「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(72ページ目) - Weblio英語例文検索

To carry out proper cleaning of a susceptor after the maintenance, component replacement or the like are performed for a reaction vessel and the inside of the reaction vessel is exposed to the air before vapor deposition of a silicon thin film is started.例文帳に追加

反応容器のメンテナンス、部品交換等が行われて反応容器内が大気に曝された後、シリコン薄膜の気相成長を開始する前に、サセプタのクリーニングを適正に行う。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method excellent in reproducibility by which a satisfactory organic thin film can efficiently be produced without depending on the form of a sublimable or meltable organic material.例文帳に追加

昇華性または溶融性有機材料の形態に依存することなく、良好な有機薄膜を効率的に作製し得る、再現性に優れた蒸着方法を提供すること。 - 特許庁

A metallic thin film is formed on a surface of a semiconductor ceramic sintered body having a negative temperature characteristic of resistance by a vapor deposition or sputtering method, followed by a thermal treatment in an atmosphere.例文帳に追加

負の抵抗温度特性を有する半導体セラミック焼結体の表面に、蒸着又はスパッタリング法により金属薄膜を形成し、その後、大気中で熱処理する。 - 特許庁

The method for manufacturing includes: a base member molding step to form the base member by injection molding a heat-resistant plastic; and a vapor deposition step to form a transparent coating on the base member.例文帳に追加

耐熱性のプラスチックを射出成形することによって基材を形成する基材成形工程と、 その基材に対して透明皮膜を形成する蒸着工程とを含む。 - 特許庁

Also, preferably, a nitride layer is formed by interstitial element nitriding treatment or surface treatment of any on selected from chrome plating, composite chrome plating, composite plating, thermal spraying and physical vapor-deposition is performed.例文帳に追加

また、ピストンリングには、窒化層を侵入元素型の窒化処理によって形成したり、クロムメッキ、複合クロムメッキ、複合メッキ、溶射、物理蒸着の何れかの表面処理を施すことが好ましい。 - 特許庁

The film-like laminate is constituted by sequentially forming a plasma chemical vapor deposition layer of an organic metal compound and a conductor layer on at least one side surface of a heat resistant polymer film.例文帳に追加

耐熱性重合体フィルムの少なくとも片面に、有機金属化合物のプラズマＣＶＤ層および導電体層が逐次形成されたことを特徴とするフィルム状積層体。 - 特許庁

A metal pieces 7 is vaporized and the metal vapor deposition is carried out in an inner surface of the glass bulb 1 through the slit 3c by heating the metal piece 7 in the regulating tube 3.例文帳に追加

規制筒３内に金属片７を、金属片７を加熱することにより、金属片７を蒸散させスリット３ｃを通してガラスバルブ１内面に金属蒸着を行う。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus A deposits a thin film by disposing a host material 5 and a guest material 6 in a vacuum chamber 2, and mixing the guest material 6 in the host material 5.例文帳に追加

蒸着装置Ａは、ホスト材料５とゲスト材料６とを真空室２内に配設し、ホスト材料５中にゲスト材料６を混合して薄膜を形成するものに関する。 - 特許庁

It is recommended that thermosetting resin or UV-curing resin is used for the vapor-deposition anchor layer and vinyl chloride resin, acetate chloride resin, or acrylic resin is used for the resin layer where an image is formed.例文帳に追加

蒸着アンカー層は熱硬化型樹脂やＵＶ硬化型樹脂を用いると良く、画像が形成される樹脂層は塩ビ樹脂、塩酢ビ樹脂、アクリル樹脂を用いると良い。 - 特許庁

This mask is provided with a mask substrate 10 including a mask layer 3 and a mask pattern 4 having an opening part 5 of the mask tapered off toward a vapor deposition source.例文帳に追加

マスク層３を含むマスク基板１０と、そのマスク層３に形成され、蒸着源に向かって先細りした形状のマスク開口部５を有するマスクパターン４とを備えている。 - 特許庁

A protective layer is formed on one surface of a diamond film layer for reducing the deformation of the diamond film layer in the process of forming the diamond film layer by a chemical vapor deposition process.例文帳に追加

化学蒸着法によってダイヤモンド・フィルム層を形成する工程で、ダイヤモンド・フィルム層の変形を低減するために、保護層がダイヤモンド・フィルム層の1つの表面上に形成される。 - 特許庁

A vapor deposition layer 2 is formed on the face of a packaging body 1 contacting a content and sterilizing processing 3 is performed on the layer 2 of the body 1.例文帳に追加

