「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(92ページ目) - Weblio英語例文検索

The arc vapor deposition system is equipped with a vacuum evacuatable chamber and a means which is a means for positioning two or more targets into the chamber and is capable of positioning the first target to an operating position and the other target to a standby position.例文帳に追加

真空排気可能なチャンバーと、当該チャンバー内において２以上のターゲットを位置付けるための手段であって、第一のターゲットを運転位置に位置付けることができ、他のターゲットを待機位置に位置付けることができる手段とを備えた、アーク蒸着装置。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate with the thin film comprises heating ZnSe within a vacuum vapor deposition vessel arranged with the substrate, and heating CuSe and/or Cu_2Se to form the (Zn_1-xCu_x)Se thin film (where 0≤x≤0.2) on the front face of the substrate.例文帳に追加

基板を配設した真空蒸着器内において、ＺｎＳｅを加熱し、かつＣｕＳｅおよび／またはＣｕ_2Ｓｅを加熱し、前記基板の表面上に（Ｚｎ_1-xＣｕ_x）Ｓｅ薄膜（但し、０＜ｘ≦０．２）を形成することを特徴とする、薄膜付き基板の製造方法。 - 特許庁

The raw material for chemical vapor deposition is characterized by comprising the organic silicon-containing compound represented by HSiCl(NR^1R^2)(NR^3R^4) [wherein R^1 and R^3 independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a hydrogen atom; and R^2 and R^4 independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms].例文帳に追加

ＨＳｉＣｌ（ＮＲ^1Ｒ^2）（ＮＲ^3Ｒ^4）（Ｒ^1、Ｒ^3は炭素数１〜４のアルキル基または水素を表し、Ｒ^2、Ｒ^4は炭素数１〜４のアルキル基を表す）で表される有機シリコン含有化合物を含有してなる化学気相成長用原料。 - 特許庁

To enable inspection on a quality of a picture printed on three kinds of print sheets such as a transparent film, a normal print sheet and a vapor deposition sheet, using a single configuration, so as to reduce cost, to lighten a burden of an operator and to prevent waste of print materials, in a printing quality inspection device.例文帳に追加

透明フィルムおよび通常の紙ならびに蒸着紙というように三種類の印刷用紙に印刷された絵柄の品質を同じ構成で検査でき、コストダウンを図るとともに、オペレータの負担を軽減させ、かつ印刷資材の無駄の発生を防止する。 - 特許庁

A solar ray control film is constituted by successively laminating a surface protecting layer 11 having a function preventing fogs due to steam, a plastic film support 12, a hologram pattern printing layer 13, a metal vapor deposition layer 14, a pressure-sensitive adhesive layer 15 and a release film 16.例文帳に追加

本発明の太陽光線制御フィルムは、蒸気による曇り防止機能を有する表面保護層１１、プラスチックフィルム支持体１２、ホログラムパターン印刻層１３、金属蒸着層１４、感圧接着層１５、及び離型フィルム１６が順次積層されてなる。 - 特許庁

To provide a vapor deposition mask capable of reducing deviations of a test pattern by reducing changes in precision of a width of an opening to be possibly generated, by supporting the mask in a manner of applying tensile force thereto, and to provide a manufacturing method of the organic EL element and the organic EL element.例文帳に追加

マスクに引張力を加えるように支持することによって発生する恐れがある開口部幅の精度変化を減らしてパターンの偏差を減らしうる蒸着マスク、これを利用した有機ＥＬ素子の製造方法及び有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁

To provide a highly reliable organic functional element requiring no vapor deposition when forming electrodes on an organic material layer, and causing no disconnection even if it is bent, as to the organic functional element such as an organic EL element, an organic TFT element, or the like.例文帳に追加

有機ＥＬ素子や有機ＴＦＴ素子等の有機機能素子において、有機材料層への電極形成において蒸着を用いる必要が無く、また、折り曲げても断線しない信頼性の高い有機機能素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of depositing the hard carbon film on the surface of a material to be treated comprises heating and sublimating raw material carbons by utilizing a hollow cathode discharge in a process chamber and depositing the hard carbon film by vapor deposition on the surface of the material to be treated.例文帳に追加

