「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(69ページ目) - Weblio英語例文検索

A surface of the transparent substrate 10 is formed with a negative electrode layer 16, made of a metal such as aluminum through vapor deposition or sputtering.例文帳に追加

そして、図１（ｄ）に示すように、透明基板１０の表面に、蒸着法或いはスパッタリング法によって、アルミニウム等の金属製の陰極層１６を形成する。 - 特許庁

The spectacle frame has a vapor deposition film formed on a metal surface of a spectacle frame member made of titanium, titanium alloy, nickel silver, magnesium, or other metallic materials for spectacles.例文帳に追加

チタン又はチタン合金、ステンレス、洋白、マグネシウムその他の眼鏡用金属材料からなる眼鏡フレーム部材の金属表面に蒸着膜が形成された眼鏡フレームである。 - 特許庁

In a catalytic chemical vapor deposition apparatus 1 of the present invention, tantalum wires having a tantalum boride layer on their surfaces are used as catalytic wires 6.例文帳に追加

本発明に係る触媒化学気相成長装置１においては、触媒線６として、タンタル線の表面にそのホウ化物層が形成されたものを用いる。 - 特許庁

To provide an organic EL display manufacturing device capable of stably controlling the film thickness with excellent responsiveness when an organic layer is deposited by vacuum vapor deposition.例文帳に追加

有機層を真空蒸着により形成する場合に、膜厚を優れた応答性で安定して制御することのできる有機ＥＬディスプレイの製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a biaxially oriented polypropylene film high in longitudinal rigidity by a conventional successive biaxial orientation method and a vapor deposition film using the oriented polypropylene film as an under lying layer.例文帳に追加

汎用の縦−横逐次二軸延伸法を用いて長手方向の剛性が高い二軸延伸ポリプロピレンフィルムおよびその金属蒸着フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a vapor deposition film having high-definition patterns without using a metal mask difficult to realize a high definition and a high price laser scan apparatus.例文帳に追加

高精細度を実現することが困難であるメタルマスクも高価なレーザースキャン装置も使用することなしに、高精細なパターンを有する蒸着膜の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a biaxially oriented polypropylene film for an extremely thin capacitor having high withstand voltage property at high temperatures, and to provide a cast stock sheet and metal vapor deposition film for capacitors.例文帳に追加

高温下で高い耐電圧性を有する極薄のコンデンサー用二軸延伸ポリプロピレンフィルムと、キャスト原反シート、コンデンサー用金属蒸着フィルムを提供する。 - 特許庁

The vapor deposition polymerization reaction is preferably carried out by previously dehydrating the diamine compound containing sulfonic acid group at 70-300°C under vacuum condition.例文帳に追加

この際、蒸着重合反応前に、前記スルホン酸基含有ジアミン化合物に対して、真空中７０〜３００℃の温度範囲にて脱水処理を行うことが望ましい。 - 特許庁

An adhesive agent or a heat seal agent 15 can be applied on the metal vapor deposition layer, and hologram patterns or diffraction grating patterns can be formed overlappingly on the recessed and projected shape.例文帳に追加

金属蒸着層上には粘着剤またはヒートシール剤１５を設けても良く、凹凸形状に重畳してホログラムパターンや回折格子パターンを形成しても良い。 - 特許庁

Further, the metal porous membrane is formed using an organometallic complex in the presence of a hydrogen gas, an inert gas or a mixed gas thereof by a chemical vapor deposition process.例文帳に追加

又、水素ガス、不活性ガス又はそれらの混合ガスの存在下、有機金属錯体を用いて、化学気相蒸着法により金属多孔質膜を形成する。 - 特許庁

The substrate treating device includes a susceptor 8 where a disk-like substrate 7 is mounted in a reactor wherein the substrate 7 is heated for vapor phase deposition on the substrate 7.例文帳に追加

この基板処理装置は、円板形状の基板７を加熱し基板７上に気相成長させる反応炉の内部に、基板７が載置されるサセプタ８を含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a titanium dioxide film comprising crystallites, in which the crystal growth orientation is uniform, on an amorphous substrate such a glass substrate by a laser vapor deposition method.例文帳に追加

レーザー蒸着法によりガラスなどの非晶質状の基板上に結晶成長方位が揃った微結晶から成る二酸化チタン膜を作製することにある。 - 特許庁

To provide a susceptor for chemical vapor deposition with which no temperature difference is generated between regions of the susceptor resulting in a semiconductor substrate supported by the susceptor which will not cause slippage due to the temperature difference.例文帳に追加

