「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(75ページ目) - Weblio英語例文検索

For the heating element 3, a coating film of tungsten of which the impurity metal content is ≤0.01 weight% is formed on a surface of a base member made of tungsten, by an electron beam vapor deposition method taking tungsten powder of which the impurity metal content is ≤0.01 weight%, as an evaporation source or a chemical vapor deposition method using reduction with hydrogen of tungsten hexafluoride.例文帳に追加

発熱体３は、タングステン製の基体の表面に、不純物金属含有量が０．０１重量％以下のタングステン粉末を蒸発源とした電子ビーム蒸着法又は六フッ化タングステンの水素による還元反応を利用した化学蒸着法により、不純物金属含有量が０．０１重量％以下のタングステンの被覆膜を形成したものである。 - 特許庁

The sensor includes a base material 5, the vapor deposition layer 6 comprising a plurality of the particles 8 accumulated on the base material 5 in a branched state to be integrally bonded to each other and a plurality of the functional molecules 7 joined to the surfaces of the particles 8 of the vapor deposition layer 6, and the surfaces of the respective particles 8 contains aluminum oxide as the main component.例文帳に追加

この目的を達成するために本発明は、基材５と、この基材５上に枝分かれしながら積み重なり、一体的に結合した複数の粒子８からなる蒸着層６と、この蒸着層６の粒子８の表面に接合した複数の機能性分子７とを備え、それぞれの粒子８の表面は、酸化アルミニウムを主成分とするものとした。 - 特許庁

To provide a heat-sealable polypropylene film which inexpensively satisfying excellent slip properties, both antiblocking characteristics and heat sealability while restricting an organic and/or inorganic lubricant and an antiblocking agent in the heat-sealing layer provided at least on one side of a polypropylene film, is excellent in the grade of a vapor deposition film especially in a case that a metal vapor deposition film is constituted and can develop high barrier characteristics.例文帳に追加

ポリプロピレンフイルムの少なくとも片面に設けたヒートシール層において、有機及び／または無機の滑り剤、アンチブロッキング剤を制限しながら、優れた滑り性、アンチブロッキング特性とヒートシール性を安価に両立することを課題とし、特に金属蒸着フイルムを構成した場合、蒸着膜の品位に優れ、高いバリア特性を発揮できるヒートシール性ポリプロピレンフイルムを提供する。 - 特許庁

A laminated packaging material for boiling or retorting treatment is constituted by providing an oxygen plasma treated surface to one surface of a base material film and providing a vapor deposition film of inorganic oxide on the oxygen plasma treated surface and further laminating at least a heat-sealable resin layer on the vapor deposition film of inorganic oxide through a primer agent layer and a laminating adhesive layer.例文帳に追加

基材フィルムの一方の面に、酸素プラズマ処理面を設け、更に、該酸素プラズマ処理面の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の上に、プライマ−剤層とラミネ−ト用接着剤層とを介して、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂層を積層したことを特徴とするボイルないしレトルト処理用積層包装材に関するものである。 - 特許庁

To provide a vapor deposition film excellent in transparency, having high gas barrier properties, having excellent heat sterilization resistance not generating the deterioration of physical properties, delamination or the like even after boiling sterilization or retort sterilization and having high practicality, and to provide a laminate, which is provided with ultraviolet absorbing capacity capable of preventing the deterioration of content by ultraviolet rays or the like, using the vapor deposition film.例文帳に追加

透明性に優れ、かつ、高いガスバリア性を有すると共にボイル殺菌やレトルト殺菌後も物性の劣化がなく、デラミネーション等が発生しない優れた加熱殺菌耐性を有する実用性の高い蒸着フィルムとこの蒸着フイルムを用い、紫外線等による内容物の変質等を防ぐ事が出来る紫外線吸収能を付与した積層体を提供することにある。 - 特許庁

