意味 | 例文 (999件) |
Vapor Depositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5223件
Since the reformer for the fuel cell includes the reaction board in which the minute air pores are formed in the flow passage channel, and has the large specific surface area of the activity, and the catalyst layers are formed by a vapor deposition method, the reformer has an advantage that it is down-sized.例文帳に追加
本発明の燃料電池用改質器は、流路チャンネルに微細気孔が形成された反応基板を含んでおり、活性比表面積が大きく、蒸着法で触媒層を形成させるので、改質器を小型化することができるという長所がある。 - 特許庁
To provide a melting heat transfer ribbon for a metallic print having a metal vapor deposition layer which can be used while the setting thereof as having no metallic luster is left as it is, in a melting heat transfer printer wherein a reflection type photosensor is used for detecting a ribbon end.例文帳に追加
反射型の光センサーをリボンエンド検知に使用する溶融熱転写プリンターにおいて、金属光沢を有しない溶融熱転写リボンの設定のまま使用できる金属蒸着層のあるメタリック印画用の溶融熱転写リボンを提供するものである。 - 特許庁
The method for manufacturing the fibrous carbon by the chemical vapor deposition method comprises using a material in which at least a melamine derivative is dissolved in an organic solvent as a raw material, and spraying and introducing the raw material into the reaction container.例文帳に追加
化学気相成長法による繊維状炭素を製造する方法において、有機溶剤に少なくともメラミン誘導体を溶解したものを原料として用いて、該原料を反応容器内へ噴霧導入することを特徴とする繊維状炭素の製造方法。 - 特許庁
After forming a dummy gate resist pattern 24 on a GaAs substrate 11 for which a buffer layer 12, a channel layer 13, an electron supply layer 14, a Schottky layer 15 and a cap layer 16 are laminated, an SiO2 film 26 provided with a gate-opening part 25 is formed by vapor deposition and lift-off.例文帳に追加
バッファ層12とチャネル層13と電子供給層14とショットキ層15とキャップ層16とを積層したGaAs基板11上にダミーゲートレジストパターン24を形成後、蒸着、リフトオフによりゲート開口部25を持つSiO_2膜26を形成する。 - 特許庁
A W-film 2 is deposited on the substrate 1 to be treated by CVD (Chemical Vapor Deposition) using gaseous W(CO)_6 (stage 1), and a part or the whole of the W-film 2 deposited in this way is subjected to nitriding by plasma comprising gaseous N_2 (stage 2), so that the W-based film is obtained.例文帳に追加
被処理基板1上にW(CO)_6ガスを用いたCVDによりW膜2を成膜し(工程1)、そのようにして成膜したW膜2の一部または全部をN_2ガスを含むプラズマで窒化してWN膜3とし(工程2)、W系膜を得る。 - 特許庁
To provide a method for forming a silica film which prevents excessive diffusion of source and drain layers and has a high crack limit, in place of a chemical vapor deposition method which has been so far used when it is desired to provide a flattened film or an insulating film on a wiring layer having a high heat resistance.例文帳に追加
これまで高耐熱性配線層上に、平坦化膜又は絶縁膜を設ける際に用いられていた化学蒸着法に代わる、ソース層及びドレイン層の過度の拡散を生じない、かつクラック限界の高いシリカ被膜の形成方法を提供する。 - 特許庁
Oxygen gas introducing means 217a-217c and H_2O gas introducing means 218a-218c are respectively installed at three locations in the vicinity of the center line 221 of a substrate 103 and in the vicinity of end parts 222, 223 of the substrate 103 at nearby the exit of a vapor deposition chamber 202.例文帳に追加
蒸着室202の出口付近に、基板103の中心線近傍221と基板103の端部近傍222、223に3ヶ所、それぞれ酸素ガス導入手段217a〜217cとH_2Oガス導入手段218a〜218cとが設けられている。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a light-emitting device capable of reducing manufacturing cost, and improving accuracy of pattern formation of EL layers of respective colors, in the case where a full-color flat panel display using emission colors such as red, green and blue is manufactured, and to provide a substrate for vapor deposition.例文帳に追加
赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、製造コストを削減し、各色のEL層のパターン形成の精度を向上させることが可能な発光装置の作製方法及び蒸着用基板を提供する。 - 特許庁
