「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(73ページ目) - Weblio英語例文検索

An conformal layer of a first organic semiconductor material is deposited on the top of the first electrode by an organic vapor phase deposition, and the first organic semiconductor material is a low molecular substance.例文帳に追加

第１有機半導体材料のコンフォーマル層は有機気相蒸着法により第１電極上部へ蒸着され、第１有機半導体材料は低分子材料である。 - 特許庁

As a result, the mound caused by particles generated by the peel-off of the decomposition products from the inner wall, and the slip occurring when the vapor deposition equipment of a lamp heating system is adopted are suppressed.例文帳に追加

その結果、分解生成物が内壁から剥がれて生じるパーティクルを原因としたマウンドや、ランプ加熱方式の気相成長装置を採用したときのスリップを抑制できる。 - 特許庁

This vacuum deposition apparatus has a magnet 3 arranged on a back side 1b of the flat tabular workpiece 1, which makes the surface to be vapor deposited 1a of the workpiece 1 adsorb a masking board 2 of a magnetism material.例文帳に追加

平板状の被加工物１の裏面側１ｂに配設され、被加工物１の被蒸着面１ａに磁性材であるマスキング板２を吸着させるマグネット３を有する。 - 特許庁

To provide a pack cementation process which can use a normal electric furnace and an exhaust system, reduces a cost for the vapor deposition chamber, the exhaust system and a facility, and shows adequate reproducibility and efficiency.例文帳に追加

通常の電気炉や排気装置を用いることが可能な蒸着室や排気装置や設備が安価で再現性と効率性が良好な新しいパック・セメンテーション法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical thin film manufacturing apparatus, and an optical thin film manufacturing method which can form an optical thin film uniform in film thickness distribution corresponding to various vapor deposition conditions.例文帳に追加

様々な蒸着条件に対応して膜厚分布の均一な光学薄膜を形成することが可能な光学薄膜製造装置と光学薄膜製造方法を提供する。 - 特許庁

By setting the temperature of the vapor deposition atmosphere at 200-450°C, the alkali resistance of the resultant coating film is improved and the glass bottle thus treated exhibits enough alkaliproof performance to be usable as a returnable bottle.例文帳に追加

蒸着の雰囲気温度を２００〜４５０℃とすることで、被膜の耐アルカリ性が向上し、比較的薄い被膜でも、リターナブルびんとして使用するのに十分な耐アルカリ性能を発揮する。 - 特許庁

On both the front end face coating film 44 and the rear end face coating film 46, the KCl film 48 of film thickness 50 nm is vapor-deposited as a protective film by an electron beam deposition method.例文帳に追加

フロント端端面コート膜４４上及びリア端面コート膜４６上の双方に、保護膜として膜厚５０ｎｍのＫＣｌ膜４８を電子線蒸着法により蒸着させる。 - 特許庁

Transfer means 46 and 86 to transfer the vapor deposition materials stored in containers 45, 85 into the film forming chamber 10 together with the containers 45, 85 in the material switching chambers 42 and 82, are provided in the state that the gate valves 41, 81 are opened.例文帳に追加

材料入替チェンバ42，82内にて容器45，85に収めた蒸着材料をゲートバルブ41，81が開いた状態で成膜室10内に容器45，85共々移送する移送手段46，86を設ける。 - 特許庁

To efficiently clean and recover organic EL elements being surplus organic matter stuck to a metal mask deposited on an organic EL substrate by vapor deposition or to its peripheral protecting plates.例文帳に追加

蒸着において有機ＥＬ基板に付着するメタルマスクやその周辺防護板に付着している余剰の有機物である有機ＥＬ素子を効率良く洗浄し，回収したい。 - 特許庁

To provide a method and device of manufacturing a vapor deposition component which are effective for forming a parted layer of a metal back film and a getter film in order to reduce damages due to discharge.例文帳に追加

放電によるダメージを低減するために、分断されたメタルバック膜やゲッタ膜の層を形成するのに有効な蒸着部品の製造方法及び製造装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an EB-PVD (Electron-Beam Physical Vapor Deposition) apparatus equipped with an independent system designed to monitor and maintain a constant relative level of the molten pool within the EB-PVD chamber.例文帳に追加

ＥＢ−ＰＶＤチャンバ内部の溶融プールの一定の相対液面を監視して維持するように設計された、独立したシステムを備えるＥＢ−ＰＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

