、基材の被成膜面に薄膜を形成する第一薄膜形成工程と、第一薄膜形成工程と同様にして、上記薄膜上にさらに薄膜を形成する第二薄膜形成工程と、を備える多段蒸着フィルムの製造方法を採用し、薄膜の形成を、蒸着材料収納容器を上記蒸着材料が蒸発する温度以上に加熱するとともに、蒸着材料収納容器に正電位を印加してプラズマガンから放出される電子を蒸着材料に照射しながら行なう。 - 特許庁

To provide a deposition method for a silicon oxide film by a chemical vapor deposition (CVD) method, which can form a silicon oxide containing fewer OH groups without performing extra modification process such as thermal treatment or chlorine processing after the deposition of the silicon oxide film.例文帳に追加

ＣＶＤ法によるシリコン酸化膜の成膜方法であって、シリコン酸化膜成膜後に熱処理または塩素処理などの別の改質工程を行わずとも、ＯＨ基の含有量が抑えられたシリコン酸化膜を成膜することができるシリコン酸化膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

A stimulable luminescent phosphor layer is grown on a substrate by a vapor deposition method using a vacuum deposition apparatus having a vacuum chamber provided with the substrate in the interior, an opening opposite to the substrate, a boat for housing a raw material for the vacuum deposition and a heating apparatus for heating the boat.例文帳に追加

内部に基板を備えた真空チャンバーと、前記基板に対向する開口部を有し、蒸着原料を収容するボート、前記ボートを加熱する加熱装置とを備えた蒸着装置を用い、気相堆積法により前記基板上に輝尽性蛍光体層を成長させる。 - 特許庁

The present invention is a process of making the germanium-antimony-tellurium alloy film using the process selected from the group consisting of atomic layer deposition and chemical vapor deposition, wherein a silyltellurium precursor is used as the source of tellurium for the alloy film and is reacted with an alcohol during the deposition process.例文帳に追加

シリルテルル前駆体がゲルマニウム−アンチモン−テルル合金膜のためのテルル源として用いられ、堆積プロセスの際にアルコールと反応する、原子層堆積及び化学気相成長からなる群より選択されるプロセスを用いてゲルマニウム−アンチモン−テルル合金膜を製造する方法が提供される。 - 特許庁

To provide a metal particulate-dispersed composite of nanosize capable of producing a thin film in which particulates are dispersed in such a manner that the particle sizes are uniform and fine using a vacuum film deposition process such as an electron beam vapor deposition process and a sputtering process where uniform film deposition is possible, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

均一な成膜が可能である電子ビーム蒸着法やスパッタリング法等の真空成膜法を用い、かつ微粒子サイズが均一かつ微細に分散した薄膜を作製することができる、ナノサイズの金属微粒子分散複合体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the vapor deposition process of the light-emitting layer, a radiation angle θ2 of point sources 31a, 31c on both sides is made wider to deposit than in the case of deposition of the carrier transport layer corresponding to a differential of displacement due to thermal expansion of the mask 20 and the substrate 10 occurring by deposition of the carrier transport layer.例文帳に追加

キャリア輸送層の蒸着によって発生するマスク２０と基板１０の熱膨張に伴う変位の差分に応じて、発光層の蒸着工程においては、両側のポイントソース３１ａ、３１ｃの放射角θ２をキャリア輸送層の蒸着時より広げて蒸着する。 - 特許庁

To provide a film deposition system, in which it is not necessary to control the concentration of gaseous oxygen in a chamber at depositing a thin film containing a high melting point material by a resistance heating type vapor deposition method and a carbon heater furnace used for the film deposition system.例文帳に追加

高融点材料を含有する薄膜を抵抗加熱蒸着法によって成膜するに際し、チャンバ内の酸素ガス濃度を厳密に制御する必要のない成膜可能な成膜装置及びそのような成膜装置に使用可能なカーボンヒータ炉を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for depositing a crystalline α-Al_2O_3 layer on a cutting tool insert by chemical vapor deposition at 625 to 800°C.例文帳に追加

本発明は、６２５〜８００℃の温度で化学蒸着によって切削工具インサート上に結晶質α−Ａｌ_2Ｏ_3層を堆積する方法に関する。 - 特許庁

The RCHX layer is formed by vapor deposition, the energy active material is patterned to form a pattern and this pattern is transferred to the RCHX layer.例文帳に追加

ＲＣＨＸ層は、蒸着により形成し、エネルギー活性材料をパターニングしてパターンを形成し、このパターンをＲＣＨＸ層に転写する。 - 特許庁

Further, because alternate and successive vapor deposition of a Cr layer and an Ag layer in the process of forming the weight portion can be conducted, easy manufacturing can be attained.例文帳に追加

また、重り部を形成する工程内でＣｒの層とＡｇの層を交互に連続して蒸着することができるため、容易に製造することができる。 - 特許庁

To provide a method for producing a sputtering target and for repairing it so that it can be used and reused in the physical vapor deposition of thin film onto a semiconductor device.例文帳に追加

半導体素子に薄膜を物理的蒸着する上で使用、かつ再使用するようスパッタターゲットを作り、かつ改修する方法を提供する。 - 特許庁

A side wall face and an outer circumferential side wall face of a mask aperture 51 of the lower mask 50 are formed into a 1st reflection face 52 and a 2nd reflection face 53 by aluminum vapor-deposition.例文帳に追加

ロアマスク５０のマスク開口５１の側壁面と外周の側壁面とをアルミ蒸着により、第１反射面５２、第２反射面５３とする。 - 特許庁

To provide a thin-film-forming apparatus for uniformly forming a vapor-deposition thin film on an inner surface of a tubular plastic structure with a plasma CVD method.例文帳に追加

