「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(88ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a vapor deposition apparatus avoiding a clogging of a gas delivering pore of a shower plate caused by a reaction of a gas on the shower plate by passing a cooling medium through the whole area of the shower plate to homogeneously cool down the shower plate.例文帳に追加

冷媒をシャワープレートの全域に流れるようにすることにより、シャワープレートの冷却を均一に行い、ガスのシャワープレートでの反応によるシャワープレートにおけるガス吐出孔の目詰まりを回避し得る気相成長装置を提供する。 - 特許庁

An amorphous silicon film 104 is formed on a substrate 102 by physical vapor deposition and after a silicon dioxide layer 106 having a window 108 is deposited on the amorphous silicon film 104, a metallic catalyst is introduced into the amorphous silicon film 104.例文帳に追加

基板１０２上に、物理的気相成長法によって非晶質シリコン膜１０４を成膜し、窓１０８を持つ二酸化シリコン層１０６を非晶質シリコン膜１０４上に堆積した後、非晶質シリコン膜１０４に金属触媒を導入する。 - 特許庁

Further, the manufacturing method of the semiconductor circuit device includes a step of forming a second film by depsositing a TiN film by the chemical vapor phase deposition method (CVD) with a flow rate of tetrakis dimethylamino titanium (TDMAT) of 2 to 5 mg per minute.例文帳に追加

更に半導体回路装置の製造方法は、第１膜の上に、テトラキスジメチルアミノチタン（ＴＤＭＡＴ）の流量を毎分２〜５ｍｇとして化学気相蒸着法（ＣＶＤ）にてＴｉＮ膜を成膜して第２膜を形成するステップとを備えている。 - 特許庁

The method grows a GeSi1-X/Ge epitaxial layer on a Si substrate by the ultra-high vacuum chemical vapor deposition (UHVCVD) method to finally form a ZnSe thin film on a Ge buffer layer.例文帳に追加

本発明の方法においては、超高真空化学気相成長法（ＵＨＶＣＶＤ）を用いることによりＳｉ基板上にＧｅＳｉ１−Ｘ／Ｇｅエピタキシャル層を成長させ、最終的にＧｅバッファ層上にＺｎＳｅ薄膜が形成される。 - 特許庁

The radiation image conversion panel has a phosphor layer formed on a metal plate (or a substrate) on a carbon fiber reinforced resin (CFRP) plate or a carbon fiber reinforced resin (CFRP) composite plate by a gas deposition method (vapor phase method).例文帳に追加

炭素繊維強化樹脂（ＣＦＲＰ）板または炭素繊維強化樹脂（ＣＦＲＰ）コンポジット板上の金属板（基板ともいう）上に気相堆積法（気相法）により形成された蛍光体層を有することを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁

In the biaxially oriented polypropylene film and the metal vapor deposition film, in a film surface of 1 μm square one side of which is parallel to the longitudinal direction, vertical fibrils at least 40 nm in width passing through two sides parallel to the width direction exist.例文帳に追加

一辺が長手方向に平行な１μｍ角のフィルム表面において、幅方向に平行な２辺を通過する幅４０ｎｍ以上の縦フィブリルが存在する二軸延伸ポリプロピレンフィルムおよびそれを基層とする金属蒸着フィルム。 - 特許庁

The electron emission source formed of carbide of one or more kinds of metal elements selected from the group composed of Ta, Hf, Nb, and Zr is mounted to the electron beam vapor deposition device, the electron beam welding device, or the electron beam machining device.例文帳に追加

また、他の発明は、Ｔａ、Ｈｆ、Ｎｂ、及びＺｒからなる群から選ばれた１種以上の金属元素の炭化物からなる電子放出源を装着した電子ビーム蒸着装置、電子ビーム溶接装置、又は電子ビーム加工装置である。 - 特許庁

To provide a film for use in molding which is excellent in molding processability and retains excellent metallic gloss also after molding, in the case of a film having metal gloss by metal vapor deposition.例文帳に追加

成型加工性に優れ、金属蒸着により金属光沢を有したフィルムであって、成型加工後にも優れた金属光沢を保ち、良好な金属調の外観を有した成形部品を製造するに当たって有用な成形用フィルムを提供する。 - 特許庁

In the laminated film, a transparent, gas-barrier vapor deposition film, at least a polyamide resin layer, and a polypropylene resin layer are laminated on a coextrusion-laminated film which is laminated by a coextrusion molding method through adhesive resin layers.例文帳に追加