包装体１における内容物と接する面に蒸着層２を形成し、蒸着層２上から殺菌処理３を行う包装体１の殺菌方法により、上記課題を解決する。 - 特許庁

In case where the thickness of the solid immersion lens 11 which is manufactured by a conventional method is thinner than a target value, an adjustment part 12 is added by a vapor-deposition in order to decrease the shortage of the thickness.例文帳に追加

従来法で製造された固体浸レンズ１１の厚さが目標値より薄い場合、厚さの不足量が小さくなるように調整部１２を蒸着により付加する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING BIS(ALKYLCYCLOPENTADIENYL) RUTHENIUM, BIS(ALKYLCYCLOPENTADIENYL)RUTHENIUM PRODUCED BY THE SAME METHOD AND METHOD FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF RUTHENIUM THIN FILM OR RUTHENIUM COMPOUND THIN FILM例文帳に追加

ビス（アルキルシクロペンタジエニル）ルテニウムの製造方法及びその方法により製造されるビス（アルキルシクロペンタジエニル）ルテニウム並びにルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜の化学気相蒸着方法 - 特許庁

To improve a working ratio and maintenability of the apparatus by quickly stopping the evaporation of a vapor deposition material after having finished film formation and inhibiting the material from depositing on a lid and an inner wall of a crucible.例文帳に追加

成膜終了後に蒸着材料の蒸発を素早く停止し、かつ蓋や坩堝内壁への材料付着を抑えて、装置稼動率やメンテナンス性を向上させる。 - 特許庁

To avoid cracking of a silicon wafer by preventing the silicon wafer from moving in a recessed portion of a susceptor of a vapor deposition apparatus and thus preventing a circumferential edge of the wafer from coming into contact with an inner peripheral surface of the recessed portion.例文帳に追加

気相成長装置のサセプタの凹部においてシリコンウェーハの移動を防止し、ウェーハの周縁部が凹部の内周面に接触することを防止してそのウェーハの割れを回避する。 - 特許庁

The thickness of the re-wiring 8 formed by a laminated body of the metal sputter layer or the metal vapor-deposition layer 23, and the thickness of the metal plating layer 29 is determined to be twice as much as that of the outermost layer of the film.例文帳に追加

金属スパッタ層又は金属蒸着層２３と金属めっき層２９との積層体をもって形成される再配線８の厚みを表皮の厚さの２倍以上とする。 - 特許庁

The device for manufacturing the preform of the optical fiber is characterized by forming a cross-sectional shape of a combustion nozzle hole of the side burner 5, which bakes and tightens the core part 1, rectangular in a VAD(vapor phase axial deposition) method.例文帳に追加

ＶＡＤ法においてコア部１を焼き締めるサイドバーナ５の燃焼ノズル孔の断面形状を矩形にすることを特徴とする光ファイバ母材の製造装置。 - 特許庁

To provide a vapor deposition system where a thin film of high quality can be deposited, further, the exchanging frequency of a sticking preventive plate is remarkably reduced, and production efficiency can be remarkably improved.例文帳に追加

高品質の薄膜を形成することができると共に、防着板の交換頻度を大幅に少なくし、製造効率を飛躍的に向上することができる蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor-deposition device and a film-forming device capable of rapidly forming a thin film having the uniform film thickness and containing few impurities on a large substrate and being continuously operated for long hours.例文帳に追加

大型基板上に膜厚が均一で不純物の少ない薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor-deposition apparatus which easily controls rotation while improving the uniformity of a thickness of a film formed on a substrate, and besides, can be formed into a small and compact size.例文帳に追加

、基板に形成される膜の膜厚の均一性をより向上しつつ、回転制御が簡単であり、しかも、小型コンパクトに形成することのできる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

The method of fabricating a silicon carbide semiconductor device having an SiO_2 film formed on the surface of an SiC layer uses a CVD (Chemical Vapor Deposition) oxide film deposited as the SiO_2 film by a CVD method.例文帳に追加

ＳｉＣ層の表面に形成されたＳｉＯ_2膜を有する半導体装置の製造において、当該ＳｉＯ_2膜としてＣＶＤ法により堆積したＣＶＤ酸化膜を用いる。 - 特許庁

In the method for producing the vapor deposition material, a sintering condition in a step for sintering the molded body is an air atmosphere and a sintering temperature is 200 to 700°C.例文帳に追加

