意味 | 例文 (999件) |
source-regionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4512件
During high-beam irradiation, a direct light from the light source 22a injected into the first additional reflector 36L is reflected diagonally to the lower right and then reflected frontward from the second additional reflector 40R to form an additional distribution pattern in a central region of a high-beam distribution pattern.例文帳に追加
ハイビーム照射時、第1付加リフレクタ36Lに入射した光源22aからの直射光を、右斜め下方へ反射させた後、第2付加リフレクタ40Rで前方へ反射させ、ハイビーム配光パターンの中心領域に付加配光パターンを形成する。 - 特許庁
Information for authentication of an application stored in a tamper-resistant region of an authentication module 101 is used to authenticate an application downloaded by a download section 102 of a terminal 100 and confirm the source of the application and whether alteration is performed.例文帳に追加
認証モジュール101の耐タンパ領域に保持されるアプリケーションの認証のため情報を用いて、端末100のダウンロード部102にダウンロードされたアプリケーションの認証を行い出所の確認や改ざんが行なわれていないかどうかの確認を行なう。 - 特許庁
An opening 8 is made in a gate oxide film 6 under a gate electrode pattern 7b, and a resistor R1 to be inserted into the node of an SRAM memory cell 2a is directly connected to a semiconductor substrate 1 through the opening, and is internally connected with a source/drain region 9.例文帳に追加
SRAMメモリセル2aのノード部分に挿入する抵抗体R1を、ゲート電極パターン7bの直下のゲート酸化膜6に開口部8を設けて半導体基板1と直接接続し、ソース/ドレイン領域9と内部で接続する構成とする。 - 特許庁
To make high-quality correction of a defect possible even in a fine region where an etching gas or a source gas of a light-shielding film can not be efficiently supplied, without causing decrease in transmittance due to a Ga stain or changes in physical properties due to changes in the element content of the light-shielding film.例文帳に追加
エッチングガスや遮光膜原料ガスを効率的に供給できない微細領域でもGaステインによる透過率の低下や遮光膜の元素含有量の変化による物性の変化が起こらない高品位な欠陥修正を可能にする。 - 特許庁
A temperature sensor 6 to detect the surface temperature of the heating roller 1 is provided outside the transportation region of a recording medium 8 in the vicinity of the end of the heating roller, and a temperature control device 7 controls on-off of the heat source 3 of the heating roller according to the detected value detected by the sensor 6.例文帳に追加
加熱ローラ1の端部付近であって記録媒体8の搬送領域外に、該加熱ローラの表面温度を検出する温度センサ6を設け、温度制御装置7はこの検出値によって加熱ローラの熱源3のON/OFFを制御する。 - 特許庁
When a voltage ϕ VPS applied to a source of the MO TR T1 is adjusted to activate the MOS TR T1 in a sub threshold region which is less than a threshold, the current flowing through the MOS TR T2 changes with the optical current natural logarithmically.例文帳に追加
このとき、MOSトランジスタT1のソースに印加する電圧φVPSを調整して、MOSトランジスタT1が閾値以下のサブスレッショルド領域で動作するとき、MOSトランジスタT2を流れる電流が前記光電流に対して自然対数的に変化する。 - 特許庁
The apparatus is further provided with a high-frequency power source 16 which is connected to the upper electrode and operates in the region of HF or VHF, and a plasma shield ring 20 in which a secondary plasma is generated in the front of its internal surface between the upper and lower electrodes.例文帳に追加
さらに上部電極に接続されかつHFまたはVHFの領域で動作する高周波電源16と、上部電極と下部電極の間で二次的プラズマがその内側表面の前で生成されるようにしたプラズマシールドリング20とを備える。 - 特許庁
The compound semiconductor portion 3 has a cutting groove 21, formed in a region between the source electrode 4 and auxiliary electrode 7 that cuts the two-dimensional gas layer 12a to divide the compound semiconductor portion 3 into a first portion 51A and a second portion 51B.例文帳に追加
化合物半導体部3には、ソース電極4と補助電極7との間の領域に2次元電子ガス層12aを切断し、化合物半導体部3を第1の部分51Aと第2の部分51Bに分断する切断溝21が形成されている。 - 特許庁
A P type semiconductor region for forming an N type insulated gate field effect transistor employs high energy ion implantation in order to attain such a concentration profile as having peaks in the vicinity of source and drain thereof and the final heat treatment is carried out in hydrogen atmosphere of about 430°C.例文帳に追加
特にN型絶縁ゲ−ト電界効果トランジスタを形成するP型半導体領域はそのソース、ドレイン近傍にピークを持つ濃度プロファイルとなるよう高エネルギーイオン注入を用い、最終熱処理工程は430℃程度の水素雰囲気で行うものとする。 - 特許庁
This protein beverage is obtained by separating and refining β-conglycinin which is a soybean protein fraction, degrading and removing phytic acid bound to the resultant β-conglycinin and thereby utilizing the β- conglycinin with a low content of phytic acid having a raised solubility in the weakly acidic region as a protein source.例文帳に追加