To provide a packaging laminate having gas barrier properties constituted so as to prevent not only a deterioration in adhesion or gas barrier properties but also the taste deterioration of content caused by an ink component even if heat treatment is applied under high temperature and high-pressure water is applied by reinforcing the adhesion of a gas barrier vapor deposition thin film layer and reducing the retorting and impact to the vapor deposition thin film layer.例文帳に追加

ガスバリア性の蒸着薄膜層の密着を強化し、また蒸着薄膜層へのレトルト・インパクトを緩和できる構成とすることで、高温高圧水下での加熱処理が施されても密着性やガスバリア性等が劣化せず、またインキ成分による内容物の味覚劣化をも防止できるようにした、ガスバリア性を有する包装用積層体の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a practically excellent method for feeding a metallic material which can set the feed rate of the metallic material at an appropriate amount by a simple structure, stabilizes the film thickness distribution and film quality of the vapor deposition surface of an object for vapor deposition, increases the life time of a crucible, prevents the periphery of the crucible from becoming dirty, and allows easy application to existing facilities.例文帳に追加

簡易な構成で金属材料の供給量を適正量に設定することが可能で、蒸着対象の蒸着面の膜厚分布及び膜質が安定し、また、坩堝の耐用期間が長期化し、更に、坩堝の周辺が汚れ難くなり、しかも、既存設備への適用も容易な極めて実用性に秀れた金属材料供給方法の提供。 - 特許庁

The method, the computer readable medium and the system for vapor deposition on a substrate introduce a first process gas composition to a process space according to a first vapor deposition process, deposit a first film on the substrate, introduce a second process gas composition into a second process space different in size from the first process space, and deposit a second film on the substrate from the second process gas composition.例文帳に追加

第１の蒸着プロセスに係る処理空間に第１のプロセスガス組成を導入し、基板上に第１の膜を堆積させ、第１の処理空間よりサイズが異なる第２の処理空間に第２のプロセスガス組成を導入し、そして第２のプロセスガス組成から基板上に第２の膜を堆積させる基板上への蒸着のための方法、コンピュータ読み取り可能なメディア、およびシステムである。 - 特許庁

To provide a gas-barrier film which has an inorganic vapor deposition layer of a metal or an inorganic oxide on at least one side of a plastic film substrate, is improved in bending resistance and oxygen-barrier properties of an inorganic vapor deposition film, prevents the improved properties from being deteriorated by moisture, and has moisture resistance and a method for producing the film.例文帳に追加

本発明は、プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に金属または無機酸化物からなる無機蒸着層を有する無機蒸着フィルムの耐屈曲性と耐酸素透過性を向上させると共に、向上した諸特性が水分によっても低下しないようにした、耐湿性を有するガスバリア性フィルムとその製造方法の提供を目的とする。 - 特許庁

The tantalum aluminum film is vapor grown by a plasmal flow containing deposition species of the tantalum formed by reducing gaseous tantalum halide by hydrogen active species and DMAH (Dimethylaluminum hydride) or the tantalum nitride aluminum film is vapor grown by a plasmal flow containing the deposition species of the tantalum nitride formed by reducing the gaseous tantalum halide by the hydrogen active species and the DMAH.例文帳に追加

本発明は、タンタルハロゲン化物ガスを水素活性種で還元して生成したタンタルの成膜種を含むプラズマ流とＤＭＡＨとによりタンタルアルミ膜を気相成長させ、又はタンタルハロゲン化物ガスを水素活性種、窒素活性種と反応させて生成した窒化タンタルの成膜種を含むプラズマ流とＤＭＡＨとにより窒化タンタルアルミ膜を気相成長させる。 - 特許庁

The copper foil with the carrier foil has the copper foil layer on the surface of the carrier foil through a bonding interface layer and is characterized in that the bonding interface layer is a composite layer composed of an independent carbon layer formed by a physical vapor deposition method or a metal layer and the carbon layer and the copper foil layer is formed by the physical vapor deposition method.例文帳に追加

前記課題を解決するために、キャリア箔の表面に接合界面層を介して銅箔層を有するキャリア箔付銅箔であって、当該接合界面層は物理蒸着法で形成した単独の炭素層又は金属層と炭素層とからなる複合層であり、当該銅箔層は物理蒸着法で形成したことを特徴とするキャリア箔付銅箔を採用する。 - 特許庁