透明ガスバリア性蒸着フィルムと、少なくともポリアミド系樹脂層とポリプロピレン系樹脂層とが接着性樹脂層を介して共押出成形法により積層された共押出積層フィルムとが積層されたことを特徴とする積層フィルムである。 - 特許庁

In this manufacturing method of a protein chip substrate, plasma polymerized cyclohexane (PPCHex) and plasma polymerized ethylenediamine (PPEDA) having an amine functional group are deposited by using an inductively coupled plasma chemical vapor-phase deposition method.例文帳に追加

プラズマ重合されたサイクロ核酸（ＰＰＣＨｅｘ）と、アミン機能性グループを有するプラズマ重合されたエチレンダイアミン（ＰＰＥＤＡ）を誘導結合型プラズマ化学気相蒸着法を用いて蒸着するタンパク質チップ基板の製造方法を構成する。 - 特許庁

The method of preparing an ultra-pure organometallic compound comprises using a microchannel device for synthesis in reacting a metal halide with an alkylating agent to produce the ultra-pure alkylmetal compound for processes such as chemical vapor deposition.例文帳に追加

例えば化学蒸着のようなプロセス用の超純粋アルキル金属化合物を製造するため金属ハロゲン化物をアルキル化剤反応させる合成のためのマイクロチャンネルデバイスを使用することを含む超純粋有機金属化合物の調製方法。 - 特許庁

The problem is solved by forming the phosphor layer on the polyparaxylene film through a vapor phase deposition method after forming the polyparaxylene film on the surface of the substrate which has a metal surface and giving plasma treatment to the polyparaxylene film.例文帳に追加

金属表面を有する基板の表面にポリパラキシリレン膜を成膜し、このポリパラキシリレン膜表面にプラズマ処理を施した後、気相堆積法によって、前記ポリパラキシリレン膜上に蛍光体層を形成することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition biodegradable film material having regeneration recyclability, generating no environmental pollution, having gas barrier properties and metal gloss and usable in various packaging materials or the like, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

再生リサイクル性並びに環境汚染を生ずることがないフィルム材料であって、ガスバリア性、金属光沢を有して各種包装材料等に用いることができる蒸着生分解性フィルム材料及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The metallic mask 4 of the circuit pattern 3, which does not keep the prescribed dimension and shape only in the metallic mask single body, is formed into the combination mask 9 and the vapor deposition mask used for manufacturing the organic electroluminescence element is manufactured by using the combination mask 9.例文帳に追加

メタルマスク単体では所定の寸法形状を維持できない回路パターン３のメタルマスク４をコンビネーションマスク９とし、これを用いて、有機エレクトロルミネセンス素子を製造するときに用いられる蒸着マスクを製造することを特徴とする。 - 特許庁

The assembly 12 is composed of a permanent magnet 13 having a rectangular parallelepiped shape and three pairs of center electrodes 21-23 and a grounding electrode 26 formed by printing, sputtering, vapor deposition, sticking, plating, etc.例文帳に追加

中心電極組立体１２は、略直方体形状を有する永久磁石１３と、印刷やスパッタリングや蒸着、貼合わせ、あるいは、めっき等の方法を用いて形成された中心電極２１〜２３及びアース電極２６とからなる。 - 特許庁

The boat for metal vapor-deposition is constituted by forming a plurality of cavities in the surface of conductive ceramics containing boron nitride, titanium diboride and aluminum nitride, and materials constituting the respective cavities are made different in volume resistivity.例文帳に追加

窒化硼素、二硼化チタン及び窒化アルミニウムを含んでなる導電性セラミックスの表面に、複数のキャビティを形成させてなるものであり、各キャビティの形成材の体積抵抗率が異なっていることを特徴とする金属蒸着用ボートである。 - 特許庁

By this, because the film formation is made to be carried out under an atmosphere controlled constant in the vapor deposition room 21, the film property can be made stable, and the plasma display panel capable of carrying out superior image display can be manufactured.例文帳に追加

このことにより、蒸着室２１内での雰囲気を一定に制御した状態で成膜することとなるため、膜物性を安定とすることができ、画像表示を良質に行うことができるプラズマディスプレイパネルを製造することが可能となる。 - 特許庁

The packaging material in which a polyolefin resin surface layer, a resin film having a vapor-deposition film of an inorganic oxide, and a polyolefin resin back layer are laminated in turn and the tube container with the use of it are disclosed.例文帳に追加

表面ポリオレフィン系樹脂層、無機酸化物の蒸着膜を有する樹脂のフィルム、および、裏面ポリオレフィン系樹脂層を順次に積層することを特徴とするチュ−ブ容器用包材およびそれを使用したチュ−ブ容器に関するものである。 - 特許庁

