「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(74ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of depositing a gas barrier film in which a colorless, transparent silicon nitride film having high barrier properties to oxygen, water vapor or the like can be formed at a high film deposition rate.例文帳に追加

無色透明で、かつ酸素、水蒸気などに対してバリア性が高い窒化シリコン膜を高い成膜レートで形成することができるガスバリア膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition equipment which can realize optimized gas composition and growth condition for obtaining good crystals in epitaxial growth of a GaN system semiconductor.例文帳に追加

ＧａＮ系半導体のエピタキシャル成長において、良質の結晶を得るための最適化されたガス組成や成長条件を実現することができる化学気相成長装置を提供する。 - 特許庁

In the vacuum arc vapor deposition system for forming a carbon based film, a cathode 11 essentially consisting of carbon is evaporated by vacuum arc discharge, and a carbon based film is formed on a base material W.例文帳に追加

炭素系膜を形成するための、炭素を主成分とするカソード１１を真空アーク放電により蒸発させて炭素系膜を基材Ｗ上に形成する真空アーク蒸着装置。 - 特許庁

To provide a method for forming a water-repellent film by a vapor deposition method by using a fluorine-containing organic silicon compound having a high boiling point continued from the formation of an antireflection film.例文帳に追加

反射防止膜の形成と連続して、沸点の高いフッ素含有有機ケイ素化合物を用い真空蒸着法により撥水膜を形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition apparatus which can grow an epitaxial film on the surface of a semiconductor substrate efficiently, and can set growth conditions of the epitaxial film appropriately.例文帳に追加

半導体基板表面により効率よくエピタキシャル膜を成長させることができ、エピタキシャル膜の成長の条件を好適に設定可能な化学気相成長装置を提供する。 - 特許庁

An organic polymer insulation film 16 with good adhesion strength and excellent bonding quality is formed on a substrate which composes a pressure chamber 13 by vapor deposition polymerization.例文帳に追加

圧力室１３を形成する基板に対して、良好な密着性と優れた付き廻り性とを有する蒸着重合法によって、有機高分子の絶縁膜１６を成膜した。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus 5 for the organic EL device 1 provided on a substrate 20 with first electrodes 23R etc., a light emission functional layer and a second electrode.例文帳に追加

有機ＥＬ装置の蒸着装置５は、第１電極２３Ｒ等と、発光機能層と、第２電極とを基板２０上に備える有機ＥＬ装置１の蒸着装置５である。 - 特許庁

Further, a back electrode 1 is formed on the conductivity type semiconductor substrate 2 by vapor deposition etc., and an insulating film 6 and a surface electrode 7 are formed on the conductivity type semiconductor layer 4.例文帳に追加

また、導電型半導体基板２には、裏面電極１が蒸着等により形成され、導電型半導体層４には絶縁膜６および表面電極７が形成されている。 - 特許庁

To obtain an forge-preventing paper capable of easily judging the genuineness at a low production cost by using a thread printed with a simulated watermark pattern on a vapor deposition part having brightness.例文帳に追加

光輝性を有する蒸着部に擬似的な透かし模様を印刷したスレッドを用いることで製造コストが低く、且つ真偽判定が容易である偽造防止用紙を提供する。 - 特許庁

The yarn fibers of the inner fabric layer are embedded with particles of a refractory carbide or may be treated by metal vapor deposition to enhance the retention of body heat.例文帳に追加

内側布層の糸繊維には、身体の熱の保持を高めることができるように、耐火性化合物の粒子を埋め込むことができあるいは金属蒸着処理を行うことができる。 - 特許庁

To provide a polyimide film having excellent adhesive properties, sputtering property, metal vapor deposition property, and metal plating property, and excellent surface smoothness while maintaining the excellent properties of an aromatic polyimide film.例文帳に追加

芳香族ポリイミドフィルムの優れた特性を保持しつつ、接着性、スパッタリング性や金属蒸着性、金属メッキ性が良好であり、かつ表面平滑性に優れたポリイミドフィルムを提供する。 - 特許庁

An ion plating system 100 has a substrate holder 28, a crucible 41 and a plasma generation part 50 for evaporating and ionizing a vapor deposition material, a bias electrode 63, and a bias supply 61.例文帳に追加

イオンプレーティング装置１００には、基板ホルダ２８と蒸着物質を蒸発してイオン化する坩堝４１及びプラズマ生成部５０と、バイアス電極６３と、バイアス電源６１とが設けられる。 - 特許庁

