「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(65ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for producing a precursor and a method for producing a Hf-based oxide gate insulation film by using the precursor, by specifying the precursor having little Zr content and physically and economically suitable for an ALD (Atomic Layer Deposition) and CVD (Chemical Vapor Deposition).例文帳に追加

ＡＬＤやＣＶＤ用として、物性的にも経済的にも好都合な、Ｚｒの少ないプリカーサーを特定し、その製造方法とそのブリカーサーを用いたＨｆ系酸化物ゲート絶縁膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To eliminate a deposition or an extraneous matter formed in each member or tool of an apparatus for manufacturing a thin film by vapor growth deposition, at high utility factor and high efficiency.例文帳に追加

気相蒸着により薄膜を作製する装置の各部材や治具に生成した堆積物や付着物を高効率、高能率で除去処理することのできる気相蒸着による薄膜作製装置用部材を提供する。 - 特許庁

To provide a heater CVD (Chemical Vapor Deposition) system suitable as a compact film deposition system for research, and capable of easily preventing silicidation at a low cost without requiring the addition of high-cost equipment by the introduction of gas as shown in the patent document 1.例文帳に追加

研究用の小型の製膜装置として適し、特許文献１のようなガス導入による高コストの設備を付加する必要なしに、簡易、且つ低コストにシリサイド化を防止し得る発熱体ＣＶＤ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a film deposition system in which an evaporation rate of a material and plasma density are set freely, gas barrier properties can be set freely independently of a deposition rate and a gas barrier laminate excellent in oxygen barrier properties and water vapor barrier properties is produced.例文帳に追加

材料の蒸発速度とプラズマ密度を自由に設定し、成膜速度に対するガスバリア性を自由に設定出来、酸素バリア性および水蒸気バリア性に優れたガスバリア性積層体を生産する成膜装置を提供する - 特許庁

To provide a device for fabricating an electrode by a roll-to-roll process and a method for fabricating an electrode, by which the process is made simple and the deposition rate and the deposition uniformity of lithium can be improved since lithium is vapor-deposited in a vacuum atmosphere.例文帳に追加

リチウムを真空雰囲気で蒸着するので工程が簡単になり、蒸着速度と蒸着の均一性を改善することのできる、ロールツーロール工程を用いた電極製造装置及び電極製造方法を提供する。 - 特許庁

The silicon carbide polycrystalline film 13, the silicon fine crystalline particles 12 or germanium fine crystalline particles are alternately deposited on a semiconductor substrate 16 at 850-1400°C by depressed chemical vapor deposition process or chemical deposition process.例文帳に追加

減圧化学気相堆積法又は化学気相堆積法により半導体基板１６上に８５０〜１４００℃でシリコンカ−バイド多結晶膜１３とシリコン微結晶粒子１２又はゲルマニウム微結晶粒子とを交互に堆積する。 - 特許庁

This Cr-B-N alloy film is formed preferably by a physical vapor deposition method, particularly, an ion plating method, a vacuum deposition method or a sputtering method, and the content of B is preferably controlled to 0.05 to 20 wt.%.例文帳に追加

このＣｒ−Ｂ−Ｎ合金皮膜が、物理的蒸着法、特にイオンプレーティング法、真空蒸着法またはスパッタリング法で形成されることが好ましく、Ｂ含有量が、０．０５〜２０重量％であることが好ましい。 - 特許庁

This ZnOx semiconductor layer is formed by using various thin film forming techniques such as a spin coat method, a DC sputtering method, an RF sputtering method, a metal organic vapor phase deposition (MOCVD) or an atomic layer deposition (ALD).例文帳に追加

このＺｎＯｘ半導体層を、スピンコート法、ＤＣスパッタリング法、ＲＦスパッタリング法、有機金属気相成長法（ＭＯＣＶＤ）または原子層堆積法（ＡＬＤ）のような様々な薄膜形成技術を用いて形成する。 - 特許庁

The organic thin film deposition system comprises a vapor deposition source for an organic material provided inside a vacuum tank 2, and a prescribed part in the vacuum tank 2 is provided with a peeling prevention treatment section 20 by thermal spraying .例文帳に追加

本発明の有機薄膜形成装置は、真空槽２内に設けられた有機材料用蒸着源を有し、真空槽２内の所定の部位に、溶射により表面処理された剥離防止処理部２０が設けられている。 - 特許庁

To provide a removing device for zinc-containing deposition with which the deposition on the inner wall around the inlet of a zinc recovering device for rapidly cooling gas containing zinc vapor with water, can efficiently be removed.例文帳に追加