At first, a thin metallic layer is deposited on the non-conductive supporting body by physical vapor deposition so as to apply the electroplating of one or more thick metallic layers on the thin metallic layer for providing an electro-magnetic wave shielding function and, preferably, an additional protecting function.例文帳に追加
電磁波シールド機能および好ましくは付加的な防護機能を備えるために、薄い金属層の上に一つ以上の厚い金属層を電気メッキできるようにすべく、まず、不導体性支持体の上に、物理蒸着により、薄い金属層が堆積される。 - 特許庁
The body of lead frame 10 is formed with a resin of epoxy, etc., and a conductive metal thin layer 13 is deposited and formed by a metal surface treatment such as plating or vapor deposition on the surface of at least leads, i.e., terminals 12 from among the lead frames 10.例文帳に追加
リードフレーム10の本体はエポキシ等の樹脂より成形され、リードフレーム10のうち少なくともリード部であるターミナル12の表面には、導電性の金属薄層13がめっきや蒸着等の金属表面処理によって固着形成されている。 - 特許庁
To provide a decorative plastic container which is excellent in recycle suitability and has high design properties including a picture pattern-like pattern by directly forming thin films with different refractive indices on the surface of a plastic container substrate by a vapor deposition, coating or printing means.例文帳に追加
プラスチック容器基材表面に屈折率の異なる薄膜を蒸着、塗工または印刷手段によって直接設けることにより、リサイクル適性に優れた、絵柄状のパターンを含む、意匠性の高い加飾プラスチック容器を提供することである。 - 特許庁
The vapor deposition area of the reflection material is set in two positions, that is, an area matching a light projection window for projecting a laser beam in an optical distance sensor and an area matching a light receiving window in the optical distance sensor receiving a measurement light reflected from a measurement reference point of a rail.例文帳に追加
なお、反射材の蒸着範囲は、光式距離センサのレーザ光を投光する投光窓に対応した範囲とレールの測定基準点から反射した測定光を受光する光式距離センサの受光窓に対応した範囲の2箇所とした。 - 特許庁
To provide a CVD (Chemical Vapor Deposition) coating method and a CVD coating device capable of improving the productivity of CVD coating to a work and further capable of solving the problem that traces caused by the support of a supporting member are left in the specified part of the work.例文帳に追加
ワークに対するCVDコーティングの生産性を向上させると共に、ワークの特定な箇所に支持部材の支持に伴う痕跡を残すという問題を解消することができるCVDコーティング方法およびCVDコーティング装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a treatment device for a substrate where troubles in conveyance of a substrate on its elevating/lowering in a reaction chamber of a CVD (Chemical Vapor Deposition) system are reduced, and the drop in the productivity of an array substrate in an LCD (Liquid Crystal Display) or the like is prevented by the reduction of the troubles.例文帳に追加
本発明は、CVD装置などの反応室内での基板の昇降時における基板の搬送トラブルを低減し、トラブルの低減によってLCDのアレイ基板などの生産性を落とさない基板の処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a multilayered metal laminated sheet having predetermined thickness and using no adhesive by bonding a metal sheet having a metal membrane formed thereon and a metal foil without using an adhesive by a membrane forming method such as vacuum vapor deposition, sputtering or the like, and a method for continuously manufacturing the multilayered metal laminated sheet by forming the membrane to the metal sheet and bonding the metal foil thereto.例文帳に追加
真空蒸着、スパッタリング等の薄膜形成方法により、表面に金属薄膜を形成した金属板と金属箔とを、接着剤を用いずに接合し、所定の厚みを有する接着剤レスの多層金属積層板を提供する。 - 特許庁
To obtain a vapor deposition film having excellent transparency and high gas barrier properties not generating the deterioration of physical properties even after boiling or retorting sterilization, having boiling and retorting resistance not generating delamination or the like and high in practicality and a packaging material using the same.例文帳に追加
透明性に優れ、且つ高いガスバリア性を有すると共にボイル殺菌やレトルト殺菌後も物性の劣化がなく、デラミネーション等の発生がないボイル耐性、レトルト耐性を持つ実用性の高い蒸着フィルムおよびこの蒸着フィルムを用いた包装材料。 - 特許庁