In the depositing process, the substrate temperature is increased to the depositing one, then a feed gas is supplied onto the substrate by the heat Chemical Vapor Deposition method for depositing (205), and then PRO treatment is performed (206).例文帳に追加

成膜工程は、基板温度を成膜温度まで昇温後、熱ＣＶＤ法により基板上に原料ガスを供給して成膜処理した後（２０５）、ＲＰＯ処理を行う（２０６）。 - 特許庁

To provide a MgO vapor deposition material which is manufactured with excellent yield, capable of obtaining excellent discharge responsiveness over an extensive temperature range, in particular, in a low-temperature range, and considerably reducing the address IC number without degrading the panel brightness.例文帳に追加

歩留まり良く製造し、広い温度範囲にわたって、特に低温域で良好な放電応答性が得られ、更にパネル輝度の低下なしに大幅なアドレスＩＣ数を削減する。 - 特許庁

The surface of a plug body 1 consisting of a rubber-like elastic body is provided with a thin film 2 of either of a metal oxide or metal nitride by a sputtering process, vapor deposition process, ion plating process or CVD process.例文帳に追加

ゴム状弾性体からなる栓本体１の表面に、スパッタ法、蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法により、金属酸化物、金属窒化物のいずれかの薄膜２を設ける。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a linear carbon material and a functional device, by which low temperature PECVD (plasma-enhanced chemical vapor deposition) can be carried out and inexpensive manufacture using a glass substrate or the like can be carried out.例文帳に追加

低温でのＰＥＣＶＤを可能にして、ガラス基板等を使用して低価格で実施可能な線状炭素材料、及び機能デバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

After the phosphorus adsorbing layers 10 are removed from the end faces 8 in a MOCVD(metal organic chemical vapor deposition) system, Alx3Ga1-x3As films 11 which become window layers are continuously formed on the end faces 8.例文帳に追加

ＭＯＣＶＤ装置内で共振器端面８からリン吸着層１０を除去した後、連続して共振器端面８に窓層となるＡｌ_x3Ｇａ_1-x3Ａｓ膜１１を形成する。 - 特許庁

Next, a high-frequency electric field is applied from a high-frequency power supply 1300a to the vapor deposition mask 1302a, the gas (Ar, H, F, NF3 or O) is excited, and a plasma 1301 is generated.例文帳に追加

次いで、高周波電源１３００ａから蒸着マスク１３０２ａに高周波電界を印加してガス（Ａｒ、Ｈ、Ｆ、ＮＦ3、またはＯ）を励起してプラズマ１３０１を発生させる。 - 特許庁

To provide a CVD (chemical vapor deposition) system and an apparatus for manufacturing glass in which the occurrence of a defect caused by a foreign substance deposited on a peripheral surface and fallen on a glass ribbon is prevented.例文帳に追加

周面で析出し、落下した異物がガラスリボン上に落下して欠点を生じることが防止されたＣＶＤ装置及びガラス製造装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a gas barrier film in which the adhesiveness between a substrate and a deposited thin film is improved with good productivity by using a plasma process in the same winding system as a vapor deposition process.例文帳に追加

蒸着と同一巻取り系でプラズマ処理を用い、生産性よく基材と蒸着薄膜との密着性向上したガスバリア性フィルムとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask for plasma CVD (chemical vapor deposition) where, in a state of maintaining the advantages of a metallic mask, the service life of the mask can be elongated even if a plasma CVD system is used for the cleaning of the mask.例文帳に追加

金属製マスクの利点を維持した状態で、マスクの洗浄にプラズマＣＶＤ装置を使用しても寿命を延ばすことができるプラズマＣＶＤ用マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a multi-chamfered processing manufacturing method of an organic electric field light-emitting equipment by the mask vapor deposition method, in which a substrate area can be utilized efficiently, while preventing excessive increase in the number of shadow masks.例文帳に追加

シャドーマスク数の過度な増大を防ぎ、基板面積を効率的に活用することが可能な、マスク蒸着法による有機電界発光装置の多面取り製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the chips 20 can be easily removed from the supporting substrate 30 to recover the supporting substrate 30, and the recovered supporting substrate 30 can be reused to manufacture another mask for vapor deposition 10.例文帳に追加

