意味 | 例文 (999件) |
source-regionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4512件
This x-ray source is formed with first dust segments 10, 20 of which the duct section includes a window and in which a liquid-metal target follows, further second segments 30, 40 in which coolant follows and which is connected with the first duct segment in order to cool a region where the electron beam acts on a first duct segment.例文帳に追加
X線源は、ダクトセクションが、窓を含み、中を液体金属ターゲットが流れる第1のダクトセグメント(10、20)と、中を冷媒が流れ、電子ビームが第1のダクトセグメントに作用する領域を冷却するよう第1のダクトセグメントに接続される第2のダクトセグメント(30、40)によって形成されることを特徴とする。 - 特許庁
To solve the problem of color rendering property since the valley of a spectrum exists in a 500nm wavelength region and the problem that LED where red is corrected becomes red as a white light source in a phosphor mixed color-type white system LED light emitting device using conventional blue LED and a phosphor.例文帳に追加
従来の青色LEDと蛍光体を用いた蛍光体混色型の白色系LED発光装置は、500nm波長領域にスペクトルの谷間が存在して演色性に問題があり、さらに赤色補正を行なったものは白色光源として赤みを帯びるという問題があり、これを解決する。 - 特許庁
This manufacture is one for forming a CoSi2 film in a gate electrode 26 and source/drain regions 32, 34, and ions are injected to a Si substrate to form impurity layers 32, 34, and next a mask oxide film 30 is removed, and a high concentration As existing region 36 as a silicide reaction hindering layer is exposed to a metal face.例文帳に追加
本方法は、ゲート電極26及びソース/ドレイン領域32、34にCoSi_2 膜40を形成する方法であって、Si基板にイオン注入して不純物層32、34を形成し、次いでマスク酸化膜30を除去して、シリサイド反応阻害層となる高濃度As 存在域36を金属面に露出させる(図3(b))。 - 特許庁
The intermediate wall 16 supports a ceiling of the chamber 15, restrains photons emitted from a beam stopper 40 disposed in a prescribed wall part 14A from colliding on at least one other wall part 14C of the chamber 15, and restricts a flow through the chamber 15 of ozone derived from the radiation source in a target region.例文帳に追加
中間壁部16は室15の天井を支持しており、所定の壁部14Aに配置されたビームストッパ40から放出された光子が室15の少なくとも1つの他の壁部14Cに衝突するのを抑制し、且つ目標領域で放射線源から誘導されたオゾンが、室15を通る流れを制限する。 - 特許庁
To minimize a peripheral region by increasing a horizontal directivity angle of light emitted from an LED while increasing an amount of incident light by minimizing loss of light when the light enters the light guide plate from the LED by the insertion of an LED light source into the light guide plate.例文帳に追加
LED光源を導光板に挿入することにより、LEDから導光板に入る時の光の損失を最小化し入射される光の量を増加させる一方LEDから放出される光の水平方向志向角を増加させ周辺領域を最小化することが可能である。 - 特許庁
With this configuration, since voltage between a drain electrode 46 and a source electrode 44 is applied between the n-type drift layer 30b and the p-type protective layer 40 made of SiC which- ever is larger than Si in band gap, it can withstand voltage which is higher than the voltage applied to a region made of Si.例文帳に追加
こうすれば、ドレイン電極46とソース電極44との間の電圧は、主に、Siよりバンドギャップが大きいSiCで形成したp型保護層40とn型ドリフト層30bとの間に印加されるので、Siから形成した領域に電圧が印加されるものより高い電圧に耐えることができる。 - 特許庁
Although tensile stress is applied to the SOG film 4b at a point in time of activation treatment of impurity ions introduced to the source/drain region 2c, generation of crystal defects in impurity diffusion regions 2a, 2b can be suppressed because of interposition of the O_3-TEOS film 4c, thus suppressing the occurrence of dislocation.例文帳に追加
ソース/ドレイン領域2cに導入された不純物イオンの活性化の処理の時点でSOG膜4bに引っ張り応力が発生するものの、O_3−TEOS膜4cが介在しているため結晶欠陥が不純物拡散領域2a、2bに発生することを抑制でき転位の発生を抑制できる。 - 特許庁