In the matte metallized film which has good printability and constituted by providing a metal vapor deposition layer on the single surface of a film base material, the film base material is a polyolefinic film having a roughened surface on at least the single surface thereof and has the metal vapor deposition layer on one surface thereof and has an easy printing layer containing an oxazoline group modified resin as a component on the other surface thereof.例文帳に追加

フィルム基材の片面に金属蒸着層を有する蒸着フィルムにおいて、フィルム基材が少なくとも片面に粗面化面を有するポリオレフィン系フィルムであり、一方の面に金属蒸着層を有し、他方の面にオキサゾリン基変性樹脂を成分として含む易印刷層を有することを特徴とする印刷性が良好な艶消し蒸着フィルムである。 - 特許庁

In a capacitor element 17 formed by winding or stacking a metallized film 13 having a metal deposition electrode 12 formed on a dielectric film 11 of polypropylene, polyethylene terephthalate, etc., and a metallized film 16 having a metal deposition electrode 15 formed on a dielectric film 14 alternately one over the other, the metal deposition electrode 12 is formed by vapor-depositing aluminum and the 15 is formed by vapor-depositing zinc or zinc alloy.例文帳に追加

ポリプロピレンやポリエチレンテレフタレートなどの誘電体フィルム１１に金属蒸着電極１２を形成した金属化フィルム１３と、誘電体フィルム１４に金属蒸着電極１５を形成した金属化フィルム１６が交互になるように重ね合わせて巻回または積層したコンデンサ素子１７において、金属蒸着電極１２はアルミニウムを蒸着して形成し、また金属蒸着電極１５は亜鉛または亜鉛合金を蒸着して形成する。 - 特許庁

Adhesive force between the support body and the stimulable phosphor layer is 2-100MPa, in this radiographic image conversion panel formed with the stimulable phosphor layer on the support body by a vapor deposition method (vapor phase method), and provided with the protection layer on the stimulable phosphor layer.例文帳に追加

支持体４上に輝尽性蛍光体層を気相堆積法（気相法）により形成し、該輝尽性蛍光体層上に保護層を設けた放射線画像変換パネルにおいて、支持体と輝尽性蛍光体層間の付着力が２〜１００ＭＰａであることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a vapor deposition system for forming vapor-depositing a thin film on a substrate in a vacuum which has a simple constitution, can reduce its cost, can easily obtain a uniform film thickness distribution in a large area, and can efficiently use an evaporation material to reduce the waste of the material.例文帳に追加

真空中で基板上に薄膜を蒸着形成する際に、簡易な装置構成で、装置コストの低減を図ることができ、また大面積で均一な膜厚分布を容易に得ることができるようにし、更に、蒸発材料の使用効率が良く、材料のむだを減らすことができるようにする。 - 特許庁

In order to manufacture the glass plate 1 coated with a conductive transparent metal oxide 3 by chemical vapor deposition, the conductive transparent metal oxide 3 is chemically vapor-deposited on the glass plate 1 at a coating temperature exceeding but not lower than 50°C temperature of glass transition.例文帳に追加

化学蒸着によって導電性透明金属酸化物３でコートされたガラス板１を製作するために、ガラス板１への前記導電性透明金属酸化物３の化学蒸着が、ガラスの転移温度を５０℃を超えて下回らないコーティング温度で実行される。 - 特許庁

This method includes a vapor deposition process step of vapor depositing a resin material by heating the resin material at a heating temperature higher than the melting point of the resin material in a reduced pressure atmosphere and the viscosity average molecular weight of the resin material is within a range from 100 to 1,000,000.例文帳に追加

減圧雰囲気下において、樹脂材料の融点よりも高い加熱温度で樹脂材料を加熱することによって樹脂材料を蒸着する蒸着工程を含み、上記樹脂材料の粘度平均分子量が１００〜１００００００の範囲内である。 - 特許庁