The silicon carbide single crystal is grown by using, as a silicon carbide raw material 2, a powder obtained by grinding a silicon carbide polycrystal produced by a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

化学気相成長法により製造された炭化珪素多結晶体を粉砕することにより得られた粉体を炭化珪素原料２として炭化珪素単結晶を結晶成長させる。 - 特許庁

Since the exhaust gas including water vapor and carbon dioxide is added to the coal gasification gas, deposition of carbon in the piping surface of a desulfurizing agent is prevented in the desulfurizer 6.例文帳に追加

石炭ガス化ガスに、水蒸気及び二酸化炭素を含む排気ガスを添加することで、脱硫装置６においては、配管表面や脱硫剤に炭素が析出することが防止される。 - 特許庁

To obtain a laminated vapor deposition film further improved in the adhesiveness of a biaxially stretched polypropylene film and an inorganic oxide layer and also excellent in transparency and moisture permeability.例文帳に追加

二軸延伸ポリプロピレンフィルムと無機酸化物層との接着性を更に改良するとともに、透明性、透湿性にも優れた積層蒸着フィルムを得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide an electron gun for vapor deposition coping with different needs by changing only specified components while using the main body part of a single electron gun.例文帳に追加

単一の電子銃の本体部を用いつつ特定の構成要素のみを交換することにより異なるニーズにそれぞれ対応することが可能な蒸着用電子銃を実現する。 - 特許庁

The coating layer is formed by a vapor deposition of a silicone containing acrylic acid ester and/or a fluorinated acrylic acid ester and coated with a thickness of 0.05-1.0 μm by crosslinking curing or crosslinking by a radiation.例文帳に追加

このコーティング層は、ケイ素含有アクリル酸エステル及び／又はフッ化アクリル酸エステルの蒸着により形成し、放射により架橋キュア、架橋し、０．０５〜１．０ミクロンの厚さで被着させる。 - 特許庁

In this manufacturing method, the single-wall carbon nanotube is grown by chemical vapor deposition method using an alcohol such as ethanol or a gas obtainable by vaporizing an aqueous alcohol solution as a reaction gas.例文帳に追加

エタノールなどのアルコールまたはアルコールの水溶液を気化させることにより得られるガスを反応ガスに用い、化学気相成長法により常圧で単層カーボンナノチューブを成長させる。 - 特許庁

To provide a ruthenium compound from which film-like metallic ruthenium of high quality can be obtained, and to provide a method of forming a metallic ruthenium film by a chemical vapor deposition method using the same.例文帳に追加

良質の膜状金属ルテニウムを得ることができるルテニウム化合物およびそれを用いて化学気相成長方法により金属ルテニウム膜を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

Hose having a plural layer structure is provided with metal laminated layer containing metal foil and metal vapor deposition layer deposited on resin base film between any layers or the innermost layer.例文帳に追加

複層構造を有するホースのいずれかの層間又は最内層に、金属箔と、樹脂製ベースフィルム上に蒸着された金属蒸着層とを含む金属ラミネート層を設ける。 - 特許庁

A vapor deposition liquid is obtained by compounding 2 to 15 pts.wt. of a mixture of an epoxy-based silane coupling agent and an amine- based silane coupling agent with 100 pts.wt. of a urethane polymer.例文帳に追加

ウレタンポリマー１００重量部に対して、エポキシ系シランカップリング剤とアミン系シランカップリング剤との混合物２〜１５重量部を配合してなることを特徴とする蒸着コーティング液。 - 特許庁

To enhance mass productivity of a plasma display panel formed by vapor deposition method, having a dielectric layer covering a part of an electrode excluding its end part.例文帳に追加

気相堆積法によって形成され、かつ電極をその端子部を除いて被覆する誘電体層を有したプラズマディスプレイパネルの製造の量産性を高めることを目的とする。 - 特許庁

The ruthenium compound for the metallic organic chemical vapor deposition method consists of bis(cyclopentadienyl)ruthenium, and has particle sizes of 0.02-5.5 mm and an average particle size of 0.03-5.0 mm.例文帳に追加

有機金属化学蒸着法用ルテニウム化合物がビス（シクロペンタジエニル）ルテニウムからなるルテニウム化合物であって、化合物の粒径が０．０２〜５．５ｍｍ、平均粒径が０．０３〜５．０ｍｍである。 - 特許庁