This heating element for metal vapor deposition is a ceramic containing titanium diboride (TiB_2) and / or zirconium diboride (ZrB_2) and boron nitride (BN), and an oxide layer containing Al and / or Si is formed at a portion where the molten metal is made to exist.例文帳に追加
二硼化チタン(TiB_2)及び/又は二硼化ジルコニウム(ZrB_2 )と窒化硼素(BN)とを含有してなるセラミックスであって、溶融金属を存在させる部位に、Al及び/又はSiを含む酸化物層が形成されてなることを特徴とする金属蒸着用発熱体。 - 特許庁
In this annealing step, gas containing a simple substance of ammonia or an ammonia gas is used, and the Cu film is formed by CVD (chemical vapor deposition) after the annealing step, whereby the adhesiveness between the base film and the upper Cu film deposited by the subsequent film formation can be improved.例文帳に追加
このアニール工程ではアンモニア単体またはアンモニアガスを含むガスを用い、該アニール工程の後、前記Cu膜をCVD法により成膜することで、前記下地膜とその後の成膜で堆積する上層のCu膜との密着性を高くすることができる。 - 特許庁
The carbon nanotube assembly is obtained by chemical vapor deposition on a substrate and characterized in that a part of at least 80% in the height has a linearity of ≤10°, the surface smoothness is ≤0.3 μm, and the bulk density is ≥30 mg/cm^3.例文帳に追加
基板上に化学気相成長させたカーボンナノチューブの集合体であって、その高さの80%以上が10°以下の直線性を有し、かつ表面平滑さが0.3μm以下で、嵩密度が30mg/cm^3以上であるカーボンナノチューブ集合体。 - 特許庁
To provide a gas barrier material that is produced from fossil resources, does not use vapor deposition of inorganic substance, has high crystallinity, uses a cellulose being an eco-friendly natural material and is required for toiletries, foods, medicines, medical products and electronic members.例文帳に追加
化石資源から製造されるガスバリア材料や、無機物の蒸着を利用することなく、高い結晶性を持ち、環境配慮型の天然材料であるセルロースを用いて、トイレタリーや食品、薬品、医療品や電子部材に求められるガスバリア材料を提供する。 - 特許庁
To provide a laminate which has excellent lamination strength, keeps the lamination strength between a vapor deposition thin film layer and a sealant layer even if various strongly permeable contents containing volatile substances operate, and has high gas-barrier properties.例文帳に追加
優れたラミネート強度を有し、かつ揮発性物質が含まれている各種強浸透性内容物が作用しても蒸着薄膜層とシーラント層間のラミネート強度が低下せず、さらには高度なガスバリア性を有していることを特徴とする積層体を提供する。 - 特許庁
The electronic device employs a means characterized in that: no carbon is contained in the nano-element; and the nano-element comprises MoO_x and is formed on a substrate by an electron ray induced vapor deposition method.例文帳に追加
上記課題を解決するために、電子デバイスは、ナノ素子中に炭素が含有されていないこと、また、前記素子がMoO_xであること、および前記ナノ素子は、電子線誘起蒸着法により基板上に形成されたものであることを特徴とする手段を採用した。 - 特許庁
In a chemical vapor deposition system growing carbon nanotubes 3000 on substrates 1300, a boat containing supporting projections respectively supporting substrates 1300 numerously amounted parallely in the horizontal direction and many vertical axes provided with the supporting projections is utilized.例文帳に追加
基板1300上にカーボンナノチューブ3000を成長させる化学気相蒸着装置において、水平方向に平行に多数枚搭載される基板1300を各々支持する支持突起、および支持突起が設けられた多数本の垂直軸を含むボートを利用する。 - 特許庁
A first electrode and a second electrode separated from each other are formed on a substrate and after stacking a silicon layer in which amorphous silicon and polycrystalline silicon exist mixedly by the sputtering method or the chemical vapor deposition method, a semiconductor is formed by patterning the silicon film.例文帳に追加
基板上に互いに分離されている第1及び第2電極を形成し、非晶質と多結晶シリコンとが混在するシリコン膜をスパッタリング法または化学気相蒸着法で積層した後、前記シリコン膜をパターニングして半導体を形成する。 - 特許庁
To provide a novel carbon nanotube production apparatus and method capable of optionally selecting the use of a metal catalyst in a vapor deposition method being capable of continuously operated and suited for mass production and to provide a gas decomposer suitable for use therein.例文帳に追加
