「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(93ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for cleaning the plasma enhanced CVD system for depositing a desired film on a substrate by vapor phase deposition within a plasma enhanced CVD reaction chamber consists in introducing and blowing inert gas from outside to the dust which contains vapor phase deposited powder or flakes and is un-stably adhered to regions exclusive of the surface of the substrate 4 within the reaction chamber 1, thereby blowing the dust off the dust.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ反応室内で気相析出によって基板上に所望の膜を堆積するためのプラズマＣＶＤ装置をクリーニングする方法において、反応室１内で基板４上以外の領域において不安定に付着している気相析出粉末またはフレークを含むダストに対して不活性ガスを外部から導入して吹付けることによってそれらのダストを吹飛ばすことを特徴としている。 - 特許庁

The barrier film has a vapor-deposited layer of an inorganic compound on one surface of a polyamide type resin substrate film, and the other surface without the vapor deposition layer has an O(oxygen)/C(carbon) elemental ratio of 0.16-0.26, measured by the X-ray photoelectron spectroscopy with an X-ray source of MgKα and an X-ray output of 100W.例文帳に追加

ポリアミド系樹脂基材フィルムの片面に、無機化合物からなる蒸着層を設けたバリアフィルムにおいて、前記ポリアミド系樹脂基材フィルムの蒸着膜を設けない側の表面は、Ｘ線光電子分光法によるＸ線源ＭｇＫαおよびＸ線出力１００Ｗの測定条件での測定で得られる元素比率Ｏ（酸素）／Ｃ（炭素）が０．１６〜０．２６であることを特徴とするバリアフィルム。 - 特許庁

In this radiographic image conversion panel with a stimulable phosphor layer having CsBr:Eu stimulable phosphor formed on a support by a vapor deposition method (vapor phase method), layers of low luminous intensity and layers of high luminous intensity are layered alternately when a cross section of the stimulable phosphor layer is excited from a support side toward a phosphor layer surface side by an excitation light source.例文帳に追加

支持体上にＣｓＢｒ：Ｅｕ輝尽性蛍光体を有する輝尽性蛍光体層が気相堆積法（気相法）により形成される放射線画像変換パネルにおいて、該輝尽性蛍光体層の断面を励起光源にて支持体側から蛍光体層表面側に向かって励起した際に、発光強度の低い層と発光強度の高い層が交互に積層されていることを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁

The raw material carburetor for the organometallic chemical vapor deposition system includes (i) a filling port 14 for filling the liquid raw material 13, (ii) an orifice 8 having a pore diameter of such a size at which the vapor pressure of a solid raw material 10 in the carburetor 9 is held substantially constant, and (iii) a heater 7 for heating.例文帳に追加

有機金属化学気相堆積装置用原料気化器９であって（ｉ）液体原料１３を充填するための充填口１４、（ii）該液体原料１３に含まれる溶剤を除去した後に残留する固体原料１０の気化に際して、該気化器９内の該固体原料１０の蒸気圧が実質上一定に保持されるような大きさの孔径を有するオリフィス８、および（iii）加熱用ヒーター７を具備する該気化器。 - 特許庁

To provide an optical fiber preform and its manufacturing method by which an optical fiber preform is upsized and manufacturing cost is reduced by preventing the occurrence of rough skin-like fine projecting parts formed in the manufacturing process of a high density porous preform by an outside vapor deposition (OVD) method.例文帳に追加

外付け法（OVD法）による高密度の多孔質母材の製造工程において生じる鮫肌状の微小突起の発生を防止することで、光ファイバ母材の大型化を実現し、製造コストの低減を可能とする、光ファイバ母材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

That is to say, the manufacturing method of the organic light emitting element comprises a process of heating the alkali metal containing cesium carbonate or the like by 8 wt.% or less at a temperature of 400°C or less, and forming a film at a rate of 0.1 Å/sec. or less by vapor deposition.例文帳に追加

すなわち炭酸セシウム等のアルカリ金属の濃度をアルカリ金属として８重量％以下とし、４００℃以下の加熱温度、毎秒０．１Å以下の成膜レートで蒸着する工程を有することを特徴とする有機発光素子の製造方法を用いる。 - 特許庁