このため、チップ２０を支持基板３０から容易に剥がして支持基板３０を回収し、回収した支持基板３０を用いて再度、蒸着用マスク１０を製造することができる。 - 特許庁

In this case, the particles 4 serving as the masks are formed of Al_2O_3 like a island by a vapor deposition method, so that the number of production steps can be reduced compared with the case by a photolithography method.例文帳に追加

この場合、マスクとなる粒子４を蒸着法によりＡｌ_2Ｏ_3で島状に形成しているため、フォトリソグラフィ法による場合と比較して、製造工程数を少なくすることができる。 - 特許庁

To reduce a fear that a vapor deposition material evaporated in an evaporation source sticks to a shielding plate or a jetting plate when it passes through the shielding plate and the jetting plate.例文帳に追加

蒸発源において蒸発せしめられた蒸着材料が、遮蔽板および噴出板を通過する時に遮蔽板または噴出板に付着してしまうおそれを低減する。 - 特許庁

To develop a CVD (chemical vapor deposition) system where there is no anxiety about the remaining of dust and products, with which a thin film of high quality can be deposited, and with which product cost and maintenance cost are also reduced.例文帳に追加

埃や生成物が残留する懸念がなく、高品質の薄膜を形成させることが可能であり、かつ製造コストやメンテナンスコストが低いＣＶＤ装置を開発する。 - 特許庁

Each of the vapor deposition sources 13 is dispersedly arranged so as to keep substantially the same posture as the others, along such a plane as to be substantially parallel to the surface to be deposited of the substrate 11.例文帳に追加

各蒸着源１３はその姿勢が互いに実質的に同一となるように、基板１１の被蒸着面に実質的に平行な面に沿って分散配置されている。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus for a vapor-deposited thin film having excellent pre-tilt angle controllability which is capable of uniformly depositing an inorganic oriented film on a substrate of a large area and suitable for depositing a liquid crystal oriented film.例文帳に追加

プレチルト角制御性に優れ、大面積基板上へ均一に無機配向膜を形成可能な、液晶配向膜の形成に好適な蒸着薄膜の成膜装置を提供する。 - 特許庁

The microscopic structure of κAl_2O_3 of this particularly fine grain is accomplished by introducing halide of silicone, preferably SiCl_4 periodically in the process of vapor deposition for Al_2O_3.例文帳に追加

この特に微細な粒のκＡｌ_２Ｏ_３顕微鏡組織は、Ａｌ_２Ｏ_３蒸着工程の際に、珪素のハロゲン化物、好ましくはＳｉＣｌ_４を周期的に導入することによって達成される。 - 特許庁

A microcrystalline diamond film 2 is deposited on a nondiamond carbon base material 1 consisting of amorphous carbon or graphite at a film deposition rate of 0.5 μm/hr by a chemical vapor phase synthesis.例文帳に追加

アモルファス炭素又はグラファイトからなる非ダイヤモンド炭素基材１上に、化学気相合成によって、成膜速度を０．５μｍ／時として微結晶ダイヤモンド膜２を形成する。 - 特許庁

To provide a method for perpendicularly orienting a pure carbon nanotube through a low-temperature-thermal chemical vapor deposition process on a large-area substrate consisting of glass or silicon at a low temperature.例文帳に追加

低温でガラスやシリコンよりなる大面積の基板上に低温-ＤＣ-熱化学蒸着方法を通じて純粋なカーボンナノチューブを垂直配向する方法を提供する。 - 特許庁

The conductive layer may be a metal foil layer or a metal vapor deposition layer and the conductive adhesive layer may be formed by using an adhesive composition containing a metal filler.例文帳に追加

導電層は金属箔層または金属蒸着層であってもよく、導電性粘着剤層は金属フィラーを含有する粘着剤組成物により形成することができる。 - 特許庁

This electron emitter material is formed by adsorbing diamond powder to a surface of carbon foam, and thereafter growing diamond on the carbon foam by a chemical vapor deposition (CVD) treatment.例文帳に追加

炭素発泡体の表面にダイヤモンド粉末を吸着させた後、化学気相蒸着（ＣＶＤ）処理により前記炭素発泡体上にダイヤモンドを成長させた電子エミッタ材料。 - 特許庁

The rare earth permanent magnet has an Al coating film containing Cu and/or Mg by 0.1 wt.% to 20 wt.% formed by vapor deposition on the surface of the magnet.例文帳に追加