When the residual amount of the battery is small, the actuator control part 120 drives the movable mirror 43 so as to be a small swing angle, and the video signal processing part 130 drives the light source part 41 so that each laser light of the prescribed gradation is radiated for a short irradiation time t2 in one pixel region.例文帳に追加
一方、電池の残量が少なくなると、アクチュエータ制御部120は、小振り角となるように可動ミラー43を駆動させ、映像信号処理部130は、1画素領域において、所定階調の各レーザ光が短照射時間t2だけ照射されるように光源部41を駆動させる。 - 特許庁
In addition, the deterioration of a gate insulating film or the retreat of a diffusion layer is suppressed by improving the uniformity of gate resistance by improving the uniformity of characteristics of p- and n-type MOSs by equally controlling silicide reactions of the MOSs and in addition, suppressing the abnormal growth of a gate electrode or the Ni silicide film at the end of the source/drain region.例文帳に追加
また、P−MOSとN−MOSのシリサイド反応を同等に制御することにより特性の均一性を高め、更にゲート電極やソース/ドレイン領域端部のNiシリサイド膜の異常成長を抑制することにより、ゲート抵抗の均一性を高めゲート絶縁膜の劣化や拡散層の後退を抑制する。 - 特許庁
Wavelength-variable laser having sufficient spectrum intensity or light emitted from a wide-band light source is guided to a waveguide section, such as an optical fiber probe, for irradiating the skin of a human body with light in a near-infrared region having a wavelength of approximately 1,500-1,800 nm, and light being subjected to diffusion reflection is dispersed before a PLS analysis is made.例文帳に追加
波長1,500〜1,800nm程度の近赤外領域に十分なスペクトル強度を有する波長可変レーザ或いは広帯域光源から射出した光を光ファイバプローブ等の導波部へ導き人体の皮膚に照射し、拡散反射を受けた光を分光した後にPLS解析を施す。 - 特許庁
To find new possibility for generating extreme ultraviolet rays based on plasma radiating radiant rays wherein technical and financial loads for plasma generation are not practically increased, and the radiation output of an EUV source is increased in a wavelength region higher than the L absorption edge of silicon.例文帳に追加
プラズマ発生のための技術的及び金銭的な負担が実質的に増加されず、EUV源の放出出力がシリコンのL吸収端よりも高い波長領域内で増加される、放射線放出するプラズマを基礎にして極紫外放射線を発生させるための新たな可能性を見つけること。 - 特許庁
The adjustment light source device 7 is provided with a support plate arranged so that the end face thereof faces the light modulation device 140, and a plurality of solid emission element arranged along the end face of the support plate, and composed of plane illumination irradiating the adjustment light flux uniformed substantially in an image formation region of the light modulation device 140.例文帳に追加
調整用光源装置7は、端面が光変調装置140に対向するように配設される支持板と、支持板の端面に沿って配設される複数の固体発光素子とを備え、光変調装置140の画像形成領域に略均一化した調整用光束を照射する面照明で構成されている。 - 特許庁
In a second display region 311b of the display panel 301, for instance, a plurality of parameter values of a first high-frequency poser source 40 measured by a voltmeter, an ammeter and the like are enumerated and displayed in colors corresponding to the colors for the respective parts A1-A8 on the basis of each of the plurality of parts A1-A8.例文帳に追加
そして、表示パネル301の第2の表示領域311bには、例えば第1の高周波電源40の電圧計、電流計などにより計測された複数のパラメータ値を複数の部位A1〜部位A8ごとに部位A1〜部位A8ごとの色に対応した色で列挙して表示している。 - 特許庁
The core of the water strategy in Singapore is the "Singapore Green Plan 2012" formulated in 2006. The Four Tap Strategy, which was formulated in the same year under the plan, are measures to diversify water sources, which include (1) collection of rainwater in the region (main source), (2) import of water from Johore Province in Malaysia, (3) utilization of NEWater, and (4) desalination of seawater.例文帳に追加
