「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(71ページ目) - Weblio英語例文検索

The supply pipe 14 has a body portion 14a which has been formed into a pipe shape, and is constituted so as to spray the vapor 50 of the organic vapor deposition material to the bottom part 11a of the emitting portion 11 from a spray port 15 provided on the body portion 14a.例文帳に追加

供給管１４は、パイプ状に形成された本体部１４ａを有し、当該本体部１４ａに設けられた噴出口１５から放出部１１の底部１１ａに対して有機蒸発材料蒸気５０を吹き付けるように構成されている。 - 特許庁

To provide an organic matter vapor deposition system by which, in a state where a substrate is almost vertically stood, organic matter is vapor-deposited, so as to form an organic thin film, and which is applicable to a large-sized substrate, and can form an organic thin film with a uniform thickness as well.例文帳に追加

本発明は、基板をほぼ垂直で起立した状態で有機物を蒸着して有機薄膜を形成して大型基板に適用可能で、かつ、均一な厚さの有機薄膜を形成することができる有機物蒸着装置を提供するためのものである。 - 特許庁

This hologram transfer sheet comprises a base film obtained by laminating a shrink film stretched in the same direction as a direction where the transfer sheet is sent, a release layer, a hologram film with a lower face as a hologram-forming face and a vapor-deposition layer vapor-deposited thereon and an adhesive layer, all of these constituents being laminated over each other.例文帳に追加

転写シートの送り方向と同一の方向に延伸された収縮フィルムを積層したベースフィルムと、離形層と、下面をホログラム形成面とし蒸着層を蒸着したホログラムフィルムと、接着層とを積層したことを特徴とする。 - 特許庁

The vertical chemical vapor deposition apparatus comprises a film deposition chamber 5 having a gas introduction means and an exhaust means, a substrate holder 101 for holding a substrate S, a conveying means for conveying the substrate holder 101, and an inversion means for inverting the substrate holder 101.例文帳に追加

ガス導入手段及び排気手段を有した成膜チャンバー５と、基板Ｓを保持する基板ホルダー１０１と、基板ホルダー１０１を搬送する搬送手段と、前記基板ホルダー１０１を反転させる反転手段とを備えた縦型化学気相成長装置。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a porous preform for an optical fiber, which method can produce a large size porous preform for the optical fiber by an OVD (Outer Vapor-phase Deposition) method at a high speed and eliminates ruggedness of fine pitches and deep recessed parts produced on a deposition surface.例文帳に追加

外付け法（ＯＶＤ法）により大型の光ファイバ用多孔質母材を高速で生産することができ、堆積表面に発生するピッチが細かくて凹部の深い凹凸を解消した、光ファイバ用多孔質母材の製造方法を提供する。 - 特許庁

Also, the vacuum deposition apparatus includes a film thickness measuring section 6 for measuring the thickness of a vapor deposition film and a guide way 7 for connecting the cylindrical body 5 and the film thickness measuring section 6.例文帳に追加

また、真空蒸着装置は蒸着膜厚を計測する膜厚計測部６と、筒状体５と膜厚計測部６との間を接続する誘導路７とを備え、誘導路７は屈曲部７１を備えると共に蒸着材料２が気化される温度に加熱される。 - 特許庁

Since the thin film is deposited through thermal decomposition caused by the reaction of alcohol vapor and a precursor, the deposition rate is high and a high deposition rate can also be attained even when a β-diketone based organic metal compound is used as the precursor.例文帳に追加

また、アルコールの蒸気と前駆体との化学反応による熱分解で薄膜が蒸着されるために蒸着速度が速く、特にβ−ジケトン系の有機金属化合物を前駆体として使用する場合にも速い蒸着速度を得ることができる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing a base material with a metal thin film capable of reducing heat affection occurring on the surface of the base material traveling along a cooling can while performing film deposition by performing vapor deposition of the metal thin film on the surface of the base material.例文帳に追加