本発明は、亜鉛蒸気を含むガスを水で急冷する亜鉛回収装置の入口周辺の内壁に付着する物質を効率良く除去可能な亜鉛含有付着物の除去装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a heating device capable of easily mounting an opened container in which deposition material is filled no matter whether the opening part of the container is upward or downward, and to provide a vapor deposition method using the heating device.例文帳に追加

蒸着材料が充填された開口容器を、その開口部が上向きであるか下向きであるかにかかわらず簡易に載置することが可能な加熱装置およびこの加熱装置を用いた蒸着方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a film deposition method and a film deposition apparatus obtaining a physically vapor-deposited film of the desired characteristic by irradiating a plurality of evaporation sources comprising a plurality of different materials with plasma beams from a plurality of pressure-gradient type Ar plasma guns.例文帳に追加

複数の異なる材料からなる蒸発源に対して複数の圧力勾配型Ａｒプラズマガンからのプラズマビームを照射することにより、所望特性の物理蒸着膜を得る成膜方法および装置を提供する。 - 特許庁

The film deposition system 30 has a plurality of rectangular, cylindrical partition members 23 arranged in parallel along the longitudinal direction L of vapor deposition sources 22 orthogonal to a scanning direction S.例文帳に追加

成膜装置３０は、基板２１の被蒸着面２１ａに離間対向した開口部をそれぞれ有し走査方向Ｓと直交する蒸着源２２の並び方向Ｌに沿って並設された矩形筒状の複数の区画部材２３を有する。 - 特許庁

2. Deposition rate monitoring devices capable of achieving control by employing computers and that utilize the principle of ionized atom photoluminescence of ionized atoms occurring in vapor flow to control the rate of deposition when coating with two or more elements 例文帳に追加

（二）　コンピュータを用いて制御することができる溶着速度の監視装置であって、二以上の元素をコーティングする際の溶着速度を制御するために蒸気流中におけるイオン化原子のホトルミネセンスの原理を利用するもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

To perform the prediction of the deposition rate for enhancing the rate on chemical vapor deposition of titanium nitride from a titanium containing precursor selected from the group consisting of tetrakis(dimethylamino) titanium, tetrakis(diethylamino) titanium and mixtures thereof.例文帳に追加

テトラキス（ジメチルアミノ）チタン、テトラキス（ジエチルアミノ）チタンおよびそれらの混合物からなる群より選ばれるチタン含有前駆体から窒化チタンを化学蒸着堆積するに際し、堆積速度を高めるためにその速度の予測を行う。 - 特許庁

To provide an apparatus for processing a surface of a substrate in physical vapor deposition (PVD) chamber that has an increased anode surface area to improve the deposition uniformity on large area substrates, and to provide a method therefor.例文帳に追加

本発明は、一般に、大面積基板における堆積の均一性を向上させるため、大きな陽極表面積を有する物理気相蒸着（ＰＶＤ）チャンバにおいて、基板表面を処理する装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing device includes: a crystal deposition device 10 for growing crystals by an organic metal vapor deposition or molecular beam epitaxy method on a substrate; and a heating laser irradiation device 20 for irradiating a heating laser beam 21 on a surface of the substrate.例文帳に追加

基板上に有機金属気相成長法又は分子線エピタキシー法により結晶を成長させる結晶成膜装置１０と、基板表面に加熱用レーザ光２１を照射する加熱レーザ照射装置２０とを備える。 - 特許庁

This inorganic oxide vapor-deposited laminated film is characterised by being constituted by forming a coating layer, which comprises a crosslinked copolymer having at least a carboxyl group and a quaternary ammonium base in its side chain, on the vapor deposition surface of a biaxially stretched base material having an inorganic oxide vapor deposition layer formed thereto through a polyurethane protective layer preferably comprising a polyester/polyether polyurethane.例文帳に追加

無機酸化物蒸着層を形成してなる二軸延伸フィルム基材の蒸着層面にポリウレタン系保護層、好ましくはポリエステルーポリエーテル系ポリウレタンからなるポリウレタン系保護層を介して、側鎖に少なくともカルボキシル基及び４級アンモニウム塩基を有する架橋共重合高分子からなる被覆層を形成してなることを特徴とする無機酸化物積層蒸着フィルムに関する。 - 特許庁

The 1st objective method for vacuum deposition polymerization comprises producing organic thin film by polymerization of an aromatic compound or polycyclic aliphatic compound having at least one acetylene group under a vacuum by heat treatment or ultraviolet irradiation either simultaneously with a vapor deposition or following the vapor deposition, to provide the thin film produced by the above method, and to provide electroluminescent elements each with at least one layer of the above thin film.例文帳に追加