This release film for molding FRP by a lamination pressing process which has a metallic vapor deposition layer on one surface of a polyester film and a silicone resin layer with 0.04 to 0.5 g/m^2 amount of coating after drying formed on the other surface and not more than 10% whole light transmission.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの片面に金属蒸着層を有し、もう一方の面に、乾燥後の塗布量が０．０４〜０．５ｇ／ｍ^２となるようにシリコーン樹脂層が設けられたフィルムであり、全光線透過率が１０％以下であることを特徴とする積層プレス法ＦＲＰ成形用離型フィルム。 - 特許庁

To provide a vapor deposition film having heat treatment resistance which is resistant to deteriorations in initial gas barrier properties and laminate strength even when subjected to heat treatment by boiling sterilization, retort sterilization, heating cooking, etc., and to breakage by falling and is made to be excellent in sticking properties.例文帳に追加

ボイル殺菌、レトルト殺菌、加熱調理等による加熱処理がなされても当初のガスバリア性及びラミネート強度が劣化しにくく、落下による破袋がしにくく、突き刺し性に優れるようにした、加熱処理耐性を有する蒸着フィルムの提供を目的とする。 - 特許庁

In a first step, a vapor deposition method with a polycrystalline sintered body having an IGZO-based composition as a target is used to form, on a substrate 12, a thin film 10A comprising an amorphous oxide semiconductor containing at least one element in a group comprising In, Ga, and Zn.例文帳に追加

第１工程として、基板１２上に、ＩＧＺＯ系の組成を有する多結晶焼結体をターゲットとした気相成膜法を用いて、ＩｎとＧａとＺｎからなる群のうち少なくとも１つの元素を含有する非晶質酸化物半導体からなる薄膜１０Ａを成膜する。 - 特許庁

As the rotational mirror with a low inertia moment using a flat mirror capable of surely securing a smooth reflection face, differently from a conventional one, a thin flat mirror is stuck to an aluminum plate with an adhesive, and its length and width are decided while taking the vapor deposition areas into consideration.例文帳に追加

また、平滑な反射面が確実に確保できる平面鏡を使用した慣性モーメントの小さい回転ミラーとして、従来とは異なる薄い平面鏡をアルミ板に接着剤にて貼り付けるとともに、その長さと幅は前述の蒸着範囲を考慮した。 - 特許庁

The target contains a receiving board 302 having a center part 308 and a flange part 314 fittable to the physical vapor deposition chamber, a part 304 elongating from the center part of the receiving board and capable of sputtering and an annular rising part 332 arranged on the surface of the flange part.例文帳に追加

ターゲットは中央部分３０８と前記物理蒸着チャンバーに取付可能なフランジ部分３１４とを有する受板３０２と、該受板の中央部分から延びるスパッタ可能な部分３０４と、前記フランジ部分の表面に配置された環状の隆起部３３２とを含んでいる。 - 特許庁

In CVD growth of W, after a first W film 104 is grown by chemical vapor deposition method where SiH_4 and WF_6 are alternately supplied, a second W film 106 is formed on top of the first W film by hydrogen reduction of WF_6 to fill up the opening.例文帳に追加

次に、ＷのＣＶＤ成長において、ＳｉＨ_４とＷＦ_６を交互に供給する化学気相成長法で第１のＷ膜１０４を成長後、第１にＷ膜上にＷＦ_６の水素還元にて第２のＷ膜１０６を成膜し、開口部を埋め込む。 - 特許庁

To provide a droplet removing method by which the droplet of a coating film deposited in the arc-type physical vapor deposition process can be easily and reliably removed without damaging the film, and evaluating adhesivity of the coating film simultaneously with removal of the droplet.例文帳に追加

アーク式物理的蒸着処理で形成されるコーティング皮膜のドロップレットを、皮膜を損傷することなく容易かつ確実に除去でき、さらに、このドロップレットの除去と同時にコーティング皮膜の密着性を評価できるドロップレット除去方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The layer which is deposited on a substrate by pyrolyzing a tantalum-containing organic metallic compound by a chemical vapor deposition method and contains much carbon is exposed to a plasma while the substrate is biased, by which the tantalum-carbon-base thin film of the low specific resistance useful as the barrier layer is obtained.例文帳に追加

化学気相堆積法によりタンタル含有有機金属化合物を熱分解して基板上に堆積させた炭素を多く含む層を、基板にバイアスを印加しつつプラズマに暴露することにより、バリア層として有用な低比抵抗のタンタル−炭素系薄膜を得る。 - 特許庁

To provide a plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) process for depositing n-type and p-type zinc oxide-based transparent conducting oxides (TCOs), which are excellent in optical and electrical properties, on glass or temperature-sensitive materials such as plastics and a polymers at a low temperature.例文帳に追加