サセプタの各領域間で温度差が生じず、サセプタに支持された半導体基板に温度差によるスリップが発生しない化学気相成長用サセプタを提供する。 - 特許庁

Copper is plated on the rear surface of the synthetic resin-made perforated film 1 by a vapor deposition method to cover the surface of the deposited copper with the synthetic resin-made perforated film 1.例文帳に追加

前記合成樹脂製多孔フィルム１の裏面に銅が蒸着メッキされることにより銅の表面が合成樹脂製多孔フィルム１で覆われた構成とする。 - 特許庁

The metallic holograms are formed without vapor deposition of aluminum on the surface of a hologram sheet subjected to hologram processing by applying a high-brightness coating agent and transparent varnish thereto.例文帳に追加

ホログラムシートのホログラム加工された面に、高輝度コーティング剤と透明ニスを塗布することによって、アルミニウムを蒸着することなしにメタリックホログラムを作成する。 - 特許庁

A material gas containing at least an organic nitrogen material and a hydrochloric gas is supplied into a metal organic chemical vapor deposition furnace to grow a group III-V compound semiconductor.例文帳に追加

少なくとも有機窒素原料及び塩化水素ガスを含む原料ガスを有機金属気相成長炉に供給し、III−Ｖ族化合物半導体を成長する。 - 特許庁

The lanthanoid atom-activated yttrium precursor that is prepared by the RF sputtering or EB vapor deposition is calcined in an atmosphere at 500 to 1,000°C to give the phosphor.例文帳に追加

ＲＦスパッタリング法又はＥＢ蒸着法により得られたランタノイド元素付活酸化イットリウム前駆体を５００〜１０００℃の温度で大気焼成して得ることができる。 - 特許庁

A ferroelectric layer including PZT formed in an organic metal chemical vapor deposition process on a lower electrode is formed after the lower electrode including iridium is formed.例文帳に追加

イリジウムを含む下部電極を形成した後、下部電極上に有機金属化学気相蒸着工程で形成されたＰＺＴを含む強誘電体層を形成する。 - 特許庁

A PVD(physical vapor deposition) metal-deposited layer, e.g. PVD Al or PVD Cu is deposited on the layer hard to dissolve under the pressure of 1 milli Torr or lower to give a conformal PVD metal-deposited layer.例文帳に追加

ＰＶＤ金属層、例えばＰＶＤＡｌ、またはＰＶＤＣｕが１ミリトル以下の圧力で溶けにくい層に堆積されて、コンフォーマルなＰＶＤ金属層を与える。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus 10a has an evaporation source 12 which moves between each of substrates 14, heats and evaporates the material, and makes an evaporated substance deposited on each of the substrates 14.例文帳に追加

蒸着装置１０ａは、各基板１４間を移動し、材料を加熱蒸発させ、各基板１４に対して蒸発物を堆積させるための蒸発源１２を備える。 - 特許庁

The compound has the high mobility and the high on/off value and is formed into the film, by coating the solution thereof, the printing procedure, including the inkjet printing, and the vapor deposition procedure.例文帳に追加

上記化合物は、高い移動度及びオン／オフ値を有し、溶液の塗布やインクジェット等の印刷法、並びに蒸着法によって製膜することのできるものである。 - 特許庁

A adhesive metal layer 61, a contact metal layer 62 and a high-melting-point metal layer 63 are laminated in sequence on the upper face of a glass substrate 3 with vapor deposition or spattering.例文帳に追加

蒸着法やスパッタリング法などで、ガラス基板３の上面に密着金属層６１、接点金属層６２、高融点金属層６３を順に積層する。 - 特許庁

To solve problems caused by the sagging of a high temp. medium and to improve the running cost and productivity in a chemical vapor deposition device executing a high temp. medium CVD method.例文帳に追加

高温媒体ＣＶＤ法を行う化学蒸着装置において、高温媒体の垂れに起因した問題を解消し、ランニングコストや生産性を向上させる。 - 特許庁

To provide a susceptor and a vapor deposition device, in which deterioration on the uniformity of carrier concentration in the surface of a film to be grown is suppressed while suppressing incorporation of particles.例文帳に追加

成長させる膜のキャリア濃度の面内均一性の悪化を抑制し、かつパーティクルの混入を抑制するサセプタおよび気相成長装置を提供する。 - 特許庁

In this case, preferably, the covering layer is a TiN layer covered by a physical vapor deposition process (PVD process), or, the thickness of the covering layer is controlled to 2 to 20 μm.例文帳に追加

この場合に、前記被覆層を物理蒸着法（ＰＶＤ法）により被覆されたＴｉＮ層とする、または、被覆層の厚みを２μｍ〜２０μｍとすることが好ましい。 - 特許庁

Appropriately, crystal orientation of the lower layer and that of the upper layer are made different by varying an incident angle of metal vapor at the time of deposition depending on the lower layer or the upper layer.例文帳に追加