１つ以上のアセチレン基を含む芳香族化合物、又は多環式脂肪族化合物を真空条件下で蒸着と同時に、あるいは蒸着後に熱処理又は紫外線照射により重合させて有機薄膜を製造する蒸着重合法、その方法に従って製造された蒸着重合薄膜及びその薄膜を１層以上に使用した電気発光素子に関する。 - 特許庁

A vapor deposition material 12 contg. gallium (II) or gallium (III) arranged together with metal gallium 13 in an evaporation crucible having a vapor current outlet 15 and with the entire side face closed is evaporated, the vapor is brought into contact with the metal gallium 13 to reduce the gallium (II) or gallium (III) to gallium (I), and the vapor is successively discharged toward a substrate through the outlet 15.例文帳に追加

蒸気流出口１５を有する全側面を閉鎖された蒸発坩堝内に金属ガリウム１３と共に配置された、ガリウムを二価又は三価の形で含む蒸着物質１２を蒸発させ、この蒸気を金属ガリウム１３と接触させ、二価又は三価のガリウムを一価のガリウムに還元し、引続き蒸気流出口１５を通して基板３の方向に流出させる。 - 特許庁

The present invention provides a manufacturing method comprising: a film formation process which forms vapor phase synthesized diamond film 2 on a main surface of a silicon substrate 1 by a vapor phase deposition method; a routing process which forms a pattern on the vapor phase synthesized diamond film 2 using a laser; and a protrusion process which forms a protrusion on the routed vapor phase synthesized diamond film 2 by a reactive chemical dry etching.例文帳に追加

本発明は、シリコン基板１主面部に気相合成法によって気相合成ダイヤモンド膜２を成膜する成膜工程と、該気相合成ダイヤモンド膜２をレーザーによって外形を切り出す外形工程と、切り出した気相合成ダイヤモンド膜２に反応性化学ドライエッチングによって突起を形成する突起工程を経ることを特徴とするダイヤモンドプローブの製造方法である。 - 特許庁

To provide a vapor phase deposition apparatus which can make a wafer autorotate freely irrespective of the presence or absence of revolution of a susceptor, and moreover can perform vapor phase growth without influencing the rotation of the wafer even if vapor phase growth conditions change in order to make variation in a film thickness of an epitaxial wafer still smaller than before.例文帳に追加

エピタキシャルウエーハの膜厚のばらつきを従来より更に小さくするために、サセプタの公転の有無に拘らずウエーハを自由に自転させることができ、また気相成長条件が変動してもウエーハの自転に影響を出さずに気相成長を行うことができる気相成長装置を提供する。 - 特許庁

To provide an easily bonding polyester film which has excellent adhesion to a vapor-deposited metal layer, accordingly shows excellent gas barrier property, water vapor barrier in particular after vapor deposition, and keeps the excellence in adhesion to a base film and the gas barrier property after a high temperature hot water treatment such as boiling, retort or the like, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

蒸着金属層との優れた接着性を有し、それにより蒸着後のガスバリア性，とりわけ水蒸気バリア性に優れ，かつ、ボイル、レトルトなどの高温熱水処理を施した後も、基材フィルムとの優れた接着性，ガスバリア性を有する易接着性ポリエステルフィルムおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a biaxially oriented polyamide film for transparent vapor deposition suitable as a film for packaging, particularly for food packaging which has low elongation in the transverse direction (TD direction) when moisture is absorbed and has low oxygen and water vapor permeability after oxides such as silicon oxides (SiOx) and aluminum oxides are vapor-deposited.例文帳に追加

吸湿時に横方向（ＴＤ方向）の伸び率が低く、かつ酸化珪素（ＳｉＯｘ）や酸化アルミニウムなどの酸化物を蒸着した後の酸素透過度、水蒸気透過度も低く、包装用、特に食品包装用フィルムとして好適な透明蒸着用二軸延伸ポリアミドフィルムを提供する。 - 特許庁

When electrode metallic films 2 are vapor-deposited by vapor deposition on each concave surface of a plurality of piezoelectric substrates 1 of the inverse-mesa structure formed on a piezoelectric material wafer, the electrode metallic films 2 are vapor-deposited by providing a mask 4 on a portion (rotating external edge end surface) 3 where the resist reservoir of each substrate concave on the wafer is formed.例文帳に追加