被処理材の表面に硬質炭素膜を形成するための方法であって、処理室内において、原料炭素類をホローカソード放電を利用して加熱、昇華させ、前記被処理材の表面に硬質炭素膜を蒸着形成することを特徴とする。 - 特許庁

The vapor deposition material molded by using water and containing silicon monoxide powders has ≤1% weight change ratio in ignition loss (a mass reduced amount when a substance is strongly heated (at 600±25°C for 2 h)).例文帳に追加

水を用いて成型した一酸化ケイ素粉末を含有する蒸着材料において、焼成条件を最適化することにより、強熱減量（物質を強熱（６００±２５℃２時間）したときの質量の減少量）での重量変化率が１％以下である。 - 特許庁

To provide a laminated film and a vapor deposition film of the laminated film stably manufacturable in spite of directly laminating a polyglycolic acid layer and a polyester layer different from each other, and excelling in gas barrier property and further in long-term durability.例文帳に追加

ポリグリコール酸と、それとは異なるポリエステル層を直接積層しているにも関わらず、安定的に製造することができ、かつ優れたガスバリア性、さらには長期の耐久性に優れた実用性を有する積層フィルム、およびその蒸着フィルムの提供。 - 特許庁

The method of preparing an ultra-pure metal amidinate compound includes using a microchannel device for synthesis in reacting a metal halide solution with a lithium amidinate solution to produce an ultra-pure alkylmetal compound for processes such as chemical vapor deposition.例文帳に追加

金属ハロゲン化物溶液とリチウムアミジナート溶液との反応における合成のためにマイクロチャネルデバイスを使用して、化学蒸着のようなプロセスのための超純粋アルキル金属化合物を製造することを含む、超純粋金属アミジナート化合物を製造する方法。 - 特許庁

In a printing quality inspection device, if the to-be-printed member is a vapor deposition sheet 2A, light radiated from a light source 22 and reflected at a reflection point 24a of a diffusion reflection plate 24 irradiates an inspection point 2a, is mirror-reflected and enters a camera 23 through an incident route 32.例文帳に追加

被印刷部材が蒸着紙２Ａの場合は、光源２２から出射され、拡散反射板２４の反射点２４ａで反射した光が被検査点２ａに照射された後、鏡面反射されて入射経路３２を経てカメラ２３に入射する。 - 特許庁

This member 1 to be exposed in a chlorine based gas atmosphere at ≥600°C is provided with a sintered compact 6 consisting of aluminum nitride and a silicon carbide film 5 coated on the surface of the sintered compact 6 and formed by a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

６００℃以上の温度で塩素系ガス雰囲気に対して曝露される耐蝕性部材１が、窒化アルミニウムからなる焼結体６、および焼結体６の表面を被覆する化学的気相成長法によって形成された炭化珪素膜５を備えている。 - 特許庁

In the deposit-up type sputtering vapor deposition apparatus, a fixing tool comprising a substrate fixing part to prevent a substrate from being dropped even when the substrate is mounted upside down, and a magnet part to fix the substrate to any point of a substrate stage is used.例文帳に追加

デポアップ型スパッタ蒸着装置において、基板を逆さにとりつけても、基板が落下しないようにする基板固定部分と、基板が基板ステージのどこにでも固定できるようにするためのマグネット部分からなる固定器具を用いたことを特徴とするものである。 - 特許庁

The method for manufacturing the electrode for the lithium secondary battery includes a process where Li_2O is coupled with Co, and a process where a positive pole active material layer containing an Li-Co-O layer is formed on a collector 7 using an electron beam heating vacuum vapor- deposition apparatus 1.例文帳に追加

このリチウム二次電池用電極の製造方法は、Ｌｉ_2ＯとＣｏとを組み合わせる工程と、電子ビーム加熱真空蒸着装置１を用いて、集電体７上にＬｉ−Ｃｏ−Ｏ層を含む正極活物質層を形成する工程とを備える。 - 特許庁

