「reaction substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a heat treatment apparatus capable of correctly controlling temperature in a reaction tube, and to provide a manufacturing method of a substrate.例文帳に追加

反応管内の温度制御を正確に行うことのできる熱処理装置及び基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the reaction chamber, a lower electrode 10 and a substrate 9 that is a to-be-worked substance on the lower electrode 10 are set.例文帳に追加

反応室内には、下部電極１０と、下部電極１０上の被加工物である基板９とが設置されている。 - 特許庁

A pressure inside a reaction chamber 2 to which a substrate 10 to be processed is carried in is turned to the pressure lower than a deposition pressure first.例文帳に追加

まず、被処理基板１０が搬入された反応室２内の圧力を、成膜圧力よりも低い圧力にする。 - 特許庁

To evenly perform film formation on each substrate by making the flow of a reaction gas supplied from each gas supply port approximately uniform.例文帳に追加

各ガス供給口から供給される反応ガスの流れを略均一化して、各基板をばらつくこと無く成膜する。 - 特許庁

To provide a method for producing a substrate with a water-repellent/hydrophilic thin film formed by a photodegradation reaction, in a short time.例文帳に追加

光分解反応により撥水親水性の薄膜が形成した基材を短時間で製造する方法の提供。 - 特許庁

The film forming device forms a think film on a processed substrate 12 by activating reaction gas by a high-temperature heating body 8.例文帳に追加

成膜装置は、高温加熱体８により反応ガスを活性化して被処理基板１２上に薄膜を形成する。 - 特許庁

A heat conductor is installed between a reaction vessel and a temperature regulator or between the board facing a substrate-provided board and the temperature regulator.例文帳に追加

反応容器と温度調整部との間、または対向板と温度調整部との間に熱伝導体を設置する。 - 特許庁

The substrate 1 composed of a catalytic metal or an alloy containing the catalytic metal is set in a reaction tube 2.例文帳に追加

反応管２内にＣＮＴ生成の触媒金属又は触媒金属を含む合金からなる基板１を設置する。 - 特許庁

Thus, heat treatment for promoting the solid-phase reaction of the source/drain electrodes and the n-type gallium nitride substrate 1 is performed.例文帳に追加

その後、ソース／ドレイン電極とｎ型窒化ガリウム基板１との固相反応を促進するための熱処理を施す。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING OF LOW SPECIFIC DIELECTRIC CONSTANT FILM ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE BY MEANS OF PLASMA REACTION USING HIGH-FREQUENCY POWER例文帳に追加

高周波電力を使ったプラズマ反応により半導体基板上に低比誘電率膜を形成するための方法 - 特許庁

The plurality of PCR reaction chambers, the plurality of inlets, the plurality of outlets, and the plurality of valves are composed on one substrate.例文帳に追加

複数のＰＣＲ反応室、複数の入口、複数の出口、複数のバルブは、１つの基板上に構成されている。 - 特許庁

The buffer layer 2 prevents the chemical reaction of the substrate 1 with the coating film 3 and functions as a seed for crystallization.例文帳に追加

バッファ層２は、基材１と塗布膜３との化学反応を阻止するとともに、結晶化のシードとして機能する。 - 特許庁

To easily remove reaction products remaining on a semiconductor substrate in a dry etching stage for an organic material film.例文帳に追加

有機材料膜のドライエッチング工程において、半導体基板上に残存する反応生成物を容易に除去する。 - 特許庁

The thin-film-forming apparatus 1 forms the thin film containing silicon and carbon on a substrate 21 placed in a reaction chamber 2.例文帳に追加

薄膜形成装置１は、反応室２内に載置された基板21上にシリコンと炭素とを含む薄膜を形成する。 - 特許庁

A piezoelectric element 4 is stuck onto the outer surface of a substrate 2 corresponding to a reaction passage 33, to thereby constitute a bimorph structure.例文帳に追加

反応流路３３に対応する基板２の外面に圧電素子４を接着してバイモルフ構造を構成する。 - 特許庁

In next step, the pulse of molecular oxygen-containing gas is supplied to the reaction chamber to react with the precursor on the substrate.例文帳に追加

次のステップで分子酸素含有ガスのパルスを反応室内に供給し、酸素が基板上の前駆体と反応する。 - 特許庁

Reaction gas is supplied to the substrate under a temperature region where a plurality of kinds of organic silicon is gasified.例文帳に追加

複数種類の有機シリコンが気化状態となる温度領域のもとで前記反応ガスを前記基板に供給する。 - 特許庁

After loading a substrate into a chamber, a first reaction material containing Si and aminosilane is introduced into the chamber.例文帳に追加