本発明の希土類系永久磁石は、Ｃｕおよび／またはＭｇを０．１ｗｔ％〜２０ｗｔ％含むＡｌ被膜を表面に蒸着形成してなることを特徴とする。 - 特許庁

The cracking effusion cell includes the effusion source adopting the crucible and a single container construction such as the crucible formed by chemical vapor deposition from a PEN and having a negative draft 46.例文帳に追加

かかる坩堝を採用した流出源を含むと共に、化学蒸着によりＰＢＮから形成され、負のドラフト４６を有する坩堝などの単一の容器構造物を含む。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a multi-compound, capable of forming a multi-compound with high precision composition ratio change by a single vapor deposition, in consideration of the recent situation.例文帳に追加

本発明は、このような実情に鑑み、従来より高精度の組成比変化にて、多元化合物を一度の蒸着にて生成できる装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Since the epitaxial growth is carried out using this apparatus, the GaN film is epitaxially grown directly and continuously to the SiC single crystal on the vapor deposition surface of the substrate 34.例文帳に追加

このような装置を用いてエピタキシャル成長を行なうことにより基板３４の蒸着面にてＳｉＣ単結晶に直接連続してＧａＮ膜をエピタキシャル成長させる。 - 特許庁

Specifically, the third polarization film 17B is composed of a dielectric film or an inorganic vapor deposition film.例文帳に追加

青色の光Ｂが入射される第３の偏光膜１７Ｂは無機材料で形成され、言い換えると、第３の偏光膜１７Ｂは誘電体膜あるいは無機蒸着膜で構成されている。 - 特許庁

An aluminum vapor deposition film 1c is laminated by directly inserting one or two or more intermediate layers 1b to a rear side of the tissue paper 1a which makes the surface into a design surface 1a'.例文帳に追加

表面を意匠面１ａ’とした薄葉紙１ａの裏面側に、直接又は一若しくは二以上の中間層１ｂを挟んで、アルミ蒸着フィルム１ｃを積層させてなるものとした。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin-film element by which a thin-film element is manufactured through two-time vapor deposition, and a gap can be provided in the opening of a mask layer instead immediately under the mask.例文帳に追加

２回の蒸着作業で薄膜素子を製造し、かつマスク層の直下ではなくマスク層の開口部にギャップを配することも可能な薄膜素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an aluminum-added zinc oxide-based transparent conductive film which is excellent in conductivity, transparency and appearance, and can be film-deposited by using a conventional vacuum vapor deposition apparatus.例文帳に追加

本発明は、従来の真空蒸着設備を用い成膜することの出来る、導電性、透明性、及び外観に優れたアルミニウム添加酸化亜鉛系透明導電膜を提供する。 - 特許庁

The uniform and minute high-quality optical fiber preform can be manufactured by forming the outermost clad of the porous structure by the use of a method of vapor-phase axial deposition.例文帳に追加

これにより、多孔構造の最外側のクラッドを気相軸蒸着法を利用して形成することによって、均一で、かつ稠密な高品質の光ファイバー母材を生産できる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic electroluminescent element in which vapor deposition to form a minute pattern on a light-emitting layer or the like can be carried out easily in high reliability even with a large-sized substrate.例文帳に追加

発光層など、微小なパターンを形成する蒸着を、大型基板に対しても容易に信頼性高く行なえる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an asymmetric grounded susceptor (72) used in a plasma processing chamber (40) for chemical vapor deposition onto large rectangular panels (74) supported on and grounded by the susceptor.例文帳に追加

化学蒸着用プラズマ処理チャンバ（４０）に用いる非対称に接地されたサセプタ（７２）であって、サセプタによりサポートされ、接地された大きな矩形パネル（７４）が上にあるものを提供する。 - 特許庁

An aluminum vapor deposition film is provided on the surfrace of an unstretched polyethylene film with a thickness of below 30 μm comprising straight chain low density polyethylene manufactured using a metallocene catalyst.例文帳に追加

メタロセン触媒を用いることにより製造される直鎖状低密度ポリエチレンからなる厚さ３０μｍ未満の無延伸ポリエチレンフィルムの表面にアルミニウム蒸着膜を有している。 - 特許庁

To provide an industrially advantageous method in which contaminants are removed from a chlorosilane circulation system producing trichlorosilane when silicon is produced from trichlorosilane by a vapor deposition method.例文帳に追加

トリクロロシランからシリコンを蒸着法により製造する際に、トリクロロシランを製造するクロロシラン循環系から汚染物質を除去する工業的に有利な方法を提供する。 - 特許庁