基材表面に金属薄膜を蒸着して成膜する場合に、成膜中に冷却キャンに沿って走行する基材の表面に発生する熱負けを低減できる金属薄膜付き基材の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a slide shutter apparatus for vacuum film deposition in which a shutter is placed in a vacuum chamber, the position of the shutter is finely adjusted, and the operational range is reduced in addition to the consistent and smooth operation when depositing crystal by using a vacuum device such as a sputtering apparatus and a vacuum vapor deposition apparatus.例文帳に追加

本発明は、スパッタ装置及び真空蒸着装置などの真空装置を使い、結晶を堆積させる際、シャッタを真空のチャンバー内部に入れ、安定かつスムーズな動作に加え、シャッタの位置の微調整、動作範囲の縮小するようにすること。 - 特許庁

To provide a gas barrier film having an excellent gas barrier property since though a gas barrier layer in a laminate is formed by a vacuum deposition method, a layer just under the gas barrier layer is neither deformed and nor deteriorated by heat in vapor deposition.例文帳に追加

真空蒸着法により積層体中のガスバリア層を形成した場合であっても、当該ガスバリア層の直下の層が蒸着時の熱により変形したり、劣化することがなく、その結果優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを提供することを課題とする。 - 特許庁

The method for depositing the ruthenium film on the substrate via liquid source chemical vapor deposition, comprises the source material which is liquid at room temperature, and utilizing process conditions such that deposition of the ruthenium films occurs at a temperature in the kinetic-limited temperature regime.例文帳に追加

液体供給源の化学気相堆積によりルテニウム膜を基板に堆積する方法では、供給源材料が室温で液体であり、ルテニウム膜の堆積が動力学的に限定された温度領域の温度で行われるように処理条件を利用する。 - 特許庁

The deposition of the high-purity organic compound layer is made possible because an organic compound refined in a refining chamber by a zone melting method can be vapor-deposited without lowering its purity onto a substrate disposed in a film deposition chamber.例文帳に追加

本発明では精製室において帯融解法により精製された有機化合物を、その純度を低下させることなく成膜室内に備えられている基板上に蒸着することができるため、高純度な有機化合物層を形成することが可能になる。 - 特許庁

The resin substrate comprises a polyimide resin layer and a surface layer which has at least one layer of SiN layer primarily comprising silicon nitride deposited at a deposition start temperature of 50°C or more according to a chemical vapor deposition method on the polyimide resin layer.例文帳に追加

ポリイミド樹脂層と、このポリイミド樹脂層の上に化学気相成長法により成膜開始温度が５０℃以上で成膜された窒化ケイ素を主成分とするＳｉＮ層を少なくとも１層有する表面層とを有することを特徴とする樹脂基板。 - 特許庁

To provide a plasma film deposition system for a hollow vessel where a matching unit for matching impedance in a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) system using a metallic vessel for sealing microwave energy is miniaturized, and further, impedance matching operation at the time of changing a production line can be simplified as well.例文帳に追加

マイクロ波エネルギーを封じ込める金属製容器を用いたプラズマＣＶＤ装置のインピーダンス整合を取る整合器を小型化し、さらに生産ライン切り換え時のインピーダンス整合作業も簡素化できる中空体容器プラズマ成膜装置を提供する。 - 特許庁

In the film deposition method, among particles released from the side face of a vapor deposition material 31 by arc discharge, as for positive electrically-charged particles having a low charge mass ratio, their travel direction is bent toward the substrate by the magnetic field generated by arc current.例文帳に追加

本発明の成膜方法によれば、アーク放電により蒸着材料３１の側面から放出される粒子のうち、電荷質量比の小さい正の荷電粒子は、アーク電流によって発生する磁界によってその進行方向を基板に向かって曲げられる。 - 特許庁

To provide a catalyst chemical vapor deposition system where a countermeasure against particles caused by released gas such as H_2O released, e.g., from members constituting the inside of a treatment chamber and the inner walls of the treatment chamber, and depositions stuck thereto is performed, and the deposition of a film with desired film quality can be performed.例文帳に追加

処理室内部構成部材および処理室内壁などからの放出されるＨ_2Ｏなどの放出ガスや付着堆積物に起因するパーティクル対策を行い、所望膜質の成膜を行い得る触媒体化学気相成長装置を提供する。 - 特許庁