連続運転が可能で量産に適した気相成長法において、金属触媒の使用を必要に応じて選択することができる新たなカーボンナノチューブの製造装置および製造方法、さらにそれに用いるに適したガス分解器を提供すること。 - 特許庁
The metal film is formed on the surface of the resin substrate by a vapor deposition process or a wet plating after forming a cross-linked layer in which methylene groups are tightly bonding each other, on the surface of the substrate mainly comprising a resin having methylene chain.例文帳に追加
メチレン鎖を有する樹脂を主成分とする樹脂基材表面にメチレン基どうしが架橋反応により強固に結合した架橋層を形成した後に、この樹脂基材表面に気相成長法あるいは湿式めっきにて金属膜を形成する。 - 特許庁
To provide a metal like decorative film having hairlines prevented from the peeling of the polyester film in a final product from a metal vapor deposition layer, not damaged in molding processability and excellent in fingerprint resistance, damage resistance and hairline design properties.例文帳に追加
本発明は、ヘアラインを有する金属調化粧フィルムであって、最終製品でのポリエステルフィルムの金属蒸着層での剥がれがなくかつ成形加工性を損なうことなく、優れた耐指紋性、耐傷付性、およびヘアライン意匠性を有する化粧フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide a vapor phase growth system of a copper thin film by which a copper thin film having good film quality, desired film thickness and few remaining impurities can be deposited at a high film deposition rate with inexpensive chlorine or hydrogen chloride as a gaseous starting material.例文帳に追加
安価な塩素または塩化水素を原料ガスとして用いて成膜速度が速く、かつ不純物が残留し難い膜質が良好でかつ目的とする膜厚を有する銅薄膜を形成することが可能な銅薄膜の気相成長装置を提供する。 - 特許庁
Although this method is same as a method of manufacturing a carbon nano structure such as carbon nanowall and carbon nanotube by plasma CVD (Chemical Vapor Deposition), a transparent conductive film having carbon as the constituent element can be manufactured by filling it in a plasma of nitrogen gas or a plasma of nitrogen radical.例文帳に追加
カーボンナノウォールやカーボンナノチューブなどのカーボンナノ構造体をプラズマCVDで製造する方法と同じであるが、窒素ガスのプラズマや窒素ラジカルのプラズマ中への注入により、炭素を構成元素とする透明導電膜を製造することができる。 - 特許庁
To provide a CVD (chemical vapor deposition) device inner tube made from a vitrified carbon which is roughened without increasing metal impurity which causes occurrence of particles, which is superior in adhesiveness with CVD attachment, and which has high roundness.例文帳に追加
パーティクル発生原因となる金属不純物の増加を招くことなく粗面化がなされてCVD付着物との密着性に優れるとともに、高い真円度を有するガラス状炭素製のCVD装置用インナーチューブ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
In this colored carbon shaft for the golf club mainly composed of a carbon material, the colored layer of more than one sort of substances among dyes and pigments is provided on a surface part by plasma vapor phase deposition.例文帳に追加
炭素質素材を主として構成されたゴルフクラブ用のカーボンシャフトにおいて、表面部には、染料および色素のうちの1種以上の物質のプラズマ気相蒸着による着色層が設けられていることを特徴とするゴルフクラブ用の着色カーボンシャフトとする。 - 特許庁
The apparatus for manufacturing the semiconductor device including the decompression vapor deposition apparatus that uses the plasma has a heater 6 provided in the periphery of a treatment chamber 4, and an electroconductive electrode 12 which is vacuum-sealed in a protection pipe 11 installed in the treatment chamber 4.例文帳に追加
プラズマを用いる減圧気相成長装置を含む半導体装置の製造装置において、処理チャンバー4の周囲にヒータ6を設けると共に、前記処理チャンバー4の内部に保護管11内に真空封止された導電性電極12を設置した。 - 特許庁
Since the fine particulate (or superfine particulate) powder generated by this invention has high generation speed, small powder grain size, excellent crystal lattice coordination and further is generated in a high temperature condition (high temperature powder), physical vapor deposition in natural condition (nonvacuum state) can be executed.例文帳に追加
本発明により生成した微粒子(或いは超微粒子)粉体は生成速度が速く、粉体粒径が小さく、結晶格子配位が良好で且つ高温条件中で生成される(高温粉体)ため、自然長態(非真空状態)で物理蒸着可能である。 - 特許庁
To provide a laminate having a gas barrier thin film layer such as a vapor deposition thin film layer, having high-degree gas barrier properties almost equal to those of a metal foil and stably holding the high-degree gas barrier properties even during use.例文帳に追加