To provide a liquid crystal element having oblique vapor deposition films which function as horizontal alignment layers to obtain a suitable pretilt angle of a liquid crystal molecule and is formed with a simple constitution, as the liquid crystal element on which a blue laser beam having 390 to 500 nm wavelength is made incident.例文帳に追加

３９０ｎｍ〜５００ｎｍの青色レーザー光を入射させる液晶素子において、水平配向膜として機能し、液晶分子の適切なプレチルト角が得られ、かつ簡易的な構成で形成される斜方蒸着膜を有する液晶素子を提供する。 - 特許庁

An organic high-molecular film is formed as an insulating base (1) on one of the surfaces of a conductive sheet or a foil by a vapor deposition polymerization method, and a prescribed circuit pattern (3) is formed on the insulating base (1) by subjecting the conductive sheet or the foil to processing to form the printed board.例文帳に追加

導電性薄板又は箔の一方の面上に蒸着重合法により有機高分子膜を絶縁基体（1）として形成し、前記導電性薄板又は箔を加工して前記絶縁基体上に所定の回路パタ−ン（3）を形成したプリント基板。 - 特許庁

With such a constitution, since a CVD (chemical vapor deposition) film is not grown at a region in which the insulating film 12 is formed, and the film is not formed at the region where the insulating film 12 is formed in a film-forming process after a cleaning process, the selectivity of the film-forming method in this invention is high.例文帳に追加

従って、絶縁膜１２が形成された領域にＣＶＤ膜が成長せず、クリーニング工程の後の成膜工程で、絶縁膜１２が形成された領域に膜が形成されないので、本発明の成膜方法の選択性は高い。 - 特許庁

A vapor deposition membrane of an inorganic oxide is provided on one surface of a resin film impregnated and dyed with at least one component such as a dye, an ultraviolet absorbent or an anti-fogging agent.例文帳に追加

染料、紫外線吸収剤、または、防曇剤の１種ないし２種以上を浸透染着した樹脂フィルムの片面に、無機酸化物の蒸着薄膜を設けたことを特徴とする無機蒸着樹脂フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。 - 特許庁

The method includes steps of providing a semiconductor substrate on which a gate electrode pattern is formed, implementing many-time simultaneous vapor deposition and etching processes to form an interlayer dielectric film made up of multilayer HDP oxidized films so as to embed the gate electrode pattern.例文帳に追加

ゲート電極パターンが形成された半導体基板を提供する段階と、多数回の同時蒸着及びエッチング工程を行い、前記ゲート電極パターンが埋め込まれるように多層のＨＤＰ酸化膜からなる層間絶縁膜を形成する段階とを含む。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a silicon nitride film or a silicon oxynitride film having excellent characteristics by the thermal chemical vapor deposition method without accompaniment of generation of ammonium chloride and mixture of carbon system contamination quality into the film.例文帳に追加

塩化アンモニウムの生成を伴うことなく、しかも炭素系汚染質を膜内に混入させずに、優れた特性を有するシリコン窒化物膜もしくはシリコンオキシ窒化物膜を熱化学気相成長（熱ＣＶＤ）法により製造するための方法を提供する。 - 特許庁

A plurality of carbon nanotubes are grown on a metal substrate made of an Ni-based alloy containing ≥Ni 20 atom% in the presence of a metal catalyst and in a reactive atmosphere using a method to grow carbon nanotubes by chemical vapor deposition (CVD).例文帳に追加

Ｎｉ２０原子％以上を含有するＮｉ基合金よりなる金属基板上に金属触媒の存在下にカーボンナノチューブを化学気相成長（ＣＶＤ）させる方法を用い、反応雰囲気下に複数のカーボンナノチューブを成長させることを特徴とする。 - 特許庁

The electrostatic chuck member is characterized in having a vapor-phase deposition evaporated film of amorphous carbon and hydrogen solids containing superparticles of metal oxides and also containing hydrogen by 15 to 40 at% on an external surface of an electrostatic chuck member composed of an electrode layer and an electric insulating layer.例文帳に追加