On a silicon oxide film obtained by the formation of an insulation film containing Si and oxygen, a metal oxide film is so deposited by a chemical-vapor-deposition method, using an organic-metal raw material that the metal oxide film becomes crystalline in the state obtained, immediately after the deposition.例文帳に追加

Ｓｉと酸素を含む絶縁膜を形成されたシリコン酸化膜上に、有機金属原料を使った化学気相堆積法により、金属酸化物膜を、前記金属酸化膜が堆積直後の状態において結晶質となるように堆積する。 - 特許庁

The plasma chemical vapor growth means performs film deposition to the film 3 by inductively coupled plasma generated by the plasma linear source 7, and, simultaneously with this film deposition, the ion etching treatment means performs ion etching treatment to the film 3 by ions from the ion etching roller 5.例文帳に追加

前記プラズマ化学気相成長手段は、プラズマリニアソース７により発生する誘導結合プラズマによってフィルム３に成膜を行い、この成膜と同時に前記イオンエッチング処理手段はイオンエッチングローラー５からのイオンによってフィルム３にイオンエッチング処理を行う。 - 特許庁

A phosphor layer 1 constructed of phosphor accumulated by an air phase deposition method is arranged on a support 3, and a protective layer is arranged on the phosphor layer 1 by vapor deposition of an inorganic material having a gas barrier ability without any light absorption in a wavelength ranging from 300 nm to 1000 nm.例文帳に追加

支持体３上に気相堆積法により蛍光体を堆積されてなる蛍光体層１を設け、この蛍光体層１上に、波長300nmから1000nm において光吸収がなくかつガスバリア性を有する無機物質を蒸着して保護層を設ける。 - 特許庁

The shielding tape 2 is constructed by forming a metal vapor deposition layer 22 on a resin film 21, and an insulating bonding layer 3 is applied thinly on the whole face of this metal deposition layer 22, and further a conductive bonding layer 4 is printed and formed in an island pattern on top of it.例文帳に追加

シールドテープ２は、樹脂フィルム２１上に金属蒸着層２２を形成して構成され、この金属蒸着層２２上全面に薄く絶縁性接着層３を塗布し、更にその上に導電性接着層４を島状パターンをもって印刷形成する。 - 特許庁

The deposition method contains a step where plural layers in which each layer is thinner than the final thickness of the film to be deposited are deposited by PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition) in a reactor to deposit a dielectric film; and a step where the above reactor is subjected to cleaning between deposition for one layer and deposition for the next layer.例文帳に追加

上記課題を解決するため、本発明は、反応器中でＰＥＣＶＤ（プラズマ促進化学蒸着）により、複数の層で、その各層がデポジットすべきフィルムの最終的厚さよりも薄い厚さを有する複数の層をデポジットすることにより誘電体フィルムを形成するステップ、及び、前記反応器を、一つの層のデポジションと次の層のデポジションの間でクリーニングするステップ、を含む、デポジション法を提供する。 - 特許庁

To provide a composite vapor deposition material and a method of producing a film by which the number of times of film formation operations is reduced, and a film with a multilayer structure having reduced pinholes can be obtained in the production of a composite film of copper and chromium.例文帳に追加

銅とクロムの複合膜作製で、製膜作業回数を減らしピンホールの少ない、多層構造の膜が得られる複合蒸着材と膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polypropylene-based resin composition for a vapor-deposited film, which has properties, when being formed into a film, excellent in deposition strength, blocking resistance and heat seal strength, and having a smaller amount of solvent extraction component.例文帳に追加

フィルムにした際に、蒸着強度、耐ブロッキング性およびヒートシール強度に優れ、溶媒抽出成分量の少ない蒸着フィルム用ポリプロピレン系樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The controlled energy beam is made to irradiate the rear surface of the heating substrate 13 by a reflecting mirror 19, and a vapor deposition material 14 on the surface of the heating substrate 13 is evaporated locally.例文帳に追加