To provide a method for forming metal wiring of a semiconductor element that selectively vapor-deposits a metal layer having low specific resistance and flattens it after heat treatment by applying chemical vapor deposition only to an upper part of a barrier metal layer inside a trench, thereby being able to form a low specific resistance metal wiring.例文帳に追加

トレンチ内の障壁金属層の上部にのみ化学気相蒸着方法を用いて選択的に比抵抗が低い金属層を蒸着し、熱処理を実施した後、平坦化して低抵抗金属配線を形成することができる半導体素子の金属配線形成方法を提供する。 - 特許庁

In this way, it becomes possible to realize a uniform vapor-deposited film thickness distribution on the substrate, to increase the evaporant utilization efficiency, to suppress the thermal damage to the evaporant formed on the substrate, and to prevent the buildup of the evaporant near the vapor deposition nozzles.例文帳に追加

これによって、基板における蒸着膜厚分布を均一化でき、蒸着材料の利用効率を上昇させ、基板に形成された蒸発物質に対する熱によるダメージを抑えることが出来、蒸着ノズル付近における蒸発物質の堆積を防止することが出来る。 - 特許庁

The atmospheric deposition method of the anti-fouling film includes: a step of providing a substrate; a gasification step of gasifying an anti-fouling coating solution to form a plurality of film coating vapor molecules; and a step of depositing the film coating vapor molecules on a surface of the substrate to form the anti-fouling film.例文帳に追加

この防汚フィルムの常圧蒸着法は、基材を提供するステップと、複数の防汚蒸気分子を形成するように、防汚塗料溶液を気化させる気化ステップと、防汚フィルムを形成するように、これらの防汚蒸気分子を基材の一表面に堆積させるステップと、を備える。 - 特許庁

To provide a shower head used for a CECVD system by which, when vapor-depositing a metallic thin film by a CVD method by chemical treatment with a catalyst, chemical treatment is uniformly performed, and the vapor deposition rate, texture, adhesive properties or the like of the metallic thin film can be improved.例文帳に追加

触媒などの化学的処理によってＣＶＤ法で金属薄膜を蒸着する際、化学的処理を均一に行えるようにして、金属薄膜の蒸着速度、質感、粘着特性などを改善することができる、ＣＥＣＶＤ装備に用いられるシャワーヘッドを提供すること。 - 特許庁

In the inorganic film deposition system, treatment vapor is jetted from the jet ports 1434b, 1434a of the treatment vapor application part located respectively at the oblique upper parts of the first electrodes 91 and the second electrodes 92 in the crystal oscillators 9 toward the first electrodes 91 and the second electrodes 92.例文帳に追加

無機膜形成装置では、水晶振動子９の第１電極９１および第２電極９２の斜め上方にそれぞれ位置する処理蒸気付与部の噴出口１４３４ｂ，１４３４ａから、第１電極９１および第２電極９２に向けて処理蒸気が噴出される。 - 特許庁

The opening 4 preferably has a fan shape in which a pivot corresponds to the center point of the wafer W, and, furthermore, a point at which the normal of a vapor deposition beam B is made incident on the wafer W from the vapor depositing source 2 preferably lies on the center in the opening 4 or in the vicinity thereof.例文帳に追加

前記開口４の形状はウエハＷの中心点Ｐに要が一致する扇形であることが好ましく、また、蒸着源２からウエハＷへの蒸着ビームＢの法線が入射する点が前記開口４内の中央或いはその近傍にあることが好ましい。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can attain improvement of a capacitance equivalent thickness and a leakage current characteristic through the formation of an amorphous high-dielectric insulating film with a high density using a precursor which can be vapor-deposited by means of an atomic layer vapor-deposition process at a temperature of 400°C or higher.例文帳に追加