チャンバ内部に基板をローディングさせた後に、Ｓｉおよびアミノシランを含む第１反応物質をチャンバ内に導入する。 - 特許庁

A catalyst is arranged on a substrate beforehand and a forming/ synthetic reaction is performed at a position where the catalyst is arranged.例文帳に追加

基板上に予め触媒を配列させ、該触媒配列箇所でカーボンナノチューブの形成・合成反応を行う - 特許庁

This enzyme treating agent has an enzyme in the bag of an enzyme-impermeable, substrate-permeable and enzyme reaction product- permeable membrane.例文帳に追加

酵素を酵素非透過性、基質透過性および酵素反応生成物透過性の膜の袋内に有する酵素処理剤。 - 特許庁

Reaction of metal material gas and reducing gas is performed in a temperature region where film forming speed depends on a substrate temperature.例文帳に追加

金属原料ガスと還元性ガスとの反応は、成膜速度が基板温度に依存する温度領域で行われる。 - 特許庁

To provide a substrate-treating apparatus capable of accurately executing a removing treatment of a reaction product.例文帳に追加

反応生成物の除去処理を精度よく実行することが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The composition curable by the metathesis reaction comprises a resin containing a polyether-based substrate with at least two cycloolefin groups per molecule curable by the metathesis reaction with a metathesis catalyst.例文帳に追加

本組成物は、メタセシス触媒を用いたメタセシス反応により硬化可能なシクロオレフィン基を１分子当たり少なくとも２個含むポリエーテルをベースにした基質を含有する樹脂を含む。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a surface-fluorinated substrate by which a fluorination reaction is conducted efficiently at a high enough reaction rate commercially and economically.例文帳に追加

本発明は、工業的または経済的に十分な反応速度で効率よくフッ素化反応を行うことが可能な表面フッ素化基材の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The substrate is selected so that the rate of the cross-metathesis reaction of the second olefinic reactant, k_CM, is greater than or equal to the rate of the ring-opening metathesis reaction, k_RO.例文帳に追加

基質は、第二のオレフィン性反応物のクロス−メタセシス反応の速度ｋ_ＣＭが、開環メタセシス反応の速度ｋ_ＲＯよりも大きいかまたは等しくなるように選択される。 - 特許庁

To provide a reaction element constituted so that a plurality of molecules parcipitated in reaction are fixed on a substrate at desired positions with high efficiency while the original functions of them are easily developed.例文帳に追加

基体上の所望の位置に複数の反応関与分子が、本来の機能を発揮し易い状態で高効率に固定化された反応素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an Au fine particle catalyst that is active to an oxidation-reduction reaction and inactive to a methanol oxidation reaction as an oxygen electrode catalyst for a direct methanol fuel cell and that is carried by a carbon substrate.例文帳に追加

直接メタノール型燃料電池の酸素極触媒として、酸素還元反応には活性で、メタノール酸化反応には不活性であるＡｕ微粒子触媒を提供する。 - 特許庁

When the reaction vessel 103 in which a substrate to be treated is held is moved toward the exhaust section 102, vibration to the reaction vessel 103 is absorbed by the vibration proof mechanism 105.例文帳に追加

被処理基体を収容した反応容器１０３を排気部１０２に向けて移動させる際に、反応容器１０３への振動が防振機構１０５によって吸収される。 - 特許庁

The high-temperature electrical heating element 16 is provided between a gas shower 14 and a substrate 15, for equally supplying a reaction gas into a reaction chamber 12, and is covered with a heat-resistant material 22.例文帳に追加

反応室１２内に反応ガスを均等に供給するガスシャワー１４と基板１５との間に高温発熱体１６を設けて、この高温発熱体１６を耐熱材２２で覆う。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus and a film deposition method which can prevent a reaction gas from contacting a member such as a liner and the like around a substrate thereby preventing adhesion of a reaction product.例文帳に追加

反応ガスがライナ等の基板周囲の部材に接触することを防止し、反応生成物が付着するのを防ぐことができる成膜装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

An enclosure (reagent chamber) 102 is arranged on the surface of the region side of the reaction spot 110 of the reaction substrate 101 forming a slab waveguide and the object lens 120 is arranged opposite on the surface of the other side.例文帳に追加

スラブ型導波路を形成する反応基板101の反応スポット110領域側の面にエンクロージャ（試薬室）102を配置し、その反対側の面に対物レンズ120を対向配置する。 - 特許庁

Accordingly, oxidation reaction and decarboxylation reaction are allowed to proceed repeatedly for a given substrate, and a large amount of reduced coenzyme is produced, accompanying the proceeding of the reactions.例文帳に追加