ガラスならびにプラスティックおよびポリマーなどの温度に敏感な材料上に、優れた光学的および電気的性質を有するｎ型およびｐ型酸化亜鉛系透明導電性酸化物（ＴＣＯ）を低温で堆積させる、プラズマ増強化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）プロセスを提供する。 - 特許庁

The gas barrier film has a base material, the gas barrier film made of a vapor-deposition film formed on one surface or each of both surfaces of the base material, and a water repellent film showing water repellency formed on the gas barrier film.例文帳に追加

本発明は、基材と、上記基材の片面または両面に形成された蒸着膜からなるガスバリア層と、上記ガスバリア層上に形成され、撥水性を有する膜からなる撥水層とを有することを特徴とするガスバリアフィルムを提供することにより上記目的を達成するものである。 - 特許庁

A multi-step process is used to adjust a chemical vapor deposition chamber after cleaning and between successive depositions, by removing fluorine residues from the chamber with a hydrogen plasma, and subsequently depositing a solid compound in the chamber to encapsulate any particles remaining in the chamber.例文帳に追加

洗浄後かつ連続した堆積の間に、水素プラズマでチャンバからフッ素残渣を除去し、続いてチャンバ内に固体化合物を堆積させてチャンバ内に残っている微粒子物を封入することによって、化学気相成長チャンバを調整するマルチステッププロセスを用いる。 - 特許庁

A scalable, high-throughput nanoimprint lithography priming tool includes a dual-reactant chemical vapor deposition reactor chamber, a mandrel configured to hold a plurality of hard disks at an inner diameter of the hard disks, and a transport mechanism to move the plurality of hard disks into and out of the chamber.例文帳に追加

拡張可能な、高い処理能力のナノインプリントリソグラフィー用プライミングツールが、二反応物化学蒸着反応チャンバと、複数のハードディスクを、これらのハードディスクの内径部分で保持するように構成されたマンドレルと、これら複数のハードディスクをチャンバ内に移動するための移動機構とを備えている。 - 特許庁

Between the highly doped silicon films 6s and 6d which are in contact with a source electrode 8s and a drain electrode 8d, respectively, and the polycrystalline silicon film 4, non-doped or lightly doped (100 ppm or less) hydrogenated amorphous silicon layers 5s and 5d are formed by a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

ソース電極８ｓおよびドレイン電極８ｄにそれぞれ接する高濃度不純物添加シリコン膜６ｓ，６ｄと、多結晶シリコン膜４との間に、無添加または低濃度（１００ｐｐｍ以下）不純物添加水素化非晶質シリコン層５ｓ，５ｄを化学気相成長法により形成する。 - 特許庁

To provide a display device and a method for manufacturing the display device capable of preventing the occurrence of a defect due to foreign matter sticking between pixel apertures and damage in configuration of setting a plurality of divided pixels as one sub-pixel and sharing a vapor deposition pattern among a plurality of pixel apertures.例文帳に追加

複数の分割画素を１つの副画素とするような、蒸着パターンを複数の画素開口で共有する構成において、画素開口間への異物付着や損傷による欠陥発生を防止できる表示装置および表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an original plate of a ceramic printed circuit board which has superior heat dissipation characteristics and electric characteristics by forming an adhesion layer and a thick electric conductive layer of high density on a ceramic board by a sputtering method for physical vapor deposition, and to provide a method of manufacturing the original plate.例文帳に追加

セラミック基板上に物理気相蒸着のためのスパッタリング方法により接着層及び厚膜の高密度の電気伝導層を形成し、優れた放熱特性及び電気的な特性を有するセラミック印刷回路基板の原板及びその原板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A vacuum vapor deposition device 100 for forming a film on a substrate 20 comprises a substrate holder 103, a holder heating part 105, a raw material holding part for housing a raw material of the film formed on the substrate 20 inside, a first blocking part 111, and a second blocking part 112.例文帳に追加

真空蒸着装置１００は、基板２０の上に膜を形成する真空蒸着装置であって、基板ホルダ１０３と、ホルダ加熱部１０５と、基板２０上に形成する膜の原料をその内部に収容する原料保持部と、第１遮断部１１１と、第２遮断部１１２と、を備えている。 - 特許庁