制御されたエネルギービームは反射ミラー１９により加熱用基板１３の裏面に照射され、加熱用基板１３の表面の蒸着材料１４が局所的に蒸発する。 - 特許庁

To provide electrically conductive ceramics which have a relative density of ≥90% and a shore hardness of ≤50, to provide a production method therefor, and to provide a vessel for metal vapor deposition which has high heat resistance and durability.例文帳に追加

相対密度９０％以上、ショア硬度５０以下の導電性セラミックス、その製造方法、及び耐熱性・耐久性の高い金属蒸着用容器を提供する。 - 特許庁

The vapor deposition equipment has a guard 7 covering an opening 12a, formed along a contact part peripheral edge of a chamber body 17 and a chamber cover 19, from outside.例文帳に追加

本発明の気相成長装置は、チャンバー本体１７およびチャンバー蓋１９の密着部周縁に沿って形成される開口１２ａを、外側から覆うガード７を有している。 - 特許庁

The vapor deposition material 39 which has fallen from the supply device 40 onto the shielding plate 61 is moved by a moving device 65, and is mounted on the heating member 25 through a dropping port 63.例文帳に追加

供給装置４０から落下した蒸着材料３９は遮蔽板６１に落下すると、移動装置６５により移動して、落下口６３から加熱部材２５上に乗せられる。 - 特許庁

To provide a polyester film for a recording medium, which can be used for a office-use vapor deposition magnetic tape such as a DVCAM nearly free from dropouts and excellent in durability and to provide a manufacturing method of the polyester film.例文帳に追加

ドロップアウトの少ない耐久性に優れたＤＶＣＡＭ等の業務用の蒸着型磁気テープとできる記録媒体用ポリエステルフィルム、該ポリエステルフィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

A material with a coefficient of thermal expansion about equal to (e.g. within ±30%) that of the plastic substrate 10, for example, a plastic material such as polyimide, is used to make the vapor deposition mask.例文帳に追加

この蒸着マスクの材料として、熱膨張係数がプラスチック基板１０と同等、例えば±３０％以内の材料、例えばポリイミドなどのプラスチック材料を採用する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor-deposition apparatus which can uniformize a temperature distribution with a simple structure and reduce an excessive loading of a material, and to provide a method for controlling temperature.例文帳に追加

簡素な構成で温度分布の均一化を図ることができ、材料の余分な充填を低減することができる真空蒸着装置及び温度調整方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a vapor deposition film having a multilayered structure on the surface of a film substrate, particularly, the surface of a long film, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

多層構造を有する蒸着膜を、フィルム基材表面、特に長尺フィルムの表面に形成することが可能な蒸着膜の形成方法及び装置を提供する。 - 特許庁

At first, an aluminum film with about 2.5 μm film thickness is formed on a glass substrate 7 with vapor deposition, sputtering or the like and subsequently is patterned with photoetching or the like to form anodes A and cathodes K.例文帳に追加

まずガラス基板７上に膜厚約２．５μｍのアルミニウム膜を蒸着やスパッタリングなどにより形成した後、フォトエッチング等でパターニングして陽極Ａ及び陰極Ｋを形成する。 - 特許庁

To prevent the sticking between nickel members each other caused by high temperature in a gas shower head (gas feeder) which is used for a CVD (chemical vapor deposition) system or the like and is composed by assembling the nickel members.例文帳に追加

ＣＶＤ装置などに用いられ、ニッケル部材を組み立てて構成されるガスシャワーヘッド（ガス供給装置）において、高温によるニッケル部材同士の貼り付きを防止すること。 - 特許庁

A resistance R1 is provided between the comb teeth 21, 21 by vapor deposition, and a capacitor C1 is provided between the comb teeth 22, 22 adjacent to the comb teeth 21 by a configuration formed by combining the comb teeth by further subdividing them.例文帳に追加

櫛歯21,21間には抵抗R1を蒸着によって設け、櫛歯21に隣接する櫛歯22,22間にはキャパシタC1を、櫛歯を更に細分化して組み合わせる等の構成により設ける。 - 特許庁