本発明は、プラズマＣＶＤ法により、筒状プラスチック構造物内面に均一に蒸着薄膜を成膜する薄膜成膜装置を提供する。 - 特許庁

The discoidal vapor-deposition material 10 formed of a porous sintered compact has a recess part 11 for moderating thermal expansion formed therein in a direction from the outer circumference toward the center.例文帳に追加

多孔質焼結体からなる円板状の蒸着材１０は、外周から中央に向かって熱膨張緩和用凹部１１が形成される。 - 特許庁

An outer circumferential part of a parts 2A which is melted and solidified when vapor deposition is completed is preferable astride upper and lower parts across the stepped part 5.例文帳に追加

蒸着終了時に溶融固化した部分２Ａの外周部は段状部５を挟んでその上方と下方に跨がっていることが望ましい。 - 特許庁

In addition, the alternately laminated moistureproof film is manufactured by sequentially forming the described films on the base of an organic material by vapor deposition or sputtering.例文帳に追加

上記交互積層防湿膜は、有機材料の基板上に蒸着又はスパッタリングにより前記膜を順次形成することにより製造される。 - 特許庁

The vapor deposition material-supplying means 20 has screws 23, 24 in a cylindrical parts 21, 22, and in the respective screws 23, 24, spiral grooves 233, 242 are formed.例文帳に追加

蒸着材料供給手段２０は、円筒状部２１，２２内にスクリュウ２３，２４を有し、スクリュウ２３，２４には螺旋状の溝２３３，２４２を形成してある。 - 特許庁

To provide a vapor deposition material suitable for forming a thin film excellent in transparency and gas-barrier property, and to provide a thin film sheet having the thin film, and a laminated sheet.例文帳に追加

透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。 - 特許庁

Further, a top coat is deposited on the barrier layer by a chemical vapor deposition (CVD) process or a method where it is coated with a ceramic precursor and ceramic slurry, and is fired.例文帳に追加

さらに、バリア層に、化学蒸着法（ＣＶＤ）または、セラミック前駆体およびセラミックのスラリでコーティングし、焼成する方法で、トップコートを堆積させる。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system requiring no maintenance and capable of depositing an excellent film of an evaporation material on a vapor-deposited material.例文帳に追加

メンテナンスをする必要が少なく、被蒸着材に蒸発材料の良好な膜を形成することができる真空蒸着装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a radiation image conversion panel which has high vapor deposition efficiency and by which the radiation image conversion panel having high sensitivity and giving a radiation image having high image quality can be manufactured.例文帳に追加

蒸着効率が高く、かつ高感度であって高画質の放射線画像を与える放射線像変換パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

The surface of a single crystal diamond material, the surface being stressed by a tensile stress, is coated with a high quality diamond film having no impurities by the vapor deposition method.例文帳に追加

単結晶ダイヤモンド素材の引張り応力が生ずる面に、気相法により、不純物を含まない高品質なダイヤモンド膜をコーティングする。 - 特許庁

In this vacuum coloring 3, first and second vapor deposition sources 21 and 22 are disposed in a coloring chamber 12 and a protective layer depositing chamber 13.例文帳に追加

本発明の真空着色装置３は、着色室１２内と保護層形成室１３内に第１、第２の蒸着源２１、２２がそれぞれ配置されている。 - 特許庁

To provide a metal mask in which patterning superior in handling property and of high precision is enabled in a vacuum vapor deposition process when manufacturing an organic EL element.例文帳に追加

有機ＥＬ素子製造における真空蒸着工程において、取り扱い性の良い且つ高精細パターニングを可能とする金属マスクを提供する。 - 特許庁

A conductive coating film is formed on the surface of a substrate 2 consisting of insulating material by such vapor deposition as CVD, PVD and a sputtering method.例文帳に追加

絶縁性材料からなる基材２の表面にＣＶＤ法や、ＰＶＤ法、スパッタリングなどの蒸着法によって導電性被膜を形成する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus which can monitor a substrate to be treated even when a viewport installed at a position that faces to the substrate is intercepted.例文帳に追加

被処理基板に対向する位置に設けられたビューポートを遮蔽しているときも、被処理基板の監視が可能な気相成長装置を提供する。 - 特許庁

A rotating board 907 has a built-in heater, and through-put can be improved by heating before it is transferred to the vapor deposition holder 903.例文帳に追加

回転台９０７はヒーターを内蔵しており、蒸着ホルダ９０３に搬送する前に加熱しておくことでスループットを向上させることができる。 - 特許庁

The vapor deposition raw material is a porous silicon oxide having >1.2 g/cm^3 and ≤1.6 g/cm^3 bulk density, wherein (x) of SiO_x is >1 and ≤1.3.例文帳に追加

嵩密度が１．２ｇ／ｃｍ^３を超え１．６ｇ／ｃｍ^３以下、かつＳｉＯｘのｘが１を超えて１．３以下である多孔質珪素酸化物。 - 特許庁

Thereafter, an updoped diamond layer 4 and a boron-doped diamond layer 5 are formed by a CVD (chemical vapor deposition) method, and an electrode 6 is formed on the boron-doped diamond layer 5.例文帳に追加

その後、ＣＶＤ法によりアンドープダイヤモンド層４及びボロンドープダイヤモンド層５を形成し、このボロンドープダイヤモンド層５の上に電極６を形成する。 - 特許庁

To realize vacuum arc vapor-deposition having uniform film-forming characteristics by preventing the degradation of the film-forming characteristics caused by a divergent magnetic field around a termination magnet surrounding a duct.例文帳に追加

ダクトを囲んだ終端磁石の発散磁場による成膜特性の劣化を防止し、均一な成膜特性の真空アーク蒸着を実現する。 - 特許庁