400℃以上の温度で原子層蒸着法により蒸着が可能な前駆体を用いて高密度を有する非晶質の高誘電絶縁膜形成を通じてキャパシタンス等価厚及び漏洩電流特性を向上させることができる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyester resin composition which is excellent in suitability to direct metal vapor deposition, surface smoothness, shock resistance and mold releasability and producing a molded article excellent in fogging property, and a light reflector excellent in brightness, in which a metal vapor-deposited film is formed on a molded article of the polyester resin composition.例文帳に追加

直接金属蒸着性、表面平滑性、衝撃性、離型性に優れ、かつフォギング性に優れた成形品を製造することができるポリエステル樹脂組成物、および該ポリエステル樹脂組成物の成形品に金属蒸着膜を形成した、輝度感に優れた光反射体を提供する。 - 特許庁

Further, a method for manufacturing the electro-magnetic wave transmittable metalized hologram transfer material is provided wherein the indium/indium oxide composite vapor deposited film is formed by an activated reaction vapor deposition method using a high frequency excited plasma or an electron beam oxidation anodic plasma.例文帳に追加

更に、本発明によれば、高周波励起プラズマ又は電子線酸化陽極プラズマを用いる活性化反応性蒸着法にて上記インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を形成する上記電磁波透過性金属蒸着ホログラム転写材の製造方法が提供される。 - 特許庁

The thermal transfer receptive sheet with an intermediate layer having empty particles, and an image receptive layer sequentially laminated on at least one surface of a sheet-like support body, is further provided with a metal vapor-deposited layer formed by a direct vapor deposition method between the intermediate layer and the image receptive layer.例文帳に追加

シート状支持体の少なくとも一面に、中空粒子を含有する中間層、画像受容層が順次積層された熱転写受容シートにおいて、中間層と画像受容層の間に、さらに直接蒸着法で形成された金属蒸着層を設ける。 - 特許庁

For the polymer material for the living body, plasma irradiation is performed to the surface of the polymer material, preferably acrylic polymer or polyurethane, by using oxygen, water vapor or argon preferably, then a chemical vapor deposition method is performed, and the thickness of a diamond-like carbon coating layer is 0.01-3.0 μm preferably.例文帳に追加

高分子材料、好ましくはアクリル系ポリマーまたはポリウレタンの表面を、好ましくは酸素、水蒸気、またはアルゴンを用いてプラズマ照射した後に化学蒸着法により、好ましくはダイヤモンドライクカーボン被覆層の厚さが０．０１〜３．０μｍである生体用高分子材料。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus comprising as a vaporization assembly a container in form of a boat or crucible having a bottom and side walls and a support for vapor depositing phosphor or scintillator material thereupon in form of a layer from evaporated raw materials present in the container.例文帳に追加

底部及び側壁を有するボート又はるつぼの形の容器、及び前記容器に存在する蒸発された原材料から燐光体又はシンチレータ材料を層の形でその上に蒸着するための支持体を蒸着アセンブリとして含む蒸着装置を提供する。 - 特許庁

Thus, the vapor deposition of the metal gas to the exposed surface 31a of the transparent plate 31 is prevented, and also even if the metal gas is vapor-deposited to the exposed surface 31a of the transparent plate 31, deposits are removed by melting them by heating.例文帳に追加

これにより、透明板３１の露出面３１ａに金属ガスが蒸着することを防止することが可能となるうえ、透明板３１の露出面３１ａに金属ガスが蒸着していたとしても、加熱により蒸着物を融解させることにより除去することが可能となる。 - 特許庁

To provide a surface treatment method for stably vapor depositing an easily oxidizable vapor deposition material such as aluminum on an article to be treated such as a rare earth based permanent magnet without taking a long time for obtaining high vacuum degree and without using a special device.例文帳に追加

高い真空度を得るために長時間をかけたり、特別の装置を使用したりすることなく、アルミニウムのような易酸化性蒸着材料を希土類系永久磁石のような被処理物に安定に蒸着させるための表面処理方法などを提供すること。 - 特許庁

While disposing a first shutter 10A so that the first region of the principal surface of a substrate 200 contained in a vacuum vessel 50 is exposed to a vapor deposition source 60 and the second region is shielded, a first thin film is deposited on the first region by first deposition conditions.例文帳に追加