To provide a method by which a thin film of oxide can be deposited on the substrate to be treated without using a vacuum, and also, at a temperature lower than that in the conventional method, and to provide a CVD (Chemical Vapor Deposition) system therefor.例文帳に追加

酸化物の薄膜を、真空を用いることなく、且つ従来よりも低温で被処理基板上に形成することができる方法及びそのためのＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

The wire rod 40 is fed from a supply spool 121a, travels several times between the pulley parts 20a and 20b, is subjected to vapor-deposition while travelling, and wound up by a take-up spool 121b.例文帳に追加

線材４０は、供給スプール１２１ａから供給され、プーリ部２０ａ，２０ｂの間を複数回往復し、その往復の間に蒸着されて巻取りスプール１２１ｂに巻き取られる。 - 特許庁

To eliminate adverse effects on the positional precision of a pattern caused by radiant heat as much as possible with respect to a mask for vapor deposition, and to allow it to cope with high precision patterning.例文帳に追加

蒸着用マスクにおいて、輻射熱によるパターン位置精度に対する悪影響を極力排除することができ、高精度なパターニングに対応することを可能にする。 - 特許庁

This vapor deposition source has a structure in which an upper end part of a cylindrical anode electrode 21 is removed to form a cut part 22 so that an inner wall surface of the anode electrode 21 can not exist in the part visible from a substrate 13.例文帳に追加

筒状のアノード電極２１の上端部分を除去し、切り欠き部分２２を設け、基板１３から見える部分にアノード電極２１の内壁面が存在しないようにした。 - 特許庁

To provide a manufacturing apparatus of a display device capable of suppressing position shifting of a substrate as a vapor-deposition object and a metal mask, and a method of manufacturing the display device.例文帳に追加

蒸着対象となる基板とメタルマスクとの位置ずれを抑制することが可能な表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

More preferably, the metal nitride film 3 contains AlN and/or SiN as principal components and can be deposited at a temperature of transparent substrate 2 of 40°C or less by a chemical vapor deposition (CVD) method.例文帳に追加

更に好ましくは、該金属窒化物膜３が、ＡｌＮ及び／又はＳｉＮを主成分とし、化学気相成長（ＣＶＤ）法により、透明基板２の温度を４０℃以下で形成される。 - 特許庁

(2) On the insulating substrate 20, a laminate comprising an H_2Pc layer 22 and Me-PTC layer 24 is deposited by, for example, a vapor deposition method so that the total film thickness is, for example, 1 μm.例文帳に追加

▲２▼その絶縁基板２０上に、例えば、トータルの膜厚が１μｍになるように、例えば蒸着法によりＨ_２Ｐｃ層２２とＭｅ−ＰＴＣ層２４の積層体を堆積する。 - 特許庁

A sputtering device 10 constituting a sputtering unit is arranged in a first film-forming stage 8, and a vapor deposition device 11 is arranged in a second film-forming stage 9.例文帳に追加

真空槽３内の第１成膜ステージ８には、スパッタリング装置を構成するスパッタリング装置１０が配置され、第２成膜ステージ９には、蒸着装置１１が配置されている。 - 特許庁

To provide a diamond substrate which is easy to handle in a substrate treating apparatus and is durable to a high temperature nearly equal to the vapor deposition temperature of diamond, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

基板処理装置において取扱いが容易であり、且つ、ダイヤモンドの気相成長温度と同程度の高温にも耐えられるダイヤモンド基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The organic light-emitting element is obtained by successively laminating a transparent anode layer 2, a hole transport layer 3, a luminescent layer 4, a hole block layer 5, an electron transport layer 6 and a cathode layer 7 to a glass substrate 1 by vapor deposition.例文帳に追加

ガラス基板１上に、透明陽極層２、正孔輸送層３、発光層４、正孔ブロック層５、電子輸送層６および陰極層７を蒸着により、順次積層してなる。 - 特許庁

The thin film vapor deposition apparatus can be easily applied to the mass production process of a large-sized substrate, and has an improved production yield, and the method for manufacturing an organic emission display utilizes the same is also provided.例文帳に追加

大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法。 - 特許庁