圧電材ウエハ上に逆メサ構造で複数個形成された圧電基板１のそれぞれの凹部面側に蒸着によって電極金属膜２を蒸着する際に、ウエハ上のそれぞれの基板凹部のレジスト溜りが形成される部分（回転外縁端面）３にマスク４を施して電極金属膜２を蒸着する。 - 特許庁

To measure and evaluate before formation of a thin deposition film, behaviors of a weblike plastic film under various conditions in vacuum inside a film testing machine in the weblike plastic film formed thereon with the thin deposition film by a chemical vapor deposition method(CVD) or the like, grasp the optimum film-forming condition based on a measuered result provided by the testing machine, and form the stable thin deposition film.例文帳に追加

化学気相成長法（ＣＶＤ）等により蒸着薄膜を成膜させるウェブ状プラスチックフイルムを薄膜形成前に、フイルム試験機内で真空中の各種条件下でのフイルムの挙動を測定、評価出来るようにし、該フイルム試験機で得られた測定結果を基に成膜の最適条件を把握し、安定した蒸着薄膜を形成させることを可能にすることである。 - 特許庁

An electrically conductive layer is deposited on a complex shaped Si-based substrate such as an integral vane ring and a integrally bladed rotor by fusion coating, a chemical vapor deposition process and a physical deposition process, and, as a protective coating, at least one barrier layer is deposited thereon by an electrophoretic deposition (EPD) process.例文帳に追加

一体型ベーンリングおよびブレード一体型ロータなどの複雑な形状を有するＳｉベース基材に、溶解塗装、化学蒸着法および物理蒸着法で導電層を堆積させ、その上に電気泳動堆積法（ＥＰＤ）により保護被覆として少なくとも１層のバリヤ層を堆積させる。 - 特許庁

To provide a material for vapor deposition or a material for ion-plating capable of obtaining a transparent conductive film of high density, high transparency and low resistance through the high-speed film deposition without any fluctuation in the composition during a sintering process or without generation of any nodule, deformation of a target, or damages such as cracks during the film deposition.例文帳に追加

高密度であって、焼結工程中に組成の変動が起こらず、成膜中に針立ちの発生やターゲットの変形およびひび割れ等の損傷が起こらず、高透明で低抵抗な透明導電膜を高速成膜により得ることが可能な蒸着用あるいはイオンプレーティング用材料を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the laminated thin-film device (an electrophotographic photoreceptor) by successively laminating at least two layers by a hot wire CVD (Chemical Vapor Deposition) process on a substrate 29 to be deposited with films, the component of heating element used for the deposition of the thin films afterward is made different from that used for the deposition of the previous thin films.例文帳に追加

被成膜用基板２９上にホットワイヤーＣＶＤ法により少なくとも２層を順次積層する積層型薄膜デバイス（電子写真感光体）の製造方法であって、先の薄膜の成膜に用いる発熱体の成分に対し、その後の薄膜の成膜に用いる発熱体の成分を違える。 - 特許庁

In this method for forming a molding die for an optical element to deposit at least a hard carbon film as a release layer on the molding face by an ion beam vapor deposition method, the hard carbon film is deposited under the conditions of 6 to 21 kV acceleration voltage in the initial stage of film deposition and 0.4 to 4 kV acceleration voltage in the final stage of film deposition.例文帳に追加

イオンビーム蒸着法により、成形面に少なくとも硬質炭素膜を離型層として形成する光学素子成形用型の形成方法において、該硬質炭素膜を成膜初期に加速電圧を６〜２１ｋＶとし、成膜終期に加速電圧を０．４〜４ｋＶとして印加し、成膜することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus, and a vacuum deposition method which can efficiently remove a metal layer deposited on an inner circumferential surface of a masking tape and prevent an oil for preventing the vapor deposition from coming around an outer circumferential surface of the endless masking tape and adversely affecting a polymer film.例文帳に追加

マスキングテープの内周面に積層した金属層を効率的に除去することができ、さらに蒸着防止用オイルが無端状のマスキングテープの外周面に回り込んで高分子フィルムに悪影響を与えることが防止できる真空蒸着装置および真空蒸着方法を提供すること。 - 特許庁

In this film deposition equipment for field assisted catalytic chemical vapor deposition; a potential is applied to a catalyst 5 for peripheral members of the catalyst to generate an electric field near the surface of the catalyst, a material gas is decomposed by the action between the electric field and electrons emitted from the heated catalyst to generate the deposition species or its derivative species, and then a thin film is formed.例文帳に追加