To provide a method for depositing a thin film by a physical vapor deposition method capable of depositing a thin film with a uniformly flat and precise pattern on a substrate in a short time.例文帳に追加

一様に平坦で、精密なパターンの薄膜を、短時間で基板上に形成することができる物理蒸着法による薄膜の形成方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a hybrid pulse plasma vapor deposition apparatus and a method for depositing a film having greater uniformity and better adhesion on the surface of a three-dimensionally shaped member.例文帳に追加

三次元形状を持つ被蒸着部材の表面により均一で密着性のよい被膜を迅速に形成することができるハイブリッドパルスプラズマ蒸着装置および方法を提供すること。 - 特許庁

To improve a sedimentation rate and to provide rotational symmetry in a method for manufacturing an optical fiber by carrying out one or more kinds of chemical vapor deposition reactions in a base material tube.例文帳に追加

１種以上の化学蒸着反応を基材チューブ内で行うことによって光ファイバーを製造する方法において、堆積速度を高めならびに回転対称性を得る。 - 特許庁

The metal plate 12 is coated with a resin to form an undercoating layer, then is provided with a fluorescent layer 11 formed by the vapor deposition method and is sealed with a moistureproof protective film 14.例文帳に追加

金属板１２上には、下引き層として樹脂をコーティングし、次いで気相堆積法で形成した蛍光体層１１を有し、防湿性保護フィルム１４で封止される。 - 特許庁

To provide a method for producing a glass preform in high yield and free from occurrence of outer diameter fluctuation, fracture or the like by forming thicker glass layer than in conventional process with respect to MCVD (modified chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

ＭＣＶＤ法において従来法より厚いガラス層を形成し、かつガラスパイプの外径変動や破裂等の発生なく高い歩留りでガラス母材を製造できる方法。 - 特許庁

A fluorine-based surface treating agent is applied on the grating face of a master grating 10 to form a release agent layer 13, which is then subjected to vacuum vapor deposition of aluminum to form a thin film 23 (c).例文帳に追加

マスター回折格子１０の格子面にフッ素系表面処理剤を塗布して離型剤層１３を設け、その後にアルミニウムを真空蒸着して薄膜２３を形成する（ｃ）。 - 特許庁

To provide a method for forming a resin vapor-deposition film which comparatively easily improves the uniformity of the thickness distribution of a resin film and keeps the thickness distribution for a long period, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

比較的簡単に樹脂膜厚分布の均一性を向上できかつ長期間にわたってその膜厚分布を確保できる樹脂蒸着成膜方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide the transparent gas barrier composite film material having a metal oxide vapor deposition membrane being a gas barrier layer excellent in light permeability in a visible region while permitting ultraviolet rays to transmit at the same time and having ultraviolet cutting properties while keeping extremely excellent gas barrier properties.例文帳に追加

複合フィルム材料のガスバリア層である金属酸化物蒸着薄膜は可視領域での光線透過率に優れる反面紫外線も同時に透過してしまう。 - 特許庁

To provide a metal particle suitable for forming a thin layer internal electrode of a laminated ceramic capacitor, a method for producing the same, and a metal vapor deposition film for use in the production.例文帳に追加

積層セラミックコンデンサの薄層内部電極を形成するに好適な金属粒子、およびその製造方法ならびに製造に使用する金属蒸着フィルムを提供する。 - 特許庁

The method for forming a thin film uses a raw material powder for a sintered compact as a target 21a without using the solid sintered compact and forms a thin film by a physical vapor-deposition method such as a sputtering method.例文帳に追加

固体の焼結体ではなく、この焼結体の原料である粉体自体をターゲット２１ａとして用い、スパッタリング法等の物理的蒸着法により薄膜を形成させる。 - 特許庁

This vapor deposition apparatus can obtain high controllability for film formation and can effectively use the target, by irradiating the evaporation surface with the electron beam in a pulse form and changing the position to be irradiated at every time of the arc discharge.例文帳に追加

電子ビームをパルス状に照射し、照射位置をアーク放電毎に変更することにより、高い成膜の制御性を得ることができ、ターゲットの有効利用が可能となる。 - 特許庁

To provide a GaN-based semiconductor element that has sufficient normally-off characteristics by forming a gate insulating film of SiO_2 through normal-pressure CVD (Chemical Vapor Deposition), and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ＳｉＯ_2からなるゲート絶縁膜を常圧ＣＶＤによって形成することで、十分なノーマリオフ特性が得られるＧａＮ系半導体素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition device having improved productivity by elongating the usable life of a deposit removing tool which removes deposits to reduce the frequency of replacing the deposit removing tool.例文帳に追加