シンガポールの水戦略の中核は2006年に策定された「シンガポールグリーンプラン2012」であり、その下で同年策定された「四つの水源戦略(Four TapStrategy)」において、水源の多様化の方策として、①地域内での雨水集水、を中心に、②マレーシアのジョホール州からの水輸入、③NEWaterの活用、④海水淡水化を挙げている。 - 経済産業省
The method of manufacturing the semiconductor device includes steps of: reducing hydrogen contained in the semiconductor film 7 by heat-treating the semiconductor film 7; forming a gate insulating film 17 and a gate electrode 21; forming a source region 9 and a drain region 13 on the semiconductor film 7; and setting the hydrogen contained in the semiconductor film 7 to 0.5 to 10 atom% by heat-treating the semiconductor film 7 in a hydrogen atmosphere.例文帳に追加
半導体装置の製造方法は、半導体膜7を熱処理することによって、半導体膜7に含まれる水素を低減する工程と、ゲート絶縁膜17およびゲート電極21を形成する工程と、半導体膜7にソース領域9およびドレイン領域13を形成する工程と、半導体膜7を水素雰囲気中で熱処理することによって、半導体膜7に含まれる水素を0.5原子%以上10原子%以下に設定する工程とを備える。 - 特許庁
The light source device is characterized in that a bandpass mirror transmitting light rays in a wavelength region emitted from the corresponding light source and reflecting light rays in the other wavelength regions is arranged between each light source and the prism sheet.例文帳に追加
発光波長の異なる複数の光源と、一方の面に複数の微細なプリズムを有し、他方の面が平面であるプリズムシートとを備え、前記プリズムシートの入射面側に、前記複数の光源を所定の角度に傾けて配置することにより前記プリズムシートの入射面側より所定の角度をもって入射された複数の光源からの入射光をプリズムシートの出射面側より混色させた出射光として出力する光源装置であって、前記各光源とプリズムシートの間に、対応する光源から出射された波長領域の光線を透過し、他の波長領域の光線を反射するバンドパスミラーが設けられていることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a green colored composition capable of forming a color filter enabling high brightness and a broad region of color reproduction in a liquid crystal display device using a white organic EL light source, a color display device such as an organic EL display device, a color filter having a filter segment formed by using the green colored composition, a white organic EL light source equipped with this filter, and the color display device using this light emitting device.例文帳に追加
白色有機EL光源を用いた液晶表示装置、有機EL表示装置などのカラー表示装置において、高い明度と広い色再現領域が可能なカラーフィルタを形成できる緑色着色組成物、およびこれを用いて形成されるフィルタセグメントを具備するカラーフィルタを提供すること、さらにはこのカラーフィルタを装備した白色有機EL光源並びにこの発光装置を用いたカラー表示装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
In this example, the invention of the application relates to a semiconductor layer in an active region consisting of as specific structure and material. The original claims incorrectly states that a source and a drain consist of "an impurity dispersion area" in a limited manner. However, a source and a drain are not limited to using dispersion. Any impurity area is sufficient, which is obvious from the statement of the description. The amendment does not change the technical significance of the invention at all. 例文帳に追加
この例では、出願に係る発明の内容は、活性領域の半導体層を特定の構造と材料で構成することにあり、当初の請求項では、たまたま、ソース、ドレインは「不純物拡散領域」で構成されると限定されているが、ソース及びドレインは拡散によるものに限定されず不純物領域でありさえすればよいことが明細書の記載から自明であり、補正は発明の技術上の意義になんら変更をもたらさない。 - 特許庁
The method for degrading and removing a contaminant having a step for degrading the contaminant by incorporating chlorine and the contaminant into air and irradiating the resulting gas to be treated with light from a light radiating means also has a step for washing a degradation region in which the step for degrading the contaminant is carried out and/or a region in which the chlorine or a chlorine generating source is supplied by supplying an alkaline aqueous solution.例文帳に追加
塩素と、汚染物質とを空気に含有させた被処理気体に対して光照射手段からの光を照射することによって該汚染物質を分解する工程を有する汚染物質分解浄化方法において、該汚染物質を分解する工程が行なわれる分解処理領域および/または、該塩素もしくは該塩素の発生源が供給される領域をアルカリ性水溶液の供給により洗浄する工程を有することを特徴とする汚染物質分解浄化方法。 - 特許庁