また、蒸着材料の製造方法において、成型体を焼成する工程での焼成条件が大気雰囲気であり、かつ焼成温度が２００℃以上７００℃以下とする。 - 特許庁

To provide a vacuum arc vapor-deposition apparatus capable of generating a smooth thin film of high adhesiveness while being free from any macro-particles or the like in the film, and having excellent maintainability at low cost.例文帳に追加

膜中にマクロパーティクル等の混入のない、平滑で、密着性が高い薄膜を生成することができ、低コストでかつメンテナンス性も優れた装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a display element substrate of 3 Mask type by using photoresist being sufficiently strippable in a lift-off process irrespective of high temperature in vapor deposition.例文帳に追加

蒸着温度が高い場合であってもリフトオフプロセスにおいて十分に剥離することのできるフォトレジストを用いた３Ｍａｓｋ方式の表示素子基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Further the laminated material for the paper vessel for liquid comprises, from the outer layer: the thermoplastic resin layer; the paper layer; a vapor deposition film layer; the oxygen-absorbing resin composition layer; and the thermoplastic resin layer.例文帳に追加

さらには、少なくとも外層より、熱可塑性樹脂層、紙層、蒸着フィルム層、酸素吸収性樹脂組成物層、熱可塑性樹脂層の層構成としたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a mixture film forming device equipped with a measurement device for simultaneously detecting the film thickness and the composition of a mixture film formed by simultaneous vapor deposition of a plurality of materials.例文帳に追加

複数材料の同時蒸着により形成される混合薄膜の膜厚及び組成を同時に検出するための計測装置を備えた混合薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor-deposition apparatus and a film-forming apparatus which can rapidly form a thin film having a uniform film thickness and containing few impurities on a large substrate and can be continuously operated for long hours.例文帳に追加

大型基板上に膜厚が均一で不純物の少ない薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。 - 特許庁

Successively, a vapor deposition material composed of ZrO_2 or the like is heated by an electron beam, and further, ions are fed from an ion source 40, thus ion assist effect is imparted thereto, so as to deposit a ZrO_2 film.例文帳に追加

続いて、ＺｒＯ_２等の蒸着材料を電子ビームで加熱すると共にイオンソース４０からイオンを供給することによりイオンアシスト効果を付与しＺｒＯ_２膜を形成する。 - 特許庁

A metal thin film formed on a base material by vapor deposition, etc., is etched into a specific pattern to form an antenna 2 for sending and receiving signals to and from external equipment without contacting.例文帳に追加

基材上に蒸着等により金属薄膜を形成した後所定パターンにエッチングを施して、外部機器との間で非接触で信号を送受信するためのアンテナ２を形成する。 - 特許庁

The pre-wet filament within the specified weight range are sorted, and stored in a sealed bag 12 containing an oxygen adsorbent 11 until the time when the vapor deposition is actually performed.例文帳に追加

そして、これらプリウェット・フィラメントの内、一定の重量範囲のものを選別し、それらを、酸素吸着剤の入った密閉袋で、実際の蒸着作業を行う時期まで保管する。 - 特許庁

To obtain a reflection surface which realizes high reflectance/cost reduction and high strength/low expansion and has excellent shape accuracy without performing a succeeding process of forming a reflection film by vapor deposition.例文帳に追加

蒸着による反射膜の形成という後工程を行うことなく、高反射率・低コスト化及び高強度・低膨張とともに、優れた形状精度を有する反射面を得る。 - 特許庁

The sheets 100A and 110B are formed of laminate sheets in three-layered structure having a metallic film 136 formed by aluminum vapor-deposition, etc., between the two resin-made films 132 and 134.例文帳に追加

シート１１０Ａ、１１０Ｂは、２枚の樹脂製フィルム１３２、１３４の間にアルミ蒸着等による金属膜１３６を設けた３層構造のラミネートシートより構成されている。 - 特許庁

The rubber magnet sheet comprises rubber, magnetic powder dispersed in the rubber, wherein at least a part of the magnetic powder has on the outer surfaces of individual magnetic powder a zinc layer formed by means of plating or vapor deposition.例文帳に追加

ゴム磁石シートは、ゴムと、ゴム中に分散された磁性粉とからなり、少なくとも一部の磁性粉の外表面に、亜鉛層がメッキ、もしくは、蒸着により形成されてなる。 - 特許庁

The light blocking region 3 can be easily formed with means such as sputtering and vapor deposition of metal material such as Cr (chromium) and is provided with the structure 12 for light transmission.例文帳に追加