電極層と電気絶縁層とからなる静電チャック部材の外表面に、金属酸化物の超微粒子を含み、水素含有量が１５〜４０ａｔ％であるアモルファ状炭素・水素固形物の気相析出蒸着膜を有する静電チャック部材。 - 特許庁

The plastic container 1 is made up by coating its interior or exterior or both of the interior and the exterior with a zinc oxide film 10 which is formed by plasma chemical vapor deposition method and includes 0.1 atom.% or more of carbon atoms.例文帳に追加

容器１の内面または外面、あるいは両面に酸化亜鉛の薄膜１０がコーティングされ、その薄膜１０がプラズマ助成式ＣＶＤ法により形成され、その薄膜中に０．１atom％以上の炭素原子を含むプラスチック容器１とするものである。 - 特許庁

The semiconductor capacitor includes an upper electrode 130, a lower electrode 110, a tantalum oxide film 120 formed on the lower electrode by chemical vapor deposition by using a source gas comprising ozone and a tantalum precursor containing atom or atomic group combined with tantalum by coordination bonding.例文帳に追加

下部電極１１０、タンタル原子と配位結合する原子又は原子団を含むタンタル前駆体及びオゾンガスをソースガスとして前記下部電極上に化学気相蒸着したタンタル酸化膜１２０及び上部電極１３０を含んで構成される。 - 特許庁

A through hole 11 is formed on a board 10, a first conductor layer 12 is formed by plating, a through hole insulating layer 14 is formed by sputtering or vapor deposition, a second conductor layer 16 is formed by plating, and a wiring board which has a coaxial through hole conductor is manufactured.例文帳に追加

基板１０に、スルーホール１１を設け、第１導体層１２をメッキにより形成し、スルーホール絶縁層１４をスパッタまたは蒸着により形成し、第２導体層１６をメッキにより形成して、同軸スルーホール導体を備えた配線用基板を製造する。 - 特許庁

To produce vapor deposition source made of an organic compund which can rapidly and uniformly be heated even in case of having low thermal conductivity, a thin film can stably be deposited in the surface of an article, and the organic compound is not scattered at the time of working and carrying.例文帳に追加

熱伝導性の悪い有機化合物でも素早くかつ均一に有機化合物を加熱することができ、物品表面に薄膜を安定に形成でき、なおかつ加工や運搬の際に有機化合物が飛散しないような蒸着源を製造する。 - 特許庁

Before vapor deposition of a thin film on a sheet-like substrate 2 in a substrate holding drum 10, the surface of the substrate 2 is subjected to friction treatment by friction rollers 4, 6, 8 and 9, the surface condition of the substrate 2 is unified, anisotropy is provided thereon or suppressed.例文帳に追加

シート状の基板２が基板保持ドラム１０において薄膜を蒸着される前に、基板２の表面が摩擦ローラー４、６、８、９によって摩擦処理を施されて、基板２の表面状態を均一化し、または、異方性を持たせ、または、異方性を抑制する。 - 特許庁

The member of the ink cartridge is constituted by sticking a barrier film obtained by successively providing a pre-treatment layer 2, a transparent vapor deposition thin film layer 4 composed of inorganic oxide, and a gas barrier coating film layer 5 to at least one side of a transparent plastic film base material 1 or sticking a transparent film thereto further.例文帳に追加

透明プラスチックフィルム基材１の少なくとも片面に、前処理層２、無機酸化物からなる透明蒸着薄膜層４、ガスバリア性被膜層５を順次設けたバリアフィルムもしくは、さらに透明フィルムを貼り合わせたインクカートリッジ用部材。 - 特許庁

In the EB vapor deposition apparatus (1) having a planetary (9) in the product chamber part (3), sticking preventing plates on the inside wall of the product chamber part (3) are eliminated or the number is reduced by arranging blind sticking preventing plates (19) and sticking preventing top plates (20) to cover the planetary (9) by surrounding.例文帳に追加