A vapor deposition thin film of specified kind of a metal constituting solder alloy components in an island shape is laminated on an endless insulation heat resistant belt, the laminate is electrified, heated and melted, successively, by removing the electrification, the laminate is peeled from the insulation heat resistant belt, the solder alloy superfine particle is recovered.例文帳に追加

エンドレスの絶縁耐熱性ベルト上にハンダ合金成分を構成する所定種類の金属の島状の蒸着薄層を積層し、その積層に帯電させ、加熱溶融し、その後に帯電を除去し絶縁耐熱性ベルトから剥離しハンダ合金超微粒子を回収する。 - 特許庁

The method for forming the thin-film transistor comprises the steps of executing a plurality of times of a step of using a plasma chemical vapor deposition process in the same depositing chamber, and executing gas cleaning of the depositing chamber and film performing, at each execution step of using the process.例文帳に追加

薄膜トランジスタの形成において、プラズマ化学気相堆積法を用いたステップが、同一の堆積室内において複数回実施され、かつ、１回実施される毎に堆積室のガスクリーニングおよび予備成膜が行われる薄膜トランジスタ形成方法を提供する。 - 特許庁

The packaging laminated material for the chocolate consists of a paper substrate having a printing layer, a reinforcing layer laminated on the above paper substrate, a heat fusion nature resin layer overlying the above reinforcing layer and an aluminum vapor deposition layer overlying the above reinforcing layer and/or the heat fusion nature resin layer.例文帳に追加

印刷層を有する紙基材と、前記紙基材に積層された補強層と、前記補強層に積層された熱融着性樹脂層と、前記補強層および／または熱融着性樹脂層に積層されたアルミ蒸着層とからなることを特徴とする、チョコレート用包装積層材である。 - 特許庁

When the surface of the elastic bodies 4 is treated by a vapor deposition or a plating in such a way that the electric resistance of the surface becomes almost 0, the suppression of an effect due to the mechanical vibration and EMC measures are realized without using a ground connecting wire for the EMC measures.例文帳に追加

前記弾性体４の表面に蒸着もしくはメッキにより表面の電気抵抗が０に近くなるよう処理したものを使うことにより、ＥＭＣ対策のためのグランド接続線などを使うことなく、機械的振動による影響の抑制とＥＭＣ対策を実現する。 - 特許庁

In this manufacturing method of the heating element for metal vapor deposition, after an alumina sol and / or a silica sol are applied to the portion where the molten metal of the ceramic containing the titanium diboride (TiB_2) and the boron nitride (BN) is made to exist, and the heating element is dried.例文帳に追加

二硼化チタン（ＴｉＢ_２）及び／又は二硼化ジルコニウム（ＺｒＢ_２ ）と窒化硼素（ＢＮ）とを含有してなるセラミックスの溶融金属を存在させる部位に、アルミナゾル及び／又はシリカゾルを塗布した後、乾燥することを特徴とする請求項１又は２記載の金属蒸着用発熱体の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of forming a nitride film by using a plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD) suitable for a plastic LCD substrate such that a nitride film of high quality having good stability and excellent dielectric characteristics can be formed on a LCD substrate at a low temperature (less than 225°C).例文帳に追加

良好な安定性および優秀な誘電特性を持つ高品質の窒化膜を低温（２２５℃未満の温度）でＬＣＤ基板上に成膜することができ、プラスチックＬＣＤ基板に適した、プラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）を用いた窒化膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin composition for lamp housings that produce molded articles excellent in impact resistance, heat resistance, molding appearance, and welding property, and is obtained excellent welding property with other resin molded articles and beautiful brilliant appearance after direct vapor deposition, and to provide molded articles comprises the thermoplastic resin composition.例文帳に追加

耐衝撃性、耐熱性、成形外観性及び溶着性に優れた成形品を与え、他の樹脂成形品との優れた溶着性、及び、ダイレクト蒸着後に美麗な光輝外観が得られるランプハウジング用熱可塑性樹脂組成物及びそれを含む成形品を提供する。 - 特許庁

The image display element has an inorganic thin film layer formed by a vapor deposition process on a base material film having a glass transition temperature of 150 to 400°C and a coefficient of linear thermal expansion of 40 ppm/°C or less.例文帳に追加

ガラス転移温度が１５０〜４００℃、線熱膨張係数が４０ｐｐｍ／℃以下である基材フィルム上に、蒸着法により形成した無機薄膜層を有するガスバリア性フィルム、該ガスバリア性フィルムからなる基板、及び該バスバリア性を有することを特徴とする画像表示素子。 - 特許庁