好適には、蒸着の際の金属蒸気の入射角を下層と上層で変化させることにより、下層と上層の結晶配向が異なるようにする。 - 特許庁

The decorative film 20 is constituted by laminating a backing layer, a first adhesive layer, a metal vapor deposition layer, a second adhesive layer, an intermediate film layer and an outer protective film layer successively from a rear layer.例文帳に追加

加飾フィルム２０は、裏層から順にバッキング層、第１接着層、金属蒸着層、第２接着層、中間フィルム層、外部保護フィルム層が積層されている。 - 特許庁

Furthermore, the quartz glass soot is preferably produced with a VAD (vapor-phase axial deposition) method and the frequency of the microwave is preferably 20-300 GHz.例文帳に追加

更に前記石英ガラススートは、ＶＡＤ法で製造されたものが好ましく、また前記マイクロ波の周波数が、２０ＧＨｚ〜３００ＧＨｚであることが好ましい。 - 特許庁

The manufacturing method is such that the titanium oxide powder produced by chemical vapor deposition method is dispersed into an acidic aqueous solution having a pH of 2 or less, then dried to form a porous film.例文帳に追加

製造方法は化学気相蒸着法によって得られた酸化チタン粉末をｐＨが２以下の酸性水溶液に分散、これを乾燥し、多孔質膜に形成する。 - 特許庁

A protruded portion 7 for improving the releasing property of a substrate 2 is provided in an upwardly protruded fashion on the upper face side of the vapor deposition mask, namely, on the opposite face side to the substrate 2.例文帳に追加

蒸着マスクの上面側、すなわち基板２との対向面側に、該基板２に対する離型性向上用の凸部７を、上方向に突出状に設ける。 - 特許庁

While the light emitting layer 4 is heat-treated in a chamber 11 or after it is heat-treated, the electron injection electrode 5 is formed on a surface of the light emitting layer 4 by a vapor deposition method.例文帳に追加

チャンバー１１内で発光層４を加熱処理しながら、又は加熱処理した後、該発光層４の表面に電子注入電極５を蒸着法で形成する。 - 特許庁

The data detected by the respective sensors are used to adjust the feed speed of the sheet and/or the feed speed of the hologram film or the vapor deposition film in a control part.例文帳に追加

前記各センサによって検出されたデータは、制御部において、枚葉紙の送り速度および／または前記ホログラムフィルムまたは蒸着フィルムの送り速度を調整する。 - 特許庁

To provide an effective production method for a vapor-depositing material of silicon monoxide from powder of metallic silicon and powder of silicon dioxide as raw materials by vacuum vapor-deposition method, wherein the particle distribution of both the powder and their mixing ratio are respectively controlled to constant ranges.例文帳に追加

真空蒸着法により、粒度や混合割合を一定範囲に規制した金属けい素粉末と二酸化けい素粉末を原料として、一酸化けい素蒸着材料を効率よく製造し得る製造方法を提供するものである。 - 特許庁

The back face layer 32A can be a film containing a conductive material such as a ferrite system material or graphite or can be a metal layer formed by at least one kind of methods out of plating, (a) vapor deposition method and a chemical vapor-phase growth method.例文帳に追加

背面層３２Ａは、フェライト系材料またはグラファイト等の導電性材料を含むフィルムであってもよく、あるいは、めっき，蒸着法および化学気相成長法のうち少なくとも１種の方法により形成された金属層でもよい。 - 特許庁

After vapor-depositing PZT on a substrate through the process of metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) to form a preliminary ferroelectric film, the surface of the preliminary ferroelectric film is polished by chemical mechanical polishing, thus forming a ferroelectric thin film on the substrate.例文帳に追加

基板上に有機金属化学気相蒸着工程でＰＺＴを蒸着して予備強誘電体膜を形成した後、予備強誘電体膜の表面を化学機械的研磨工程で研磨して基板上に強誘電体薄膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method for measuring each of resistance value of the surface and back face in a both side vapor deposition film without forming non-vapor deposited parts in an online system with the improved precision at the time of measuring the resistance value of the film.例文帳に追加

フィルムの抵抗値を測定する際の精度を向上させること、およびオンライン方式において、非蒸着部を形成せずに両面蒸着フィルムの表面および裏面のそれぞれの抵抗値を測定する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide SiOx suitable as a vapor deposition material which allows a vapor-deposited film having excellent gas barrier property to be formed while suppressing the occurrence of splashing when the film is deposited, and as a negative electrode active material for a lithium ion secondary battery, which can keep the initial efficiency of the lithium ion secondary battery high.例文帳に追加