蒸着薄膜層などのガスバリア性の薄膜層を有する積層体であって、金属箔並みの高度なガスバリア性を有し、しかもその高度なガスバリア性が使用中においても安定的に保持し続けるようにした積層体の提供を目的とする。 - 特許庁
In the method for producing the vapor deposition material, starting material mixtures comprising oxide based ceramic powder (such as zirconia powder) and a pore-forming agent (such as polystyrene beads and carbon powder) is compacted so as to be a prescribed shape (such as a cylindrical shape), and is thereafter fired.例文帳に追加
また、本発明の蒸着材の製造方法は、酸化物系セラミック粉末(ジルコニア粉末等)と造孔剤(ポリスチレンビーズ、炭素粉末等)とを含有する原料混合物を所定形状(円柱形等)に成形し、その後、焼成することを特徴とする。 - 特許庁
The manufacturing of a channel layer comprises following steps of forming a first amorphous silicon layer by using a low deposing rate(LDR)(chemistry vapor deposition(CVD)), and forming a second amorphous silicon layer by using a high deposing rate(HDR) to form an N + mixed amorphous silicon layer.例文帳に追加
チャンネル層の製作は次のステップを含む:低蒸着率(LDR)を用いて第一のアモルファス・シリコン層を形成し(化学蒸着、CVD);高蒸着率(HDR)を用いて第二のアモルファス・シリコン層を形成し;N+ミクスト・アモルファス・シリコン層を形成する。 - 特許庁
To provide a reflective film composed of an Ag-based alloy, which never causes a whitened portion or roughing of the whitened portion while having high reflectivity even when a defect is present in the film, and to provide a sputtering target material or a vapor deposition material for forming the same.例文帳に追加
高い反射率を有しながら、膜に欠陥が存在していても、白濁部が発生したり白濁部が粗大化しないAg基合金からなる反射膜およびそれらを形成するためのスパッタリングターゲット材または蒸着材料を提供すること。 - 特許庁
There are provided: a gas barrier nature film having a vapor deposition layer consisting of an inorganic compound in at least one side of a film base material with the weathering ability and the hydrolysis-proof nature; and a film base material which is arranged in the gas barrier nature film and has the thermal resistance.例文帳に追加
耐侯性・耐加水分解性を有するフィルム基材の少なくとも片面に無機化合物からなる蒸着層を有するガスバリア性フィルムと、前記ガスバリア性フィルムに配置された耐熱性を有するフィルム基材とを有することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a light guide plate which guides an external light source, efficiently irradiates an external objective member with this light, efficiently reflects the light from this objective member by reflection layers to the external objective member, is good in the film adhesion of vapor deposition and has good environment resistance.例文帳に追加
外部光源を導光して効率よく外部の対象部材に照射し、また、前記対象部材よりの光を反射層で効率よく前記外部の対象部材に反射し、且つ蒸着の膜付きがよく、耐環境性の良い導光板を提供。 - 特許庁
In the film-forming method in which a mask 130 having an arbitrary pattern is arranged on a base board 10, and in which the thin film 40 is formed by adhering fluorocarbon onto the base board 10 by a plasma chemical vapor deposition method, the mask 130 formed by a weak magnetic material is used.例文帳に追加
任意のパターンを有するマスク130を基板10上に配置し、プラズマ化学気相成長法により基板10上にフルオロカーボンを付着させて、薄膜40を形成する成膜方法において、弱磁性体により形成されたマスク130を用いる。 - 特許庁
Either one of opening end parts of a hollow body is sealed into an airtight state by a closing member, and the hollow body is charged to the inside of a plasma CVD (chemical vapor deposition) reactor, and is subjected to plasma coating at a coating temperature in a vacuum.例文帳に追加
中空体の一方の開口端部を閉鎖部材により気密状に密閉し、該中空体をプラズマCVD反応器内に入れ、中空体に真空下、コーティング温度でプラズマコーティングを行なうことを特徴とする中空体の均一コーティング方法が提供される。 - 特許庁
To provide a thermal CVD (Chemical Vapor Deposition) system where, even in the case the size of a substrate is enlarged, the thickening of an infrared transmission window installed between a heating means and the substrate for maintaining its strength to the atmospheric pressure is prevented, and the increase of the cost can be suppressed.例文帳に追加