The split-gate type flash memory element is provided with a silicon epitaxial layer which is formed in an active region of a bulk silicon substrate, and an insulating film for preventing distrubances which is formed on the bulk silicon substrate between the source and the drain of the element, wherein the insulating film for distrubance prevention is formed, using an STI formation process.例文帳に追加
バルクシリコン基板の活性領域に形成されているシリコンエピタキシャル層と、素子のソース及びドレイン間のバルクシリコン基板に形成されているディスターバンス防止用絶縁膜とを備えるスプリットゲート型フラッシュメモリ素子であり、該スプリットゲート型フラッシュメモリ素子では、ディスターバンス防止用絶縁膜は、STI形成工程を利用して形成される。 - 特許庁
Furthermore, when the movable generators 42 and 43 come to appear on the screen, the luminance of a light source unit 30j corresponding to a region on the screen covered with the movable generators 42 and 43 can be enhanced so as to increase the light quantity of the illumination light passing through the movable generators 42 and 43 appearing on the screen.例文帳に追加
しかも、可動役物42,43が画面上に進出した状態になったときに、その進出した可動役物によって覆われた画面上の領域に対応する光源ユニット30jの輝度を高めることができるため、画面上に進出した可動役物を通過する照明光の光量を増加させることができる。 - 特許庁
To eliminate the need for a mechanical driving mechanism in simple structure for switching light emission wavelengths when a light source for obtaining image data by reading a document image with a photoelectric transducing element, to secure the quantity of light which is large enough for an image read within a specified region without any unevenness, and to make design specifications flexible.例文帳に追加
原稿画像を光電変換素子によって読取って画像データを得るための光源を選択するにあたり、構造が簡単で発光波長を切替えるためのメカ的な駆動機構が不要であり、かつ画像読取りに十分な光量を所定の領域内でむらなく確保することができると共に、設計仕様として汎用性を持たせる。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus favorably reproducing the gradient in a low-density region while suppressing a temperature rise which may involve fluctuations and decrease in luminous efficiency from a light source and performing curing of low-density regions having a comparatively low droplet-stroke density, at high sensitivity, in cases where an image recording is carried out in the environment with a comparatively high relative-humidity.例文帳に追加
相対湿度が比較的高くなる環境下で画像記録を行なう場合に、光源の発光効率の変動、低下を伴なうような温度上昇を抑えつつ、打滴密度の比較的低い低濃度領域の硬化を高感度に行なえ、低濃度領域で良好に階調再現することができる像形成装置を提供する。 - 特許庁
On a flat surface formed by a plurality of optical fibers which are arranged in parallel on an optical fiber fixing member, and the end parts of which are connected with a light source, an arbitrary design region with a part of the optical fibers melted and deformed is provided by pressing a heating means with its tip part generating heat on the flat surface.例文帳に追加
光ファイバ固定部材上に、複数本の光ファイバを平行に配置し、光ファイバの端部に光源を接続し、複数本の光ファイバにより形成された平面上において、先端部が発熱する加熱手段を平面上に押し付けることにより、光ファイバの一部を溶融変形させた任意のデザイン領域を作製する。 - 特許庁
A CoxSiy (x≥y) intermediate reaction layer is formed on a diffusion layer 6 and a gate silicon film 4 in self-aligning way, by intermittently depositing first and second Co films 7a and 7b while the silicon substrate 1 of a MOS transistor 10, in which the diffusion layer 6 constituting a source-drain region and the gate silicon film 6 constituting a gate electrode are formed is heated.例文帳に追加
ソース・ドレイン領域である拡散層6及びゲート電極であるゲートシリコン膜4が形成されたMOSトランジスタ10のシリコン基板1を加熱しながら第1Co膜7a及び第2Co膜7bを間欠的に堆積して、拡散層6及びゲートシリコン膜4上にCo_xSi_y(x≧y)の中間反応層を自己整合的に形成する。 - 特許庁