プロダクトチャンバー部（３）内にプラネタリィ（９）を有したＥＢアルミ蒸着装置（１）において、プラネタリィ（９）を取り囲むように覆うブラインド防着板（１９）、防着天板（２０）を配置することで、プロダクトチャンバー部（３）内壁の防着板数を無くす又は減少させる。 - 特許庁

By the above, since the molecules having dipole moment of 0.5 D as impurities can be prevented from being taken into the EL element at the time of vapor deposition, the organic EL element having high light emission efficiency, with few deterioration of brightness with the passage of time at strong light emission, can be obtained.例文帳に追加

これにより、蒸着時に不純物としての双極子モーメントが０．５Ｄの分子が素子に取り込まれることを防ぐことができるので、高発光効率、かつ高発光時の経時輝度劣化が極めて少ない有機ＥＬ素子を得ることができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electrode for a lithium secondary battery capable of preventing reduction of the charging/discharging capacity and degradation of the charging/discharging cycle characteristics, when a positive pole active material layer is formed on a collector by a vapor- deposition method or a sputtering method.例文帳に追加

蒸着法やスパッタ法などを用いて集電体上に正極活物質層を形成する場合における充放電容量の減少と充放電サイクル特性の悪化とを防止することが可能なリチウム二次電池用電極の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the radiation image conversion panel is characterized by that the stimulable phosphor layer is formed by the vapor phase deposition method in which the support body temperature during evaporation is controlled in 50 to 150 °C.例文帳に追加

輝尽性蛍光体層が気相堆積法（気相法）により形成される放射線画像変換パネルの製造方法において、蒸着時の支持体温度を５０〜１５０℃に制御して蒸着することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 - 特許庁

The non-contact IC tag label is mounted on an antenna face made of the metallic thin film formed on the side of the base member and the metallic thin film is made by a putting leaf method or a vapor deposition method.例文帳に追加

本発明の非接触ＩＣタグは、基材面に形成された金属薄膜からなるアンテナ面に非接触ＩＣタグラベルを装着した非接触ＩＣタグであって、金属薄膜が箔押し法または蒸着法により形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

Namely, in the case the film thickness of Al_2O_3 formed on the upper face of the film for forming columnar projections by a vapor deposition method is controlled to 50 to 100 Å, a film of Al_2O_3 is not formed, but insular many particles 4 consisting of Al_2O_3 are formed at random.例文帳に追加

すなわち、柱状突起形成用膜の上面に蒸着法により形成されるＡｌ_2Ｏ_3の膜厚が５０〜１００Åになるようにすると、Ａｌ_2Ｏ_3が膜状に形成されず、Ａｌ_2Ｏ_3からなる島状の多数の粒子４がランダムに形成される。 - 特許庁

The IC chips 1 with the rear-surface metal 2 are manufactured inexpensively without warping the chips 1 by forming separating grooves 23 into a wafer 7 from the rear surface of the wafer 7 along IC chip separating lines drawn on the rear surface, and precipitating the rear-surface metal 2 by the sputtering method, vapor deposition method, or electroless plating method.例文帳に追加

予め、ＩＣチップ１切断面にウエハ７裏面よりハーフダイシングにより分離溝２３を形成し、次にスパッタ法、蒸着法又は無電解メッキ法により裏面金属２を析出させることで、反ることのない安価な製造法を提供できた。 - 特許庁

To provide a heat generating sheet which prevents the retention of steam and drips, has no direction property in folding, and is easy of handling and free from the generation of cracks in a metal vapor deposition layer, in a heat generating sheet for cocking with a microwave oven for properly browning the surface of cooking materials.例文帳に追加

調理品の表面に適度な焦げ目を施す電子レンジ調理用発熱シートにおいて、蒸気やドリップが溜まらず、折り曲げに方向性がなく使い易く、金属蒸着層に割れの発生の危惧のない発熱シートを提供することにある。 - 特許庁