A vacuum vapor-deposition source 10 having a crucible 11, a lid 13, a heater 12 for heating the crucible 11 and the lid 13, and a reflector 20 for shielding radiant heat has a movable mechanism 21 which moves the reflector 20 up and down.例文帳に追加

坩堝１１、蓋１３と、坩堝１１および蓋１３を加熱するためのヒーター１２と、輻射熱を遮断するためのリフレクター２０とからなる真空蒸着源１０において、リフレクター２０を上下に移動させるための可動機構２１を設ける。 - 特許庁

The method of producing a polyperinaphthalene-based polymer thin film comprises chemical vapor deposition of polyperinaphthalene or a polyperinaphthalene derivative on the substrate surface by a laser ablation method using a perylene derivative as a raw material target and applying an extra short pulsed laser.例文帳に追加

ペリレン誘導体を原料ターゲットとし、超短パルスレーザーを用いるレーザーアブレーション法で、基体表面にポリペリナフタレン又はポリペリナフタレン誘導体を化学気相堆積させることを特徴とするポリペリナフタレン系高分子薄膜製造方法。 - 特許庁

An LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) device 1 is provided with: a processing chamber 11; and a reaction cooling means 25 which is arranged outside the processing chamber 11, produces hydrogen fluoride gas by reacting hydrogen gas with fluorine gas, and cools the hydrogen fluoride gas.例文帳に追加

ＬＰＣＶＤ装置１において、処理チャンバー１１を設け、処理チャンバー１１の外部に配置され、水素ガスとフッ素ガスとを反応させてフッ化水素ガスを生成すると共に、このフッ化水素ガスを冷却する反応冷却手段２５を設ける。 - 特許庁

This vacuum vapor-deposition apparatus is directed for vaporizing an evaporation material 7 stored in a crucible 8 by irradiating the evaporation material 7 with an electron beam EB emitted from an electron gun 9 to make the vaporized particles deposit on a substrate 4, in the inside of a vacuum chamber 1.例文帳に追加

真空チャンバ１内において、坩堝８内に収容された蒸発材料７に電子銃９からの電子ビームＥＢを照射することにより蒸発材料７を蒸発させ、蒸発粒子を基板４上に付着させる様に成す。 - 特許庁

By electrochemically oxidizing the first composite nano-crystalline layer 4, a strong electric field drift layer 6 is formed, and after the mask layer 13 is removed, a surface electrode 7 comprising a metal film is formed by a vapor deposition process for example [Fig. (d)].例文帳に追加

第１の複合ナノ結晶層４を電気化学的に酸化するこで強電界ドリフト層６を形成し、マスク層１３を除去してから、例えば蒸着法などによって金薄膜からなる表面電極７を形成する（図１（ｄ））。 - 特許庁

Even when the wire rod 40 is extended by heat during vapor deposition and the quantity of extension at every winding changes, the tension of the wire rod 40 is equal and the rod 40 does not sag, because each free pulley changes its rotation speed corresponding to the extension quantity.例文帳に追加

蒸着時の加熱により線材４０が伸張し、巻回毎の伸張量が異なっても、各フリープーリは、その伸長量に対応して回転速度が変わるから、線材４０の張力は均一になり、線材４０が弛むことはない。 - 特許庁

To provide a method capable of depositing a coating having a predetermined radial film thickness distribution and an approximately constant coating material density over a whole of radial direction at a vapor deposition angle being relatively small and slightly varied.例文帳に追加

比較的小さくわずかしか変化しない蒸着角で、所定の半径方向膜厚さ分布およびほぼ一定のコーティング材料密度を有するコーティングを半径方向全体にわたって付着させることができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laminate capable of being used for various uses because the surface of the laminate is smooth and capable of being enhanced in gas barrier properties by the use along with a vapor deposition layer of an inorganic oxide.例文帳に追加

本発明は、表面が平滑であることから種々の用途に用いることが可能であり、また無機酸化物の蒸着層と共に用いることにより、ガスバリア性を向上させることができる積層体を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide a compound having high mobility and a high on/off value, capable of being formed into a film, by coating a solution thereof, a printing procedure, including inkjet printing, and a vapor deposition procedure, and capable of being used as a material for an n-type organic semiconductor.例文帳に追加

高い移動度及びオン／オフ値を有すると共に、溶液の塗布やインクジェット等の印刷法、並びに蒸着法により製膜することのできるｎ型有機半導体材料として用いることのできる化合物を提供すること。 - 特許庁