In the state that a voltage E is not applied to a first electrode 48 and a second electrode 52 from a power source 56, the liquid surface of a first liquid 44 facing one edge surface wall 4202 is formed to be concave toward the one edge surface 4202, whereas the first liquid 44 is located on the whole region of the other edge surface wall 4202 in a storage chamber 42A.例文帳に追加
電源56から第1の電極48、第2の電極52に電圧Eが印加されない状態で収容室42A内で他方の端面壁4202の全域に第1の液体44が位置するとともに、第1の液体44が一方の端面壁4202に臨む液面は一方の端面4202側に凸状となっている。 - 特許庁
Among light rays which transmit the color correction filter 30 and are made incident for the liquid crystal display panel 10, the light made incident in the vertical direction includes the same hue as the light from the light source 21 and the oblique incident light which is made incident in the oblique direction includes a hue having the maximum value in the wavelength region of 400 nm or more and less than 550 nm.例文帳に追加
色補正フィルタ30を透過して液晶表示パネル10に対して入射する光のうち、垂直方向に入射する光は光源21からの光と同じ色相を有し、斜め方向に入射する斜入射光は400nm以上550nm未満の波長域に極大値をもつ色相を有している。 - 特許庁
In regions located on both sides of the gate electrode out of the element formation region 170, sidewalls inclined with respect to a principal surface of the semiconductor substrate 101 for exposing a facet surface of a semiconductor single crystal are included, recesses 130 having corners rounded are formed, and the source/drain regions 150 are formed of a silicon mixed crystal embedded in the recess 130.例文帳に追加
素子形成領域170のうちゲート電極の両側方に位置する領域には、半導体基板101の主面に対して傾いた半導体単結晶のファセット面を露出させる側壁を有し、コーナー部が丸められたリセス130が形成されており、ソース/ドレイン領域150は、リセス130に埋め込まれたシリコン混晶で構成されている。 - 特許庁
To provide a lighting system in a simple cooling structure which radiates ultraviolet rays suitable for curing a photo-curable ink, can be instantaneously turned ON/OFF, can prevent the temperature rise of a work with less radiation of light of a wavelength region unnecessary for curing, has a long service life of a light source, has a good maintainability, and can secure surface-hardening.例文帳に追加
光硬化型インクを硬化するのに適した紫外線を放射する光源装置であり、瞬時ON/OFFが可能で、キュアに不要な波長領域の光放射が少なくワークの温度上昇を防止でき、冷却構造が簡単で、光源の寿命が長くてメンテナンス性が良好で、表面硬化を確実なものとできる、光源装置を提供すること。 - 特許庁
After the gate length and the offset side wall length are actually measured, on the basis of the shift amounts of the actual measurement values of the gate length and the offset side wall length from the design values thereof and the predetermined correlation, the dosage of the source/drain extension region is adjusted so that the shift amounts of the transistor characteristics from the design values are within a predetermined range.例文帳に追加
ゲート長及びオフセットサイドウォール長を実測した後、ゲート長及びオフセットサイドウォール長のそれぞれの実測値の設計値からのズレ量、並びに前記相関関係に基づいて、ソース/ドレイン・エクステンション領域のドーズ量を、トランジスタの特性の設計値からのズレ量が所定の範囲内に収まるように調整する。 - 特許庁
To obscure the image failure caused by a repeated intermittent control of turn-on and turn-off of light sources in display areas with a probable image failure, in the liquid crystal display device for synchronizing the emitting region where a light source are divided into a plurality of light sources with the writing of image signals for a liquid crystal panel.例文帳に追加
光源を複数に分割した発光領域を液晶パネルに対する映像信号の書き込みに同期させて発光させる液晶表示装置において、映像が破綻している可能性の高い表示領域について、光源の点灯と消灯とを間欠的に繰り返す間欠制御によって映像の破綻を強調しないようにする。 - 特許庁