In the process of forming a protecting layer 8 composed of a metal oxide MgO film, the film formation is carried out in a state that a vacuum pressure of a vapor deposition room 21 is made to be within a range of 1×10^-1 Pa to 1×10^-2 Pa.例文帳に追加

金属酸化膜であるＭｇＯ膜による保護層８を形成する工程において、その際の成膜は、成膜室である蒸着室２１内の真空度を１×１０^−１Ｐａ〜１×１０^−２Ｐａの範囲内とした状態で行うようにする。 - 特許庁

A SiC film 12 is formed by a chemical vapor deposition(CVD) method on a silicon carbide ceramic substrate 11 on at least the face to be used as a mirror face, and then an Al film 13 is deposited on the SiC film 12 to manufacture the optical reflection mirror for a He-Ne laser.例文帳に追加

炭化珪素系セラミック基材１１の少なくともミラー面となる面に、化学気相成長（ＣＶＤ）法によりＳｉＣ膜１２を形成し、ＳｉＣ膜１２上にＡｌ膜１３を積層してＨｅ−Ｎｅレーザ用光学反射ミラーを作製する。 - 特許庁

The form of the profile is shown by profile variable α, and when it is found that the profile variable αis large by 0.03 or more than the desired value, the composition of a reactive gaseous mixture is controlled as a variable of time during next vapor deposition process.例文帳に追加

プロフィルの形体は、プロフィル変数αで示し、プロフィル変数αが所望の値から０．０３より大きく離れていることが明らかになった場合、次の蒸着工程の間に反応性ガス混合物の組成を時間の関数として調整する。 - 特許庁

To improve the performance of a stimulable phosphor layer by easily filling a filler into interstices between column crystals of stimulable phosphors in a radiation image conversion panel which has the stimulable phosphor layer shaped like a column crystal made by a vapor phase deposition method.例文帳に追加

気相堆積法で形成された柱状結晶状の輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルの輝尽性蛍光体の柱状結晶の間隙に容易に充填材を充填して輝尽性蛍光体層の性能を向上させる。 - 特許庁

To provide a gas barrier film of excellent gas barrier property including at least a composite layer, in which an easily bondable layer, an anchor coating layer, and a vapor deposition layer of an inorganic oxide are sequentially laminated, on at least one face of a polyamide resin film base material.例文帳に追加

ポリアミド系樹脂フィルム基材の少なくとも一方の面に、易接着層とアンカーコート層と無機酸化物の蒸着薄膜層とが順次積層されてなる複合層が少なくとも設けられてなる、ガスバリア性に優れるガスバリア性フィルムの提供。 - 特許庁

Consequently, the information can be stored with high density by recording the information by accumulating electric charges in the magnetic medium 50 having the wear-resisting thin film formed by coating, vapor deposition, etc., and reproducing the information by using an electrostatic force.例文帳に追加

このように構成すれば、耐摩耗性薄膜が塗布法や蒸着法等により形成された磁性媒体５０に電荷を蓄積して情報を記録し、静電力を用いてこの情報を再生することにより、高密度で情報を記憶することができる。 - 特許庁

The reflector base material for a lighting unit is characterized in that the base material is a molding made of the film which has a close proximity between the molding temperature and the releasable temperature after the cooling posterior to the molding; and the reflector or a lighting unit has on the base material a reflecting layer mounted with the vapor deposition.例文帳に追加

成形温度と成形後に冷却して取り出し可能となる温度が近接フィルムの成形体からなることを特徴とする照明機器用反射体基材およびこの基材上に反射層を蒸着で設けた照明機器用反射体。 - 特許庁

When continuously manufacturing the plastic film having the inorganic oxide layer on at least its one side by using the vapor deposition system, the temperature of the plastic film, onto which the inorganic oxide layer is formed, is controlled to ≤ 25°C in advance.例文帳に追加

少なくとも片面に無機酸化物層を持つプラスチックフィルムを蒸着装置を用い連続的に製造するときにおいて、該無機酸化物層を形成するプラスチックフィルムの温度を予め２５℃以下にすることを特徴とする透明蒸着フィルム製造方法。 - 特許庁