従って、任意の基質に対し、酸化反応と脱炭酸反応を繰り返し進行させることができるため、それに伴い、還元型補酵素を大量に生成することができる。 - 特許庁

The unit 13 removed from the reaction chamber 20 can be put in/out from the reaction chamber 20 in a way similar to a substrate by using a transport mechanism such as a susceptor and tweezers.例文帳に追加

反応室２０から取り外した高温加熱体ユニット１３は、サセプタ、ツィーザなどの搬送機構を使って、基板と同様に反応室２０から出し入れできるように構成する。 - 特許庁

To provide a process for preparing an optically active piperidine derivative which is highly enantio-selective by the asymmetric aza-Diels-Alder reaction using an aliphatic imine as a reaction substrate and an optically active niobium catalyst.例文帳に追加

脂肪族イミンを反応基質とし、光学活性ニオブ触媒を用いた不斉アザディールス−アルダー反応による高エナンチオ選択的な光学活性ピペリジン誘導体の製造法の提供。 - 特許庁

Since the introduced reaction gas and radical do not flow between the substrate 15 and the wall face but flows between the substrates 15, etching can be carried out uniformly at high rate of reaction.例文帳に追加

その結果、導入した反応ガスやラジカルが基板１５と壁面の間を流れず、基板１５と基板１５の間を流れるので、反応速度が速く、均一なエッチングを行うことができる。 - 特許庁

To provide a microarray measuring in which the time between the start of reaction and the start of measurement can be made shorter than before when following the change with time of the reaction generated on a microarray substrate.例文帳に追加

マイクロアレイ基板上で生じる反応の経時変化を追跡する場合に、反応開始から測定開始までを従来よりも短縮できるマイクロアレイ測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide an organic electrolytic synthesis method and an organic electrolytic synthesis device in which an objective product can be obtained by the organic electrolytic reaction of a reaction substrate without using a supporting electrolyte.例文帳に追加

支持電解質を用いずに反応基質の有機電解反応によって目的生成物を得ることができる有機電解合成方法および有機電解合成装置を提供する。 - 特許庁

The reaction layer is formed by blowing a solution of a reagent composing the reaction layer onto the electrode system on the electric insulating substrate or in the vicinity thereof by electrospray method.例文帳に追加

そして、この反応層は、これを構成する試薬の溶液をエレクトロスプレー法によって、電気絶縁性の基板上の電極系上またはその近傍に、吹き付けて形成する。 - 特許庁

When a desired film is formed on a substrate contained in the reaction tube 203, first processing gas and second processing gas are supplied into the reaction tube 203 through nozzles 233, 249.例文帳に追加

反応管２０３に収容される基板に所望の膜を形成するときは、ノズル２３３，２４９から第１の処理ガスと第２の処理ガスとを反応管２０３内に供給する。 - 特許庁

To lower the thermal energy loss in a chemical reaction apparatus in which thermal energy is supplied to a reaction catalyst bed formed in a minute passage formed on one face of a substrate.例文帳に追加

基板の一面に形成された微小な流路内に設けられた反応触媒層に熱エネルギーを供給する化学反応装置において、熱エネルギーの損失を低減する。 - 特許庁

The method for producing the carbonyl compound by an oxidation reaction using a catalyst includes using a hydrocarbon compound as a substrate of the oxidation reaction, and a mononuclear vanadium complex represented by formula (1) as the catalyst.例文帳に追加

触媒を用いた酸化反応によるカルボニル化合物の製造方法であって、前記酸化反応の基質として、炭化水素化合物を用い、前記触媒は、下記式（１）： - 特許庁

On a lower electrode 102 in a reaction chamber 101, a substrate 150 to be treated is arranged and a focus ring 107 is arranged in such a manner as to surround the substrate to be treated.例文帳に追加

反応室１０１内の下部電極１０２上に被処理基板１５０が設置されていると共に、該基板を囲むようにフォーカスリング１０７が配置されている。 - 特許庁

To supply reaction gas uniformly onto a substrate so as to deposit a film of uniform thickness on the substrate and to control a flow of gas better in a processing chamber.例文帳に追加

基板上に膜が均一な厚さで堆積されるように、反応ガスを基板上に均一に供給し、処理チャンバ内のガスの流れをより良く制御するようにする。 - 特許庁

To provide a thinning device preventing a reaction by-product from being adsorbed to a glass substrate and easily manufacturing a glass substrate having a thin and uniform thickness as a whole.例文帳に追加

反応副産物が吸着されることを防止し、全体的に薄くて均一な厚さを有するガラス基板を容易に製造することができる薄板化装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment method and a substrate treatment device which allow removing treatment of reaction products to be performed at a high removal efficiency.例文帳に追加

高い除去効率をもって反応生成物の除去処理を実行することができる基板処理方法および基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