The optical position detection device 10 and the display device 100 with a position detection function respectively form the intensity distribution of the position detection light emitted from a light source 12 for position detection in a detection region 10R, receive the position detection light reflected on a target object by a photodetection device 15, and detect a position of the target object.例文帳に追加
光学式位置検出装置10および位置検出機能付き表示装置100では、検出領域10Rに、位置検出用光源12から出射された位置検出光の強度分布を形成し、対象物体で反射した位置検出光を光検出器15で受光し、対象物体の位置を検出する。 - 特許庁
Moreover, by not forming the layer 14 under the lower parts of source and drain electrodes 30 and 32, a reduction in a series resistance between the electrodes 30 and 32 becomes possible and moreover, it becomes possible to reduce the effect of a DX center in the high-electric field region at the time of the operation of the FET.例文帳に追加
また、ソース電極30およびドレイン電極32の下方に部分結晶成長層14を形成しないことによって、ソース電極30とドレイン電極32の間の直列抵抗を低減することが可能となり、更に、FET動作時の高電界領域におけるDXセンタの影響を低減することが可能となる。 - 特許庁
The present invention relates to an ink jet type printing device wherein source image data are partitioned into a plurality of regions, edge intensification processing is applied thereto, a first N-value process is implemented as banding reduction processing only to a region in which no edge exists and of which a density is a middle tone, and an ordinary N-value process is implemented in the other regions.例文帳に追加
インクジェット方式の印刷装置であって、原画像データを複数の領域に分割すると共にエッジ強調処理を施してから、エッジが存在せずかつ濃度が中間階調の領域に対してのみバンディング低減処理である第1N値化処理を実施し,その他の領域においてはそのまま通常のN値化処理を実施する。 - 特許庁
A source electrode 6 and a drain electrode 7 also extend approximately parallel to each other in the same direction as the extending longitudinal direction (Y direction) of the gate electrode 31 when flatly viewed, and are disposed on the side inner than the external edge along the longitudinal direction (Y direction) of the gate electrode 31 of the region where the gate electrode 31 and the semiconductor layer 5 overlap.例文帳に追加
また、ソース電極6およびドレイン電極7は、平面的に見て、ゲート電極31の延びる長手方向(Y方向)と同じ方向に互いに略平行に対向して延びるとともに、ゲート電極31と半導体層5とが重なる領域のゲート電極31の長手方向(Y方向)に沿った外縁部よりも内側に配置されている。 - 特許庁
In the optical micro-shaping apparatus for performing optical shaping by applying spot irradiation to a photo-setting resin 16 using the laser beam from a laser beam source, a shaped article is firmly formed on a substrate and the substrate equipped with an anchor part is employed in a region becoming the foundation of the shaped article so as to prevent the outflow of the resin at the time of washing.例文帳に追加
レーザー光源からのレーザービームを光硬化性樹脂16にスポット照射して光造形を行なう本発明のマイクロ光造形装置は、造形物が基板上に堅固に形成され洗浄時に流失するようなことがないように、光造形物の基礎となる領域にアンカー部を備えた基板を採用するものである。 - 特許庁
The thin-film transistor 100 includes, as indicated in Fig.1, a substrate 11, a gate electrode 112, a gate insulating film 113, a semiconductor layer (channel region) 114, an etching stopper film 115, heavily doped amorphous silicon layers 116 and 117, a drain electrode 118, a source electrode 119, and lightly doped semiconductor layers 120 and 121.例文帳に追加
薄膜トランジスタ100は、図1に示すように、基板11と、ゲート電極112と、ゲート絶縁膜113と、半導体層(チャンネル領域)114と、エッチングストッパ膜115と、高濃度不純物含有アモルファスシリコン層116,117と、ドレイン電極118と、ソース電極119と、低濃度不純物含有半導体層120,121を備える。 - 特許庁
On the other hand, in an erasing operation, holes induced by a tunnel current between band-band are generated in a source/drain region 22 which functions as a drain when electrons are injected into the first part (A part), and injected into the A part to electrically compensate a part of electrons injected into the A part (third charge injection step).例文帳に追加
