「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(67ページ目) - Weblio英語例文検索

The Co thin-film layer 13 has a thickness of approximately 10 to 800 nm, and the Co thin-film layer 13 of this thickness can be formed by a vapor deposition method or a sputtering method.例文帳に追加

Ｃｏ薄膜層１３は、１０ｎｍ〜８００ｎｍ程度の厚さであり、この厚さのＣｏ薄膜層１３は、蒸着法、スパッタリング法によって形成することができる。 - 特許庁

Each nanotube 14 is grown by chemical vapor deposition catalyzed by a catalyst pad 10 and encased in a coating of a dielectric material 22.例文帳に追加

各々のナノチューブ１４は、触媒パッド１０によって触媒作用が及ぼされる化学気相成長法によって成長され、誘電体材料２２のコーティング内に包み込まれる。 - 特許庁

To accurately measure a surface temperature of a layer of a compound semiconductor laminated on a substrate, in manufacturing the compound semiconductor using an organometallic vapor deposition.例文帳に追加

有機金属気相成長法を用いた化合物半導体の製造において、基板上に積層される化合物半導体の層の表面温度を正確に測定する。 - 特許庁

The vapor deposition carbon fibers with a diameter of from 0.01 to 0.2 μm, a fiber length of from 1 to 500 μm, and an aspect ratio of around 10-500 are preferably blended.例文帳に追加

気相成長炭素繊維としては、直径が０．０１μｍ〜０．２μｍ、繊維長が１μｍ〜５００μｍ、アスペクト比が１０〜５００程度のものを配合すると好ましい。 - 特許庁

In order to reduce type particle contamination, the vapor phase raw material distribution system 30 is designed to reduce the difference, or ratio, between the pressure in the plenum 32 and the pressure in the deposition system.例文帳に追加

パーティクル汚染を低減するため、気相原料分散システム３０は、プレナム３２の圧力と成膜システムの圧力との差または比を低減するよう構成される。 - 特許庁

In this case, the gate oxide film 3 is formed by a catalytic chemical vapor deposition method, wherein insulating material is formed by bringing material gas into contact with a heated catalyzer.例文帳に追加

この際、加熱した触媒体に原料気体を接触させて絶縁物を生成する触媒化学気相成長法を用いてゲート酸化膜３を形成する。 - 特許庁

A metal mask (die) of stainless steel is covered on a ceramic substrate 12 so as to make no gap, and a conductive thin film electrode 11 is formed by vacuum vapor deposition.例文帳に追加

セラミック基板１２上にステンレス等からなるメタルマスク（金型）を隙間ができないように被せ、真空蒸着により導電性薄膜電極１１を形成する。 - 特許庁

To provide a fluorine-containing metal complex useful as a raw material for forming thin membrane by a chemical vapor deposition (CVD), and excellent in volatility and stability.例文帳に追加

気相化学反応（ＣＶＤ）により薄膜を形成させるための原料として有用な、気化性、安定性に優れた含フッ素金属錯体の合成方法を提供する。 - 特許庁

The lens 4 is rocked by the rocking mechanism 5 in such a manner that a vapor deposition region using cluster ion assist with an incidence angle of ≤30° covers the whole of the effective face of the lens 4.例文帳に追加

入射角３０度以下のクラスターイオンアシストを用いた蒸着領域がレンズ４の有効面全体に及ぶように、揺動機構５によってレンズ４を揺動させる。 - 特許庁

The upper metal layers 4 and the side metal layers 5 are formed by depositing a metal material from an oblique direction by a vapor deposition method or a sputtering method, for example.例文帳に追加

上部金属層４および側部金属層５は、例えば、斜め方向から蒸着法またはスパッタリング法によって金属材料を堆積させることによって形成する。 - 特許庁

To provide a biodegradable aluminized film preventing aluminum from falling off easily arfter vapor deposition, excellent in gas or steam barrier properties and particularly suitable as a packaging material.例文帳に追加

蒸着後のアルミニウムが容易に剥落せず、且つガスバリア性あるいは水蒸気バリア性に優れる、特に包装材に適した生分解性のアルミニウム蒸着フィルムを提供する。 - 特許庁