The eyeglass lens with an antireflection film has a plurality of layers disposed on at least one face of an eyeglass lens as the base body, and the antireflection film includes a water-repellent and oil-repellent layer as the outermost layer formed by vacuum vapor deposition on the layers made of silicon oxide.例文帳に追加

基材となる眼鏡レンズの少なくとも一方の面に複数の層が設けられた本発明の反射防止膜付き眼鏡レンズにおいて、前記反射防止膜は、酸化ケイ素からなる層の上に最外層として撥水撥油層が真空蒸着により設けられたことを特徴とする。 - 特許庁

The gas barrier laminated film is constituted by laminating a base material film 10, a vapor deposition film 20 of an inorganic oxide, a primer coating layer 30, an anchor coating layer 40 and a heat sealing layer 50 in this order, and the anchor coating layer 40 comprises an anchor coating composition containing polyethyleneimine.例文帳に追加

基材フィルム１０、無機酸化物の蒸着膜２０、プライマーコート層３０、アンカーコート層４０およびヒートシール層５０とを、この順序に積層してなるガスバリア性積層フィルムであり、該アンカーコート層４０としてポリエチレンイミンを含むアンカーコート組成物からなることを特徴とする。 - 特許庁

Electron beams are radiated on an Au-Sn alloy as a first target while an electron beam vapor deposition apparatus is maintained in a vacuum state, a first alloy layer 3a of the thickness d1 (for example, d1 = 1 μm) is deposited on an AlN substrate 1, and the first electron beam radiation is completed.例文帳に追加

電子ビーム蒸着装置を真空に保持した状態で第１のターゲットであるＡｕ−Ｓｎ合金に電子ビームを放射してＡｌＮ基板１上に厚さｄ１（例えばｄ１＝１μｍ）の第１次合金層３ａを被着させて第１の電子ビーム放射を終了する。 - 特許庁

A zirconium-based material (R1R2)Zr (R1 and R2 are alkyl groups), dissolved in a solvent of hydrocarbon compound of the carbon number of 5-40 and an amine-based material of the carbon number of 2-40, is vaporized and a zirconium-based oxide film is formed on a substrate through chemical vapor deposition method.例文帳に追加

炭素数５〜４０の炭化水素系化合物、及び炭素数２〜４０のアミン系化合物の溶媒に溶解された、ジルコニウム系材料（Ｒ１Ｒ２）Ｚｒ（但しＲ１、Ｒ２はアルキル基）を気化し、化学気相成長法により基板にジルコニウム系酸化膜を形成する。 - 特許庁

The transparent biaxially stretched nylon film for vapor deposition contains 0.005-0.25 wt.% of an inorganic lubricant and not contains an organic lubricant at all or contains the organic lubricant in an amount of <0.05 wt.% in addition to 0.005-0.25 wt.% of the inorganic lubricant.例文帳に追加

無機滑剤を０．００５〜０．２５重量％含有し、且つ、有機滑剤を全く含有しない、あるいは、無機滑剤を０．００５〜０．２５重量％に加え、有機滑剤を０．０５重量％未満含有していることを特徴とする透明蒸着用二軸延伸ナイロンフィルム。 - 特許庁

To provide a temperature sensing element capable of maintaining the condition where a temperature sensing joined part contacts all the time with an inner face of a tip part of a protecting tube, even when a thermocouple is expanded by elevation of a temperature or contracted by going-down of the temperature, and capable of measuring accurately the temperature, and a vapor phase deposition device using the temperature sensing element.例文帳に追加

熱電対が昇温により膨張しても、降温により収縮しても、常にその測温接合部が保護管の先端部内面に接触した状態を維持でき、正確な測温ができる測温体ならびにこの測温体を用いた気相成長装置を得る。 - 特許庁

To enhance a manufacturing yield and enhance reliability in products by a method, wherein a titanous nitride film having a superior step coverage required for forming an opening part or a wiring is formed by preventing the occurrence of cracks or releasings by a chemical vapor deposition(CVD) method.例文帳に追加

開口部や配線を形成するのに必要なステップカバレッジのよい窒化チタン膜を、ＣＶＤ法によりクラックや剥離の発生を防止して形成すると共に、歩留まりを向上させ、且つ、製品の信頼性を向上させた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, it is also preferable to employ a surface-treated copper foil with the carrier foil wherein at least one kind of surface treatment selected from rustproof treatment and silane coupling agent treatment is applied to the surface of the copper foil layer of the copper foil with the carrier foil by the physical vapor deposition method.例文帳に追加