一方、消去においては、第1局部(A部)に対する電子の注入時にドレインとして機能するソース・ドレイン領域22側で、バンド−バンド間トンネル電流に起因したホールを発生させ、これをA部に注入し、注入したホールによって、A部に注入されている電子の少なくとも一部を電気的に相殺する(第3の電荷注入ステップ)。 - 特許庁
The photosensitive material 2 is relatively moved in the direction parallel to the plane of the photosensitive material 2 with respect to the object light optical system and the referential light optical system which the laser light is not emitted from the light source 10 so that the object light and the reference light enter the local region where an element hologram is to be formed next in the photosensitive material 2.例文帳に追加
光源10からレーザ光が出力されていない期間に、感光材料2において次に要素ホログラムを作成すべき局所領域に物体光および参照光が入射するように、物体光光学系および参照光光学系に対して感光材料2を感光材料2の面に平行な方向に相対的に移動させる。 - 特許庁
To provide an explosion proof type solenoid valve arranged in an explosion proof region such as a discharge port of a tank storing, for example, oil, explosive liquid such as chemicals and liquefied gas, and inflammable gas and capable of suppressing heat generation from a heat generation source such as a solenoid part driving a plunger valve element below ignition point of inflammable gas to provide explosion proofing property effectively.例文帳に追加
本発明は防爆型のソレノイドバルブに関し、例えば石油、化学薬品等の爆発性の液体や液化ガス、可燃性ガス等を貯蔵するタンクの排気口等の防爆領域に設置され、プランジャ弁体を駆動させるソレノイド部等の熱発生源からの発熱を可燃性ガス等の発火点以下に抑えて有効に防爆性を発揮させる。 - 特許庁
The device comprising a combination of the stimulation source for generating light with 350 to 415 nm and the phosphorus, the phosphorous containing a crystal phase whose chemical composition is expressed in generic formula [1] and having a light emission peak in a wavelength region of 425 nm or over and 490 nm or below by the emission of light from a first light emitting body.例文帳に追加
350−415nmの光を発生する励起源と蛍光体を組み合わせた装置において、一般式[1]の化学組成を有する結晶相を含有し、第1の発光体からの光の照射により425nm以上490nm以下の波長領域に発光ピークを有する蛍光体を使用した発光装置。 - 特許庁
In a method of manufacturing a semiconductor device, when forming source and drain regions of a MOS transistor having LDD structure, after forming a gate electrode 103 on a p-type silicon substrate 101 via a gate insulation film 102, ion injection is performed with the gate electrode 103 and the like being an ion injection mask, and an n-type low concentration impurity region 106 is formed by thermal treatment.例文帳に追加
LDD構造を有するMOSトランジスタのソース・ドレイン領域の形成において、P型シリコン基板101上にゲート絶縁膜102を介して、ゲート電極103を形成後、ゲート電極103等をイオン注入マスクとして、イオン注入を行い、さらに熱処理によって、n−低濃度不純物領域106を形成する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device such as an organic field effect transistor in which source and drain electrodes have superior adhesiveness to a base, in which ohmic contact sufficient to a semiconductor layer is formed in a contact region with a current passage, and which has an electrode structure that can be manufactured with good productivity in a simple process; and to provide a manufacturing method of the device.例文帳に追加
ソース及びドレイン電極が、下地に対する優れた密着性を有し、かつ、電流通路との接触域において半導体層に対し良好なオーミック接触を形成し、しかも簡易な工程で生産性よく製造できる電極構造を有する、有機電界効果トランジスタなどの半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor having high sensitivity characteristics in the wavelength region from 380 to 600 nm and excellent durability which does not fatigue or deteriorate by light, and to provide an image forming device which uses the above photoreceptor and a laser having the oscillation wavelength from 380 to 600 nm as the exposure light source, which has high sensitivity and high resolution and which can give stable picture quality.例文帳に追加