Since the light blocking region 3 is formed with means such as vapor deposition of Cr or the like, the mesh structure arranged in a part thereof can be easily formed by etching.例文帳に追加

この遮光領域３はＣｒ等を蒸着等によって形成したものであるため、その一部に設けるメッシュ構造は、エッチング手法によって容易に形成できる。 - 特許庁

To prevent ghosts, flares, and cracks from developing at the cutting section and the vapor deposition film from peeling off when cutting out optical filters in the filter shapes.例文帳に追加

ゴーストやフレア等の発生を防止すると共に、フィルタ形状に切断加工される際に、切断加工部からクラックが生じたり、蒸着膜が剥離したりすることを防止する。 - 特許庁

The MgAl_2O_4 film also has a high humidity resistance even with a thin film; thereby the film thickness of the metal vapor deposition electrode can be reduced while increasing the self-healing performance.例文帳に追加

またＭｇＡｌ_2Ｏ_4膜は薄くても高い耐湿性を有するため、金属蒸着電極の膜厚を小さくすることができ、セルフヒーリング性を高めることができる。 - 特許庁

In the manufacturing process of a semiconductor device, a method is indicated, where the method includes a step for exposing the surface of the substrate to a rapid thermochemical vapor deposition(RTCVD).例文帳に追加

半導体デバイスの製造プロセスにおいて、基板の表面を、窒化膜を形成する急速熱化学蒸着（ＲＴＣＶＤ）プロセスに暴露する段階を含む方法を示す。 - 特許庁

To provide a plasma CVD (chemical vapor deposition) system which can excite a plasma evenly over the entire electrode by generating a magnetic field in a region opposite to an electrode surface.例文帳に追加

電極面に対向する領域に磁場を生成することにより、電極全体にわたって均一なプラズマを励起することができるプラズマＣＶＤ装置の提供。 - 特許庁

To provide an apparatus and method of compounding a plurality of fluids dynamically and feeding the compounded gas mixture to one or more chemical vapor deposition equipment.例文帳に追加

複数の流体を動的に配合して、１以上の化学気相成長のための機器（８６）に配合ガス混合物を送出する装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The separator for a battery comprises a porous first film 10 made of organic material, and a second film 20 having vapor deposition particles 21 of inorganic material, formed on the first film.例文帳に追加

有機材料で形成される多孔性の第１の膜１０と、無機材料の蒸着粒子２１で第１の膜の面上に形成される第２の膜２０とを備える。 - 特許庁

The Al layer 12 is formed by a hot dip coating process or vapor deposition, such as a PVD process, and the AlN layer 13 is formed by subjecting the Al layer 12 to a nitriding treatment.例文帳に追加

Ａｌ層１２は、溶融めっき法やＰＶＤ法等の蒸着により形成され、ＡｌＮ層１３は、Ａｌ層１２を窒化処理することにより形成される。 - 特許庁

To provide a surface hydrophilization method capable of rapidly subjecting the surface of a polyurea membrane deposited by a vapor deposition polymerization method on an object to be deposited to hydrophilization.例文帳に追加

被成膜処理物に蒸着重合法により成膜するポリ尿素膜の表面を短時間で親水化することができる親水化方法を提供すること。 - 特許庁

Three robot arms (moving means) 106a, 106b, 106c mounted with different vapor deposition sources move in one chamber freely and carry out film-forming in the order and selectively.例文帳に追加

異なる蒸着源の搭載された３つのロボットアーム（移動手段）１０６ａ、１０６ｂ、１０６ｃが１つのチャンバー内を自在に移動して順次、選択的に成膜を行う。 - 特許庁

Regarding the film deposition system 10, the inside of a vacuum chamber 11 is provided with first and second copper crucibles 13a, 13b individually stored with Si and Co as the materials to be vapor-deposited.例文帳に追加