また、当該キャリア箔付銅箔の銅箔層の表面に物理蒸着法で形成した防錆処理、シランカップリング剤処理から選択された１種又は２種以上の表面処理を施したキャリア箔付表面処理銅箔を採用することも好ましい。 - 特許庁

To provide a tool capable of securing positioning accuracy while absorbing the warp of an organic sensor substrate and securing horizontal accuracy, being commonly used from coating to drying in order to form a functional material at a prescribed position and capable of applying vacuum process such as plasma treatment, vapor deposition and sputtering and having high throughput.例文帳に追加

有機センサ基板の反りを吸収し、水平精度を確保しつつ、位置精度も確保し、所定の位置に機能材料を形成するために、塗布から乾燥まで共通して使用でき、さらには、プラズマ処理や蒸着、スパッタといった真空プロセスを施せるスループットの高い治工具を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition film laminated film of a fluorine-modified carbon-containing organic silicon compound of a low cost which has good water repellency, mold releasability, and oil resistance, is uniform, non-transferable, and stable, and is reduced in environmental load and a method for producing the laminated film.例文帳に追加

本発明は、優れた撥水性、離型性及び耐油性を有し、均一かつ非転移性で安定的な、環境負荷も低減され、低コストのフッ素修飾した炭素含有有機珪素化合物の蒸着膜積層フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a vapor growth device capable of preventing the deposition of a reaction product in an opening formed between the orientation flat of a substrate and the inner peripheral surface of a substrate holding recess, capable of minimally suppressing a temperature distribution in a substrate surface, and capable of improving the dispersion of a luminous wavelength distribution.例文帳に追加

基板のオリフラ部と基板保持凹部の内周面との間に生じる隙間に反応生成物が堆積することを防止し、基板面内の温度分布を最小限に抑えることができ、発光波長分布のばらつきを改善することができる気相成長装置を提供する。 - 特許庁

The wire rod 1 for vapor deposition includes a core material 2 that consists of an alloy of magnesium and aluminum, and an oxidized layer 3 that coats an outer peripheral surface of the core material 2, and consists of oxides of at least the magnesium and the aluminum, wherein the thickness of the oxidized layer 3 is 0.3 μm or less.例文帳に追加

本発明における蒸着用芯材１は、アルミニウムとマグネシウムの合金からなる芯材２と、前記芯材２の外周面を被覆し、少なくとも前記アルミニウムと前記マグネシウムの酸化物からなる酸化層３とを備え、前記酸化層３の厚さを０．３μｍ以下とした。 - 特許庁

By using, for example a chemical vapor deposition method, a source gas 5 of a material having sticking action is supplied inside the slot 2, and a fixing film made of the material is formed between the coils 3, between the coil 3 and the insulating paper 4, and between the insulating paper 4 and an inner peripheral surface of the slot 2.例文帳に追加

たとえば化学気相成長法を用い、スロット２内に固着作用を有する材料の原料ガス５を供給し、コイル３どうしの間、コイル３と絶縁紙４との間、および、絶縁紙４とスロット２内周面との間に、上記材料からなる固定膜を形成する。 - 特許庁

In a process of sticking an adhesive tape, an adhesive layer 51 adheres to the vapor deposition film 205 made of the liquid repellent material even when it enters the nozzle 21, and in a process of peeling the adhesive tape, the adhesive layer 51 is also peeled, so that the adhesive layer 51 remaining in the nozzle 21 is decreased.例文帳に追加

粘着テープ貼付工程において、粘着層５１がノズル２１内に進入しても、撥液材料からなる蒸着膜２０５に付着し、粘着テープ剥離工程において、粘着層５１も剥離され、ノズル２１内へ残留する粘着層５１を減少できる。 - 特許庁

The rotating mechanism rotates the support body 30 around a rotational symmetric axis ax1 (θ direction) of the workpiece W, and the tilting mechanism tilts the support body 30 around an axis ax2 (ψ direction) perpendicular to an incident direction (Z-axis direction) of a vapor deposition particle p1.例文帳に追加

上記回転機構は、ワークＷの回転対称軸ａｘ１の回り（θ方向）に支持体３０を回転させ、上記傾動機構は、蒸着粒子ｐ１の入射方向（Ｚ軸方向）と直交する軸ａｘ２の軸回り（ψ方向）に支持体３０を傾動させる。 - 特許庁