真空容器５０内に収められた基板２００の主面の第１の領域を蒸着源６０へ露出しかつ第２の領域を遮蔽するように第１のシャッター１０Ａを配置しながら、第１の成膜条件によって第１の領域の上に第１の薄膜が成膜される。 - 特許庁

To obtain a grain-oriented silicon steel sheet strip with a ceramics film which is excellent in steel sheet shape without causing warpage on a steel sheet after the film deposition even when the ceramics film is deposited on a long-length steel sheet strip by a CVD (Chemical Vapor Deposition) process using a metal chloride as raw material.例文帳に追加

金属塩化物を原料とするＣＶＤ法により、長尺の鋼板ストリップに対してセラミクス被膜を成膜した場合であっても、成膜後に鋼板に反りが生じることのない、鋼板形状に優れたセラミクス被膜付き方向性電磁鋼板ストリップを得る。 - 特許庁

To efficiently produce a net which can be used for a bird control net, an insect control net or for the other purposes, and in which at least one side is provided with a vapor deposition film composed of a metal, an alloy, a metallic compound or the like by physical deposition such as sputtering without wasting the film material.例文帳に追加

防鳥ネットまたは防虫ネットその他の目的に使用可能なネットであって、少なくとも片面に金属や合金、金属化合物等からなる蒸着膜を備えたネットを、スパッタリング等の物理蒸着により、被膜材料の無駄がなく、効率的に生産できるようにする。 - 特許庁

The gas-barrier deposition film in which an oxide vapor deposition film, a barrier coat, and a heat-sealable resin layer overlie one side of a base film made of a polyester produced by using a titanium catalyst as a polycondensation catalyst, an infusion solution bag using the film, and an outer packaging bag for the infusion solution bag are disclosed.例文帳に追加

重縮合触媒としてチタン系触媒を使用して製造したポリエステルフィルムからなる基材フィルムの一方の面に、酸化物蒸着膜、バリアコート及びヒートシール性樹脂層を積層したガスバリア性蒸着フィルム、並びにそれを用いた輸液バッグ及び輸液バッグ用外装袋。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus for forming a thin film on a substrate with the use of a corrective plate, which reduces deposits transferred from the corrective plate to the substrate, uniformly heats the substrate to improve the film quality, and further installs a reversal mechanism to conduct an effective vapor deposition onto both sides of the substrate.例文帳に追加

補正板を用いて基体に薄膜を形成する真空蒸着装置において、補正板から基体への付着物を少なくするとともに基体を均一に加熱して膜質を向上し、さらに、反転機構を設けることにより基体の両面を効率よく蒸着する。 - 特許庁

To provide a film deposition method effectively applicable even to a non-pressure resisting plastic vessel in which deformation easily occurs by an internal-external pressure difference, and capable of depositing a vapor deposition film substantially over the whole of the inside face including the bottom part by a microwave plasma CVD method.例文帳に追加

内外圧差によって容易に変形が生じてしまう非耐圧性プラスチック容器にも有効に適用でき、しかも底部を含めて内面の実質上全体にわたって蒸着膜をマイクロ波プラズマＣＶＤ法によって形成することができる成膜方法を提供する。 - 特許庁

A shadow mask used for the deposition of vapor deposition polymerization film on a substrate includes a base material having an inverse tapered cross sectional shape gradually protruding on an opening space side and a polymerization inhibition film deposited on at least an opposite surface of the base material with respect to a contact surface thereof which is in contact with the substrate.例文帳に追加

基板上の蒸着重合膜の成膜用のシャドウマスクは、開口空間側に徐々に突出する逆テーパ断面形状を有する基材と基材の少なくとも基板に接触する接触面の反対面に成膜された重合抑制膜とを有する。 - 特許庁

The radio-wave-transmitting decorative member 10 comprises: a base 12; and a light reflection layer 14 which is disposed on the base 12 and is made of a semiconductor substance, wherein, as the light reflection layer 14, a vapor deposition film formed by physical deposition of the semiconductor substance is preferably used.例文帳に追加