成膜時にスプラッシュの発生を抑えてガスバリア性に優れた蒸着膜の形成が可能な蒸着材として、また、初期効率を高く維持できるリチウムイオン二次電池用負極活物質として好適なＳｉＯ_xを提供する。 - 特許庁

Then, a second β-FeSi_2 layer 3 whose particle size is 10 to 100 μm is formed on the first β-FeSi_2 layer 2 while accelerating the lateral growth of the crystal grains of the initial layer by a chemical vapor deposition method or a vapor phase epitaxy method.例文帳に追加

次いで、化学気相成長法又は気相エピタキシ法により初期層の結晶粒の横方向成長を促進しつつ第１のβ−ＦｅＳｉ_２層２上に粒径が１０乃至１００μｍの第２のβ−ＦｅＳｉ_２層３を形成する。 - 特許庁

A method for manufacturing the platinum film comprises the steps of forming a seed film in the groove by sputtering metal platinum as a target material, and then decomposing vapor of an organic platinum compound, such as dimethyl platinum cyclooctadiene or the like on the sheet film, through organic metal chemical vapor deposition method.例文帳に追加

この白金膜は金属白金をターゲット材にしてスパッタリングにより溝にシード膜を形成した後、シード膜上に有機金属化学蒸着法によりジメチル白金シクロオクタジエン等の有機白金化合物の蒸気の分解により製造する。 - 特許庁

A thin film conductor is formed on at least one out of a surface and a back of the core substrate 9a by using any one out of a vapor deposition method, an ion plating method, an ion beam method, a vapor growth method and a sputtering method and patterned, and conductor patterns 19-22 are formed by patterning.例文帳に追加

コア基板９ａの表裏面の少なくともいずれかに蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、気相成長法、スパッタリング法のいずれかによって薄膜導体を形成した後にパターニングして導体パターン１９〜２２を形成する。 - 特許庁

To provide a biodegradable gas barrier film having an inorganic oxide vapor deposition layer and a protective layer not deteriorated in gas barrier properties, water vapor barrier properties and adhesion even if post-processing such as printing or the like is applied and reduced in environmental load, and a packaging material using it.例文帳に追加

印刷等の後加工を施してもガスバリア性、水蒸気バリア性、密着性の劣化がなく、環境負荷の少ない無機酸化物蒸着層及び保護層を有する生分解性ガスバリアフィルムとそれを用いた包装材料を提供すること。 - 特許庁

A magnetic layer 2 including a plurality of columns which are aggregates made of ferromagnetic particles is formed by oblique vapor deposition, continuously changing the incident angle of metallic vapor from a high incident angle to a low incident angle with respective to a traveling non-magnetic support 1.例文帳に追加

走行する非磁性支持体１に対し、金属蒸気の入射角を高入射角から低入射角に連続的に変化させながら、強磁性粒子の集合体である複数のカラムを含む磁性層２を斜方蒸着により形成する。 - 特許庁

A shielding plate 61 is arranged between a supply device 40 and a heating member 25, so that the radiant heat radiated from the heating member 25 and the vapor of a vapor deposition material 39 produced on the heating member 25 do not reach the supply device 40.例文帳に追加

供給装置４０と加熱部材２５の間には遮蔽板６１が配置されているため、加熱部材２５からの輻射熱や加熱部材２５上で発生した蒸着材料３９の蒸気が供給装置４０へ到達しない。 - 特許庁

Disclosed is a dome cover 118 mounted with the object 200 to be vapor-deposited and fitted to a substrate dome 104 arranged inside a vacuum deposition system 100, and is composed so as to cover the upper part of the substrate dome 104 mounted with the object 200 to be vapor-deposited.例文帳に追加

被蒸着物２００が載置されて真空蒸着装置１００内に配置される基板ドーム１０４に装着されるドームカバー１１８であって、被蒸着物２００が載置された基板ドーム１０４の上部を覆うように構成される。 - 特許庁

Only aluminum metal is vapor-deposited on an untreated surface not subjected to corona discharge of a film sheet 12 composed of a polypropylene film, and an aluminum metal vapor deposition layer 13 is formed without providing any coated layer to form an aluminum metallic transfer foil film 11.例文帳に追加

ポリプロピレンフィルムで構成したフィルムシート１２のコロナ放電を行なわない未処理面にアルミ金属蒸着のみを行ない、コート層を一切設けないでアルミ金属蒸着層１３を形成してアルミ金属転写箔フィルム１１を形成する。 - 特許庁