The photonic crystal 101 having a photonic band gap is used on the mirror type optical beam scanner, thus the reflection has a higher efficiency than that of a mirror which is made by the metal vapor deposition method or the like and brighter scanning light is available with a light source having a less light quantity.例文帳に追加

フォトニックバンドギャップを持つフォトニック結晶101をミラー型の光ビームスキャナに用いて、金属蒸着などの方法によるミラーよりも反射が高効率となり、より光量の少ない光源で明るい走査光を得ることが出来るようになる。 - 特許庁

The amorphous tin oxide thin film is formed on a transparent substrate through a vapor deposition process, and the thin film is such that the densification degree (ρ/ρ_0)×100 of the thin film is turned to 90-95% by an X-ray reflectivity technique using CuKα rays.例文帳に追加

透明基材上に蒸着プロセスを経て形成される非結晶性の酸化スズ薄膜であり、該薄膜はＣｕＫα線を用いたＸ線反射率法により該薄膜の緻密化度（ρ／ρ_０）×１００が９０〜９５％とすること。 - 特許庁

To provide a method of producing a gas-barrier film by which defective appearance and surface defect of the gas-barrier film due to splash caused when vaporizing an inorganic oxide by using a vapor deposition method according to a heating system is suppressed and also the gas-barrier film having high gas-barrier performance is produced.例文帳に追加

加熱方式による真空蒸着法を用いて無機酸化物を蒸発させる際に発生するスプラッシュによる外観不良および表面欠陥を抑制し、かつ高いガスバリア性能を有するガスバリアフィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a PE-SiON thin film for ARC, by which particle generation is reduced compared to the conventional method by changing the RE power and the turn-on time of SiH4 in the PE-SiON thin film vapor deposition.例文帳に追加

ＰＥ−ＳｉＯＮ薄膜蒸着の際、ＲＦパワーとＳｉＨ４のターンオン時点とを変更することにより、既存対比パーチクル発生を大幅軽減させることができるＡＲＣ用ＰＥ−ＳｉＯＮ薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

A holding member 10 for holding works to be deposited, to which the plurality of works W to be deposited are attached, is arranged at an upper part at the inside of a vacuum tank 1, and two evaporation sources 2A, 2B, in which a plurality of vapor deposition substances are filled, are arranged at a lower part of the tank 1.例文帳に追加

真空槽１の内部の上部には複数の被成膜体Ｗを取り付けるための被成膜体保持部材１０が配置され、下部には複数の蒸着物質が充填された２つの蒸発源２Ａ、２Ｂが配置されている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an organic EL element utilizing an electron beam vapor deposition, in which the organic EL element with little variation in hue can be manufactured easily according to the design without giving damages to the light-emitting portion or the like.例文帳に追加

電子ビーム蒸着法を利用した有機ＥＬ素子の製造において、色味の変化の少ない有機ＥＬ素子を、発光部等にダメージを与えることなく設計通りに製造し得る簡便な方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The substrate 1 is made to adhere to a metal block 103 via a pressure-sensitive sheet 102 and an insulating material 130, and is installed on a substrate support inside a deposition device, and then the stimulable phosphor layer is formed on the substrate surface by a vapor-phase growth.例文帳に追加

当該基板１を粘着シート１０２と断熱材１３０を介して金属ブロック１０３に密着させ、蒸着装置内の基板支持体に設置後、気相成長法により当該基板表面に輝尽性蛍光体層を形成させる。 - 特許庁

To provide a vapor phase deposition system which enables uniformizing of the surface temperature of a substrate to be processed, when forming a film and increasing a temperature by increasing the measurement accuracy of the surface temperature of a susceptor, thereby enabling further uniformizing of film-forming quality, such as film thickness.例文帳に追加

サセプタ表面温度の計測精度を高めることにより成膜時および昇温時の処理基板の表面温度を均一化でき、膜厚に代表される成膜品質をより均一化できる気相成長装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resin molding giving an expensive feeling, which has a three-dimensional pattern on the surface by a simple method such as a coating method and a vapor deposition method, and a surface treatment method for forming the three-dimensional pattern giving an expensive feeling on the surface of a resin.例文帳に追加

塗装や蒸着など簡易な方法により立体的な図柄が表面に形成され、高級感を有する樹脂成形品、および樹脂表面に高級感有る立体的な図柄を形成する表面処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a supporting body which is nearly free from thickness unevenness of a magnetic layer and has excellent adhesiveness between a metal vapor deposition layer and the magnetic layer and by which a high density magnetic recording medium nearly free from an error rate can be obtained when especially the magnetic recording medium is formed.例文帳に追加