遮光領域３は、Ｃｒ（クロム）等の金属材料をスパッタ、蒸着等の手段を用いることで容易に形成できるもので、光を透過するための機構１２が備えられている。 - 特許庁

A layer 51 having a high refractive index and composed of such as magnesium fluoride, lead fluorination, and antimony oxide and a layer 52 having a low refractive index are alternately deposited on a substrate 3 by co-vapor-deposition.例文帳に追加

基板３にフッ化マグネシウム、フッ化鉛、及び酸化アンチモンなどから成る高屈折率を有する層５１と、低屈折率を有する層５２を共蒸着によって交互に堆積する。 - 特許庁

The ND filter 10 requires a film made thick because of the high density to prolong the vapor deposition time and to allow the temperature of the transparent resin substrate 31 to partially reach 170°C.例文帳に追加

ＮＤフィルタ１０は高濃度化のため必要な膜厚が厚くなり、その分蒸着時間が長くなり、透明樹脂基板３１の温度が部分的に１７０℃にまで達することがある。 - 特許庁

The gas for vapor deposition reaches a substrate 9 held by a substrate holder, and a predetermined thin film is created on the substrate 9 making use of the reaction of the gas in which the thermal catalyst 3 is involved.例文帳に追加

基板ホルダーに保持された基板９に蒸着用ガスが到達し、熱触媒体３が関与した蒸着用ガスの反応を利用して基板９に所定の薄膜が作成される。 - 特許庁

To provide a plasma CVD vapor deposition method, plasma processing or the like evenly performing a plasma processing on an inner surface of a cylinder-shaped structure without deforming the structure.例文帳に追加

本発明はプラズマＣＶＤ蒸着法やプラズマ処理などにおいて、筒状構造物を変形させることなく、該構造物内面に均一にプラズマ処理を行うことを目的とする。 - 特許庁

A coaxial type vacuum arc vapor deposition source 1 is used to fabricate the nanodots 33, which are buried in an insulating layer 34 and hold electric charges, from a metal material or semiconductor material.例文帳に追加

同軸型真空アーク蒸着源１を用いて、金属材料又は半導体材料から、絶縁層３４中に埋め込まれる、電荷を保持するためのナノドット３３を作製する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing silicon carbide with sufficient productivity without increasing crystal defects in the chemical vapor deposition of silicon carbide and, to provide large-diameter silicon carbide agglomerates.例文帳に追加

炭化珪素の気相成長において、結晶欠陥の増大を伴うことなく、十分な生産性を有する炭化珪素の製造方法、及び大口径の炭化珪素塊の提供。 - 特許庁

In manufacturing the resin container 10, the carbon film 12 containing the bond with hydrogen is formed on the inner surface of the container body 11 using a chemical vapor deposition (CVD) method.例文帳に追加

また、この樹脂容器１０を製造する際、水素との結合を含むカーボン膜１２を化学気相成長法（ＣＶＤ法）を用いて容器本体１１の内壁に成膜する。 - 特許庁

A Mylar(R) film 23a with aluminum layers which has aluminum vapor deposition layers 232 formed to both faces, and a holding member 22 for holding the Mylar film at its peripheral part are each stacked by a set of two, thereby constituting an incident window 2b.例文帳に追加

両面にアルミ蒸着層232 を形成されたアルミ層付マイラ膜23aと、その膜をその周辺部で保持する保持部材22とが、２組重ねられて入射窓2bを構成している。 - 特許庁

After the surface of an Si substrate 1 is subjected to pretreatment, an ultra-high-vacuum chemical vapor deposition device (UHV-CVD device) is used for forming an SiGeC layer 2 on the Si substrate 1.例文帳に追加

Ｓｉ基板１表面の前処理をした後、超高真空化学気相成長装置（ＵＨＶ−ＣＶＤ装置）を用いて、Ｓｉ基板１上に、ＳｉＧｅＣ層２を形成する。 - 特許庁

The vapor phase deposition apparatus 21 includes a reactor 22, a reaction pipe 23, a susceptor 27 for placing a substrate 26 to be processed, and a heater 33 for heating the substrate 26 through the susceptor 27.例文帳に追加

気相成長装置２１は、反応炉２２と、反応管２３と、被処理基板２６を載置するサセプタ２７と、サセプタ２７を介して被処理基板２６を加熱するヒータ３３とを備えている。 - 特許庁