該課題は、基体１２と、該基体１２上に設けられた、半導体物質からなる光反射層１４とを有する電波透過性装飾部材１０により解決され、光反射層１４としては、半導体物質の物理的蒸着によって形成された蒸着膜であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a polyalkylene naphthalate film from which a vapor-deposition type magnetic recording medium can be obtained, free from the aggravation of surface flatness caused by the deposition of a degradation object and a metal component and having a small thickness difference in a longitudinal direction and an excellent output and dropout characteristics and error rate characteristics, and to provide the magnetic recording medium using the same.例文帳に追加

劣化物や金属成分の析出に起因した表面平坦性の悪化がなく、長手方向の厚み斑の小さい、出力、ドロップアウト特性、エラーレート特性に優れた蒸着型磁気記録媒体が得られるポリアルキレンナフタレートフィルムおよびそれを用いた磁気記録媒体の提供。 - 特許庁

To provide a method and a system for depositing an AlOx film in which film characteristics are controlled in such a manner that, in a vacuum film deposition chamber, the film characteristics (the permeability of moisture vapor, the permeability of oxygen and the transmissivity of all rays) of the AlOx film as a gas barrier film are simultaneously controlled at the time of film deposition.例文帳に追加

真空成膜室内で、ガスバリヤ膜としてのＡｌＯｘ膜の膜特性（水蒸気透湿度、酸素透過率、全光線透過率）を同時に、成膜時に制御可能とし、膜特性の制御されたＡｌＯｘ膜を形成する方法および装置の提供。 - 特許庁

Subsequently, while disposing a second shutter 10B so that at least a part of the second region of the principal surface of the substrate 200 is exposed to the vapor deposition source 60 and at least a part of the first region is shielded, a second thin film is deposited on the second region by second deposition conditions.例文帳に追加

次に、基板２００の主面の第２の領域の少なくとも一部を蒸着源６０へ露出しかつ第１の領域の少なくとも一部を遮蔽するように第２のシャッター１０Ｂを配置しながら、第２の成膜条件によって第２の領域の上に第２の薄膜が成膜される。 - 特許庁

To provide an inorganic compound film (a gas barrier film) with low moisture vapor transmissivity or the like and a good gas barrier property, and a gas barrier film having the inorganic compound film, and provide deposition source material for obtaining the inorganic compound film and a film forming method using the deposition source material.例文帳に追加

水蒸気透過率等が低く、ガスバリア性が良好な無機化合物膜（ガスバリア膜）及びその無機化合物膜を有するガスバリアフィルムを提供するとともに、その無機化合物膜を得るための蒸着源材料及びその蒸発源材料を用いた成膜方法を提供する。 - 特許庁

The system has a connected dual remote plasma supply source for facilitating layer deposition onto a substrate and introducing two streams of reactive species into the chemical vapor deposition(CVD) treatment chamber, and simultaneously, the two streams are kept in a separated state until they reach a treatment region adjacent to the substrate.例文帳に追加

層の基板への堆積を容易にし、反応性の種の２つの流れを化学気相堆積処理チャンバへ送出する連結されたデュアル遠隔プラズマ供給源を特徴とし、同時に、基板に近接した処理領域に到達するまでは、２つの流れを分離状態で維持する。 - 特許庁

The mask 10 for vapor deposition has a constitution where a plurality of chips 20 are fitted to a rectangular supporting substrate 30 as a base substrate, and a plurality of long hole-shaped mask opening parts 22 corresponding to a film deposition pattern are formed at each chip 20 in a state where they are parallelly arranged at fixed intervals.例文帳に追加

蒸着用マスク１０は、ベース基板をなす矩形の支持基板３０に、複数のチップ２０を複数、取り付けた構成を有しており、チップ２０には、成膜パターンに対応する長孔形状のマスク開口部２２が複数一定間隔で平行に並列した状態で形成されている。 - 特許庁