堆積物を除去する堆積物除去具の耐用期間を延ばし、堆積物除去具の交換の回数を低減することにより気相成長装置の生産性を向上させる。 - 特許庁

Openings 14 in a prescribed shape are formed in a single conductive layer 12 or a conductive layer 12 which is formed by a vapor deposition operation or the like on a board constituted of a resin or the like.例文帳に追加

単一の導電層１２あるいは樹脂等で構成された基板上に蒸着等により形成された導電層１２に、所定の形状の開口１４を形成する。 - 特許庁

To permit the easy assurance of a surface state necessary for maintaining a positional relation with a recording medium by pressing a porous metallic film formed by vacuum vapor deposition at the end of a light transmission member to the surface of the recording medium and compressively deforming the film.例文帳に追加

記録媒体との位置関係を維持するために必要な面状態を容易に確保することができる光ヘッド、その製造方法および光ヘッドの部品を提供する。 - 特許庁

To manufacture a glass pipe having a cross sectional structure or refractive index distribution stabilized in a longitudinal direction by suppressing the adverse effects of the variation of glass pipe thickness which is to serve as a substrate for the inside vapor deposition.例文帳に追加

内付けの基板となるガラスパイプの肉厚のばらつきによる悪影響を抑えて、長手方向で断面構造や屈折率分布が安定したガラスパイプを製造する。 - 特許庁

To prevent the production of an optical fiber preform having a nonuniform glass density distribution based on a difference in characteristics of burners in production of the optical fiber preform by an outside vapor-phase deposition method.例文帳に追加

外付け法による光ファイバ母材の製造において、バーナーの特性の違いに基づき、不均一なガラス密度分布をもつ光ファイバ母材が製造されることを防止する。 - 特許庁

To provide a method for continuously manufacturing a paper packaging material having a metal vapor deposition layer easily and inexpensively, by the use of a material to which any treatment is not applied.例文帳に追加

何らの処理を施さない素材を用いることができ、平易、かつ低価で製造することが可能な金属蒸着層を有する紙包装材の連続製造方法を提供する。 - 特許庁

To easily control, over a wide range, volume resistivity of a silicon carbide film composed of a highly pure and dense silicon carbide obtained by a chemical vapor deposition(CVD) method.例文帳に追加

化学的気相成長法によって得られる高純度であって、かつ緻密質の炭化珪素体において、炭化珪素膜の体積抵抗率を、広い範囲で容易に制御する。 - 特許庁

A connection layer 16D, a blue light-emitting layer 16E, an electron transport layer 16F, and an electron injection layer 16G are formed on an entire surface of the yellow light-emitting layer 16C by a vapor deposition method.例文帳に追加

黄色発光層１６Ｃ上の全面に接続層１６Ｄ，青色発光層１６Ｅ，電子輸送層１６Ｆおよび電子注入層１６Ｇを蒸着法により形成する。 - 特許庁

To provide a film forming method which converts a deposited metal by CVD to a conformal and flat form film with a good followability to a substrate surface, by intermediate heat treatment during a deposition process of the metal, or by post-heat treatment after the end of the deposition process to cause a reflowing phenomenon to the deposited metal, and to provide a chemical vapor deposition apparatus.例文帳に追加

ＣＶＤによる金属堆積物を堆積工程実行中に中間熱処理するか、又は堆積工程終了後に後熱処理することによって堆積金属にリフロー現象を起こし、基材表面に対する追随性が良いコンフォーマルで平坦な膜状に改善できる成膜方法及び化学気相蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

The film deposition apparatus 1 has a heating medium gas introduction system 18, and when cooling organic vapor deposition material 19 remained inside a storage hole 32, the heating medium gas is introduced into a vacuum tank 12, the pressure in the vacuum tank 12 is set to be higher than the pressure in the film deposition, and the heat conductivity in the internal space is increased.例文帳に追加

本発明の成膜装置１は熱媒体ガス導入系１８を有しており、収容孔３２内部に残った有機蒸着材料１９を冷却するときには、真空槽１２内部に熱媒体ガスを導入し、真空槽１２内部の圧力を成膜のときよりも高くすれば、その内部空間の熱伝導率が高くなる。 - 特許庁