触媒体５の周辺部材に対して当該触媒体に電位を付与して、触媒体表面近傍に電界を生じさせ、その電界と加熱された触媒体から放出される電子との作用により原料ガスを分解して堆積種又はその誘導種を生成し、次いで薄膜を形成する。 - 特許庁

The Bi thin film is formed on a substrate at vapor deposition ratio of 0.1 to 10 μm/min by applying 1 to 100 mA current to a Bi solution by an electric plating method.例文帳に追加

常温で、電気めっき法によりＢｉ溶液に１〜１００mAの電流を印加することで、０．１〜１０μm/minの蒸着率で基板にＢｉ薄膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method for growing a carbon fiber at a low temperature capable of growing the carbon fiber at a low temperature of ≤450°C by an organic metal chemical vapor deposition process.例文帳に追加

有機金属化学気相蒸着法によって、４５０℃以下の低温でカーボンファイバを成長させることができるカーボンファイバの低温成長方法を提供する。 - 特許庁

This radiation image transformation panel is provided with a photostimulable phosphor layer 12, containing a photostimulable phosphor formed on a support body 11 by a vapor deposition method.例文帳に追加

放射線像変換パネルは、支持体１１上に気相堆積法により形成された輝尽性蛍光体を含有する輝尽性蛍光体層１２を備えている。 - 特許庁

To provide a mask which can enhance adhesiveness between a chip and a substrate to be treated even when a plurality of chips are fixed onto a supporting substrate, and to provide a mask vapor-deposition apparatus.例文帳に追加

複数のチップを支持基板に固定した場合でも、チップと被処理基板との密着性を高めることのできるマスクおよびマスク蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a cleaning method and a cleaning apparatus capable of easily removing organic compounds adhered to a vapor deposition mask for a low molecular organic EL apparatus.例文帳に追加

低分子有機ＥＬ装置の蒸着マスクに付着した有機物を容易に除去することが可能な、洗浄方法および洗浄装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide an evaporation source with a nozzle structure where a film thickness distribution is made uniform in the width direction of a substrate, and to provide a vacuum vapor deposition system using the same.例文帳に追加

膜厚分布が基板の幅方向において均一となるようにしたノズル構造を有する蒸発源およびこれを用いた真空蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a nozzle used for supplying a gaseous metallic strip in a chemical vapor deposition method with structure in which spraying of the gaseous raw material is made uniform in the transverse direction of the metallic strip.例文帳に追加

化学蒸着法における原料ガスの供給に用いるノズルに、原料ガスの吹き付けが金属ストリップの幅方向に均等となる構造を与える。 - 特許庁

To provide a vapor deposition system for resin thin films, which system can form the resin thin films stably for a long period of time and permits the freedom from maintenance in a resin evaporation section.例文帳に追加

樹脂薄膜を長時間安定して形成することができ、樹脂蒸発部におけるメンテナンスフリーを可能とする樹脂薄膜の蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition device capable of vapor-depositing a thin film of a prescribed film thickness in a short time even on a large glass substrate in particular as to a film forming device.例文帳に追加

成膜装置に関し、特に、大判のガラス基板上でも、短時間で所定膜厚の薄膜を蒸着させることが可能な真空蒸着装置に関する。 - 特許庁

In the display label, at least a base material layer pasted to the liquid container, a white PET layer, a print layer, and a vapor deposition PET layer are stacked in this order.例文帳に追加

そして、表示ラベルは、液体収容容器に貼着される基材層と、白ＰＥＴ層と、印刷層と、蒸着ＰＥＴ層とが、少なくともこの順序で積層される。 - 特許庁

To provide a game machine constituted so as to attain a high illumination effect even while turning the structure of each reflection surface to a simple structure for easily performing injection molding and vapor deposition.例文帳に追加

個々の反射面の構造を射出成形及び蒸着し易いシンプル構造にしながらも、高い電飾効果を実現し得るように構成した遊技機を提供する。 - 特許庁

To simply form a decorative panel having plating-like metal appearance at a low cost by applying a paint without using a conventional processing method (plating, vacuum vapor deposition or sputtering).例文帳に追加

めっき調の金属外観装飾板を従来の加工方法（めっき・真空蒸着・スパッタ等）を用いずに塗料を塗装することで簡単かつ低コストで形成する。 - 特許庁

To provide an optical film whose optical properties are stable when a metal film having light absorbing properties is formed on a substrate by vapor deposition, and to provide a film-forming method therefor.例文帳に追加

基板上に光吸収特性を有する金属膜を蒸着によって成膜する際に光学特性が安定した光学フィルタ及びその成膜方法を提供する。 - 特許庁