基板サイズが大型化された場合においても、加熱手段と基板との間に設置される赤外線透過窓の厚みを大気圧に対して強度保持のために厚くすることを防止し、コストアップを抑えることができる熱CVD装置を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the mask for vapor deposition is carried out by forming photoresist films 12a, 12b through reflection preventing films 30A, 30B on both side surfaces of a metal thin film 10 and exposing them to form a pattern of the passage hole 10A-1 on the photoresist films 12a, 12b.例文帳に追加
蒸着用マスク1の製造方法では、金属薄膜10の両面に、反射防止膜30A,30Bを介してフォトレジスト膜12a,12bを形成したのち露光することにより、フォトレジスト膜12a,12bに通過孔10A−1のパターンを形成する。 - 特許庁
The light emitting device is formed using a method including the steps of: preparing a sapphire substrate; growing a first layer of Al_1-xGa_xN on the substrate by vapor deposition at an temperature between about 1,000°C and about 1,180°C, and growing a second layer of III-group nitride on the first layer.例文帳に追加
サファイヤの基板を準備し、約1000℃と約1180℃の間の温度で、蒸着によりAl_1-xGa_xNの第1層を基板上で成長させ、第1層の上にあるIII族窒化物の第2層を成長させることを含む発光デバイスを形成する。 - 特許庁
In a manufacturing method for an MgO vapor deposition material made into a porous sintered compact and whose average pore sizes are set to about 0.1 to 500 μm, a gas is mixed into a slurry containing MgO powder and a solvent, so as to be a raw material, and the raw material is made into a pellet by a sintering process.例文帳に追加
多孔質焼結体とされ、平均気孔径が0.1〜500μm程度に設定されるMgO蒸着材の製造方法であって、MgO粉末と溶媒とを含むスラリーに気体を混入して原料となし、焼結法によりペレットとする。 - 特許庁
In this inkjet recording paper comprising an ink accepting layer on a substrate, a layer constituting the outermost surface of the ink accepting layer contains titanium oxide particles of which the diameters of the primary particles synthesized by vapor deposition are 20 nm or less.例文帳に追加
支持体上にインク受容層を有してなるインクジェット記録用紙において、前記インク受容層最表面を構成する層が気相法により合成された1次粒径が20nm以下である酸化チタン粒子を含有することを特徴とするインクジェット記録用紙。 - 特許庁
To provide a magnetic member for an RFID, the magnetic member enhancing effectively, in particular, a communication sensitivity, compared with that in the prior art, as to structure for film-forming a magnetic film on a base material by a physical vapor deposition method; and to provide an RFID device.例文帳に追加
基材上に物理蒸着法にて磁性膜を成膜する構造に係り、特に、従来に比べて、通信感度を効果的に向上させることができるRFID用磁性部材及びRFIDデバイスを提供することを目的としている。 - 特許庁
To manufacture a vapor deposition source capable of rapidly and uniformly heating an organic compound even in the case of an organic compound inferior in thermal conductivity, capable of stably depositing thin film on the surface of an article, and causing no scattering of the organic compound during working and transportation.例文帳に追加
熱伝導性の悪い有機化合物でも素早くかつ均一に有機化合物を加熱することができ、物品表面に薄膜を安定に形成でき、なおかつ加工や運搬の際に有機化合物が飛散しないような蒸着源を製造する。 - 特許庁
A solar cell module 11 includes a solar cell 1 including a photoelectric conversion element 3 in which a glass substrate 2, a back electrode 4, a light absorption layer 5, and a transparent electrode 7 are laminated in this order by vapor deposition, a cover glass 12, a sealing layer 13, and a filler 14.例文帳に追加
太陽電池モジュール11は、ガラス基板2と、裏面電極4、光吸収層5、透明電極7がこの順に蒸着により積層された光電変換素子3とを備える太陽電池1と、カバーガラス12と、シール層13と、充填剤14とを備える。 - 特許庁
In the vapor deposition method, the surface of a base substance having a plurality of regions with different constituting element groups composed of one or more elements is irradiated with a raw material element group composed of one or more elements to be deposited on the base substance, and ionized elements.例文帳に追加
一つ以上の元素からなる構成元素群と、構成元素群の異なる複数の領域を有する基体、基体に堆積させるための一つ以上の元素からなる原料元素群と、イオン化した元素を照射する気相成膜方法である。 - 特許庁
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