成膜装置１０は、真空チャンバー１１内に、被蒸着材料としてＳｉ，Ｃｏを個別に格納した第１，第２銅るつぼ１３ａ，１３ｂを備えている。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for vapor phase deposition, which can deposit a tungsten metal layer fully inside of a hole, for a substrate provided with the hole of a high aspect ratio.例文帳に追加

アスペクト比が高いホールが設けられた基板に対しても、ホール内に充分にタングステン金属層を埋め込むことが可能な気相堆積方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a compound semiconductor wafer with a high crystallinity and a uniform in-plane Al composition distribution by using a horizontal type MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) furnace rotating a substrate under a reaction gas.例文帳に追加

反応ガス下で基板を回転させる横型ＭＯＣＶＤ炉を用いて結晶性が高く、かつ、面内のＡｌ組成分布が均一な化合物半導体ウェハを得る。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor-deposition apparatus for forming a thin film of an organic compound while preventing a plurality of different types of evaporation sources from contaminating each other.例文帳に追加

互いに種類の異なる複数の蒸着源の相互間での汚染の発生を防止した、有機化合物の薄膜を形成するための真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

When forming the protective film which protects the main magnetic pole, the film is deposited by a sputtering system with a bias or by a carousel type sputtering system or a chemical vapor deposition (CVD) method.例文帳に追加

主磁極を保護する保護膜の形成時に、スパッタ装置でバイアスをかけて成膜するか、あるいは、カルーセル型スパッタ装置やケミカルベーパーデポジション（CVD）法で成膜する。 - 特許庁

To provide a method and a device for depositing an amorphous silicon film on a substrate using a high-density plasma chemical vapor deposition(HDP-CVD) technique.例文帳に追加

高密度プラズマ化学的気相堆積（ＨＤＰ−ＣＶＤ）技術を使用して、アモルファスシリコン膜を基板上に堆積するための方法および装置が提供される。 - 特許庁

The organic element promotes self assembly of these materials and permits adhesion of the materials under conditions of simple low- temperature treatment such as spin coating, dipping coating, thermal vapor- deposition, etc.例文帳に追加

有機成分はこれらの材料の自己アセンブリを促進し、スピン・コーティング、浸漬コーティング、熱蒸着などの簡単な低温処理条件で材料を付着できるようにする。 - 特許庁

To provide an organic film forming apparatus in which an organic film deposited at a point other than the substrate within a vacuum chamber can be prevented from peeling and long time continuous vapor deposition is possible.例文帳に追加

真空チャンバー内の基板以外の箇所に堆積した有機膜の剥がれを防止することができ、長時間の連続蒸着が可能な有機膜形成装置を得る。 - 特許庁

This seam like or endless belt-like electrophotographic photoreceptor has a metal oxide layer or non-metal oxide formed by vapor deposition between the conductive substrate and the photosensitive layer.例文帳に追加

導電性基体と感光層の間に、蒸着により形成された金属酸化物層又は非金属酸化物を有するシーム状又は無端ベルト状電子写真感光体。 - 特許庁

To provide a process for metal organic chemical vapor deposition for a lead germanium oxide (PGO) thin film and for an annealing process, and also to provide a system for performing them.例文帳に追加

ゲルマニウム酸化鉛（ＰＧＯ）薄膜材料のための金属有機化学気相成長およびアニーリングプロセス、ならびにそれらを実行するシステム提供すること。 - 特許庁

Granulated powder is produced using the mixed powder, and a ZnO vapor deposition material 34 made of ZnO sintered compact containing a rare earth element is produced through forming and sintering.例文帳に追加

この混成粉末を用いて造粒粉末を作製し、成形、焼結を経て、希土類元素を含むＺｎＯ焼結体からなるＺｎＯ蒸着材３４を作製する。 - 特許庁

Graphite layer or graphite layer with ceramics mixed thereto deposited by the chemical gas phase vapor deposition method is deposited as an acoustic matching layer (5) on one electrode (2) of a piezoelectric (1).例文帳に追加