380〜600nmの波長域で高い感度特性を有し、光によって疲労劣化しない耐久性に優れる電子写真感光体、および該感光体を用いて380〜600nmに発振波長を有するレーザを露光光源とし、高感度かつ高解像力を有して安定した画質が得られる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
The light source device 110 is provided with an LED 10 as a light-emitting element emitting light of a predetermined wavelength region, a support substrate 20 supporting the LED 10, and a heat sink 30 arranged on an opposite face from a side with the LED 10 arranged on the support substrate 20 and having a plurality of fins 32 protruding toward a side with the LED 10 arranged.例文帳に追加
所定の波長領域の光を射出する発光素子としてのLED10と、LED10を支持する支持基板20と、支持基板20におけるLED10が配置される側とは反対の面に配置され、LED10が配置される側に向けて突出する複数のフィン32を有するヒートシンク30とを備える光源装置110。 - 特許庁
The control part 2 includes a human body detection part 12 which detects whether there is a person in a detection region based upon a difference image output from a difference image generation part 11, and detects an action state of the person when there is the person; and an illumination control part 14 which controls the light source 1 according to the output from the human body detection part 12.例文帳に追加
制御部2は、差分画像生成部11から出力される差分画像に基づいて検知領域の人の存否を検知し、人が存在する場合にはその人の行動状態を検知する人体検出部12と、人体検出部12からの出力に応じて光源1を制御する照明制御部14を備えている。 - 特許庁
The liquid crystal device having a liquid crystal panel, the light guide member lightening the liquid crystal panel, and the light source arranged by the light guide member is composed of a light scatter type liquid crystal panel wherein a light guide member has 1st and 2nd opposite surfaces as light projection surfaces and a light projection region can be controlled by an electric means.例文帳に追加
液晶パネルと前記液晶パネルを照明する導光部材と、前記導光部材の側方に配設される光源とを有する液晶装置において、前記導光部材は対向する第1の面と第2の面をそれぞれ光出射面とし、電気的手段で光出射領域が制御可能な光散乱型液晶パネルよりなる。 - 特許庁
The source or drain of the transistor is electrically connected to an electrode of the light emitting element, and the transistor operates the light emitting element in a saturation region upon emitting light.例文帳に追加
基板上に設けられたトランジスタと、発光素子とを具備する画素を有し、トランジスタは、チャネル形成領域を形成する単結晶半導体層を有し、基板と単結晶半導体層との間に、酸化シリコン層が設けられており、トランジスタのソース又はドレインと発光素子の電極とが電気的に接続され、発光素子の発光時にトランジスタが飽和領域で動作させる。 - 特許庁
The semiconductor device failure analysis apparatus 100 includes a laser light source 17 that irradiates a semiconductor device 1 with pulse laser light causing the semiconductor device 1 to develop multiphoton absorption and an optical detector 6 that has sensitivity in a wavelength region including wavelength of a light produced by the operation of the semiconductor device 1 and can measure photon counting.例文帳に追加
半導体デバイス故障解析装置100は、半導体デバイス1に多光子吸収を生じさせるパルスレーザ光を、半導体デバイス1に照射するレーザ光源17と、半導体デバイス1の動作により発生する光の波長を含む波長領域に感度を有し、フォトンカウンティング測定可能な光検出器6とを備える。 - 特許庁
The manufacturing apparatus comprises: a supply source having a supply part which supplies film-forming species of material for forming the retardation film; and a substrate retention member which can be moved while retaining the substrate and moves the surface of a substrate in a first direction within a prescribed region including positions to which the film-forming species from the supply part can be supplied.例文帳に追加
製造装置は、位相差フィルムを形成するための材料の成膜種を供給する供給部を有する供給源と、基板を保持しながら移動可能であり、供給部からの成膜種が供給可能な位置を含む所定領域内で基板の表面を第1方向に移動させる基板保持部材とを備える。 - 特許庁
意味 | 例文 (999件) |
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