磁性層の厚み斑が少なく、かつ、金属蒸着層と磁性層との密着性に優れた支持体であって、特に磁気記録媒体とした際に、エラーレートの少ない高密度磁気記録媒体とすることができる支持体を提供する。 - 特許庁

To regularly appropriately control thin film growth temperature on a substrate by rapidly changing, when the composition of raw material gas to be introduced to an MOCVD (metalorganic chemical vapor deposition) device is changed, the surface temperature of a counter plate in response thereto.例文帳に追加

ＭＯＣＶＤ装置に導入される原料ガスの組成が変更された場合に、迅速に対向板の表面温度をこれに応じて変化させることでき、基板上の薄膜成長温度を常に適正に制御することができるようにする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a nonmagnetic Co-Cr alloy thin film having hexagonal close-packed(hcp) structure by which an tough (10.0) texture can be spontaneously induced by adding a specified element even in the case of vapor deposition onto an amorphous substrate.例文帳に追加

六方最密（ｈｃｐ）構造を有する非磁性ＣｏＣｒ系合金薄膜において、特定の元素を添加することにより非晶質基板上に蒸着させる時においても自発的に強い（１０．０）集合組織を誘導する製造方法。 - 特許庁

A vapor deposition film formed on the inside wall of a neck part 10 prevents local increase in potential in the inside wall of the neck part 10 and in an insulating support body 6 because of secondary electron emission avalanche suppressing effect, so that electrical discharge inside the neck part 10 is prevented.例文帳に追加

ネック部１０の内壁に形成された蒸着膜は、２次電子放出なだれ抑制効果により、ネック部１０の内壁および絶縁支持体６の部分的な電位上昇を阻止し、ネック部１０内における放電を防止する。 - 特許庁

The clamper 5 includes a fixing piece 6 and a movable piece 7 and has a roughened surface layer 8 for enhancing a friction force with respect to the vapor deposition mask 1 formed on at least one side of a gripping part with the thermal spray of a material having high hardness such as tungsten carbide.例文帳に追加

クランパー５は、固定片６と可動片７からなり、少なくとも一方の把持部には、蒸着マスク１に対する摩擦力を向上させるための粗面層８が、タングステンカーバイドなどの高硬度な材質の溶射によって形成される。 - 特許庁

The resistance and the transmittance of the first transparent film substrate 6 and the second transparent film substrate 9 are measured, and the evaporation quantity of a vapor deposition raw material 22 and the quantity of gaseous oxygen to be fed from a first oxygen nozzle 18 and a second oxygen nozzle 19 are controlled.例文帳に追加

第１の透明フィルム基板６及び第２の透明フィルム基板９の抵抗値と透過率を測定し、蒸着原料２２の蒸発量、第１酸素ノズル１８および第２酸素ノズル１９から供給する酸素ガス量を制御する。 - 特許庁

In the surface treatment, a thin film may be formed on the surface by a sputtering or chemical vapor deposition method(CVD method) or a fine roughness may be formed on the surface by a wet etching method or a wet etching method after the thin film is formed.例文帳に追加

この表面処理はスパッタリングまたは化学蒸着法（ＣＶＤ法）によって表面に薄膜を形成しても良いし、表面に湿式エッチングまたは上記の薄膜形成後の湿式エッチングの方法で微細な粗さを形成しても良い。 - 特許庁

An organic EL element substrate 10 includes a substrate 11 on which a first electrode layer 14 is formed, an organic EL coating layer 21 formed on the first electrode layer 14, and an organic EL vapor deposition layer 25 formed on the organic EL coating layer 21.例文帳に追加

有機ＥＬ素子基板１０は、第１電極層１４が形成された基板１１と、第１電極層１４上に設けられた有機ＥＬ塗布層２１と、有機ＥＬ塗布層２１上に設けられた有機ＥＬ蒸着層２５とを備えている。 - 特許庁

In a film deposition chamber capable of controlling pressure- reduced atmosphere, a silicon dioxide film is deposited on a glass sheet or a resin sheet while irradiating an evaporation material of silicon with arc discharge plasma to evaporate silicon and allowing the resultant silicon vapor to react with oxygen.例文帳に追加

ガラス板または樹脂板上の二酸化珪素膜を、減圧された雰囲気が調整できる成膜室内で、シリコンの蒸着材料にアーク放電プラズマを照射し、これによりシリコンを蒸発させ酸素と反応させながら成膜する。 - 特許庁