圧電素子(1)の一方の電極(2)面に音響整合層(5)として化学気相蒸着法により形成した黒鉛もしくはセラミックスを混入した黒鉛を形成する。 - 特許庁

The second electrode structure has a transparent dielectric layer of a high refraction index as a main component, and all materials used can be deposited by a thermal vapor deposition method.例文帳に追加

該第２の電極構造は高屈折率の透明誘電層を主体とすると共に、使用される材料はいずれも熱蒸着方式で堆積することができる。 - 特許庁

To provide optical components produced by forming a plurality of films by vacuum vapor deposition on a plastic substrate and having high adhesion strength of the films and satisfactory durability.例文帳に追加

プラスチック基板に真空蒸着で複数の膜を形成してなる光学部品であって、膜の密着力が高く、良好な耐久性を有する光学部品を提供する。 - 特許庁

Lastly in a semiconductor manufacturing process (for example, sputtering method, vapor deposition method or the like), a metal film is formed as a plating seed layer on the surface of both ends of electronic element.例文帳に追加

最後に、半導体製造工程（例えば、スパッタリング法や、蒸着法等）を以ってめっき用種子層として電子素子の両端の表面に金属フィルムを形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing carbon nanotubes is carried out by disposing a metal thin wire 2 or a metal tape on a holding chip 1 and growing carbon nanotubes 5 on the metal thin wire or the metal tape by chemical vapor deposition.例文帳に追加

保持片１ 上に金属細線２ または金属テープを配し、金属細線または金属テープ上に化学蒸着法によりカーボンナノチューブ５ を成長させる。 - 特許庁

To provide a susceptor and a vapor deposition device that can improve substantial availability by shortening the time needed to take an object to be processed out.例文帳に追加

処理対象物の取出しに要する時間を短縮することで、実質的な稼働率を向上させることが可能なサセプタおよび気相成長装置を提供する。 - 特許庁

On the passivation films 15 and 16, an SiN film 19 (a second passivation film) is formed as a passivation film as a top layer by using a catalyst chemical vapor deposition method.例文帳に追加

そして、パッシベーション膜１５，１６上に、触媒化学気相成長法を用いて、最上層のパッシベーション膜としてＳｉＮ膜１９（第２パッシベーション膜）が形成されている。 - 特許庁

The organic EL vapor deposition material is heated in an inert gas at atmospheric pressure to a melting point or higher up to a physical property in which the degree of a vacuum is not lowered for double figures or more by a logarithmic expression.例文帳に追加

真空度が対数表示で２桁以上低下しない物性まで大気圧下、不活性ガス中で融点以上に有機ＥＬ蒸着材料の加熱を行う。 - 特許庁

A layer 21 of a substance having high refractive index and a layer 22 of a substance having low refractive index are deposited through vapor deposition on the outer surfaces 108a, b of the glass substrates 107a, b, respectively.例文帳に追加

ガラス基板１０７ａ，ｂの外表面１０８ａ，ｂには屈折率が高い物質層２１及び屈折率が低い物質層２２が蒸着により積層されている。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method in which the influence of the shadowing phenomenon is less even when foreign matters (fine dusts) are present on a substrate, and a manufacturing method of a display device.例文帳に追加

基板上に異物（微細な塵）が存在したとしても、シャドーイング現象の影響が少ない蒸着方法及び表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a thin film by chemical vapor deposition, which prevents erosion of a substrate, restrains leakage of an electric current, and improves flatness of the film surface.例文帳に追加

基板の侵食を防止して漏洩電流を押さえ、膜表面の平坦性を向上した化学気相成長法による金属薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a thin film by chemical vapor deposition, which prevents erosion of a substrate, reduces a leakage current, and improves flatness of the film surface.例文帳に追加

基板の侵食を防止して漏洩電流を押さえ、膜表面の平坦性を向上した化学気相成長法による薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem caused by the sagging of a high temperature medium 4 in a chemical vapor deposition system where a high temperature medium CVD process is performed, and to improve running cost and productivity.例文帳に追加

高温媒体ＣＶＤ法を行う化学蒸着装置において、高温媒体４の垂れに起因した問題を解消し、ランニングコストや生産性を向上させる。 - 特許庁