大豆たん白質画分であるβ-コングリシニンを分取精製し、さらに得られたβ-コングリシニンに結合しているフィチン酸を分解・除去することで、弱酸性領域での溶解性を高めた低フィチン酸β-コングリシニンを、たん白質源として利用する。 - 特許庁
To shorten transit time of an electron in a high electric field region by locally forming the high electric field on the source end of a channel immediately below a gate electrode and implement excellent high speed operation of a transistor in a GaN based heterostructure field effect transistor.例文帳に追加
GaN系ヘテロ構造電界効果トランジスタにおいて、ゲート電極直下のチャネルのソース端に局所的に高電界領域を形成することで同領域における電子の走行時間を短縮し、同トランジスタの優れた高速動作を実現する。 - 特許庁
A nickel silicide layer 114 is formed on the gate electrode in a silicide formation region A and on the source drain diffusion layer, and the first side wall 108 has resistance to an etching material when the second side wall 109 is etched.例文帳に追加
シリサイド形成領域Aにおけるゲート電極の上部及びソースドレイン拡散層の上部にはニッケルシリサイド層114が形成されており、第1のサイドウォール108は、第2のサイドウォール109をエッチングする際のエッチング材に対して耐性を有している。 - 特許庁
To purify contaminated soil or ground water with high efficiency and low cost by uniformly spreading oxygen and/or oxygen source containing gas on a contaminated region, upon suppressing volatilization of volatile contaminant, in the in situ purifying method of contaminated soil or ground water.例文帳に追加
汚染土壌又は地下水の原位置浄化方法において、揮発性汚染物質の揮散を抑制した上で、酸素及び/又は酸素源含有ガスを、汚染領域に均一に行き渡らせることにより、汚染土壌又は地下水を高効率かつ低コストで浄化する。 - 特許庁
Thus, though the driving force is larger than when all the members 2 to 4 are formed using MOS transistors whose well region is connected to the power source or grounded, the power consumption is lower than when all the members are formed using dynamic threshold MOS transistors.例文帳に追加
これにより、全ての部材2〜4を、ウェル領域が電源に接続または接地されたMOSトランジスタで形成する場合に比べて駆動力が大きいにも拘らず、全てをダイナミック・スレッショルドMOSトランジスタで形成する場合よりも、消費電力が少ない。 - 特許庁
The thin film transistor 19 comprises a semiconductor film 4 comprising a source and drain region 3 and poly-crystalline silicon, processed by laser annealing method employing Nd:YAG (yttrium-aluminum-garnet) second high harmonics; and an interlayer dielectric 6 for covering the semiconductor film 4.例文帳に追加
薄膜トランジスタ19は、ソースおよびドレイン領域3を含み、Nd:YAG(イットリウム−アルミニウム−ガーネット)第2高調波を用いたレーザアニール法により多結晶化されたシリコンを含む半導体膜4と、半導体膜4を覆う層間絶縁膜6とを有する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device in which internal power source voltage can be changed in accordance with an operation frequency and current consumption in a low frequency region of the operation frequency can be effectively controlled while keeping relative timing relation of each signal.例文帳に追加
各信号の相対的なタイミング関係を維持しながら、動作周波数に応じて内部の電源電圧を変更することができ、動作周波数が低い領域での消費電流を有効に抑制することが可能な半導体装置を提供すること。 - 特許庁
Photodiodes PD1 and PD2 are formed on the silicon substrate 14, and a photodiode UV-PD and a main part (source-drain channel region) of an MOSFET constituting a control circuit 11A are formed in the silicon semiconductor layer 18 on the insulation film 16.例文帳に追加
フォトダイオードPD1及びPD2は、シリコン基板14に形成されており、フォトダイオードUV−PD及び制御回路11Aを構成するMOSFETの主要部(ソース・ドレイン・チャネル領域)は、絶縁膜16上のシリコン半導体層18に形成されている。 - 特許庁
To provide a photomask blank in which the surface reflectance of a light shielding film in a short wavelength region of 190 to 300 nm (particularly near 200 nm) is sufficiently decreased and favorable pattern transfer accuracy is obtained even for an exposure light source in the tendency of shorter wavelengths.例文帳に追加
190〜300nmの短波長域(特に200nm近傍)における遮光膜の表面反射率を十分に低減させ、短波長化の傾向にある露光光源に対しても良好なパターン転写精度が得られるフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁
While taking account of a case where high accuracy dimensional control by double exposure is impossible, a part superposed with an impurity region pattern constituting a source-drain electrode is removed from the object of enlargement and superposition for a gate electrode pattern.例文帳に追加
2重露光による高精度な寸法コントロールが不可能な場合を考慮して、ゲート電極パターンに関してはソース・ドレイン電極を構成するための不純物領域パターンと重なる部分を前記拡大及び重ね合わせ処理の対象から除外する。 - 特許庁
A source electrode 7 and a drain electrode 8 are respectively formed on the layers 5a, 5b after removing the epitaxial mask 4, and a gate electrode 9 is formed on a channel region on the surface of the substrate 1 through a gate insulating film 6.例文帳に追加
エピタキシャルマスク4を除去した後、半導体ダイヤモンド層5a及び5b上に夫々ソース電極7及びドレイン電極8を形成すると共に、基板1表面におけるチャネル領域上にゲート絶縁膜6を介してゲート電極9を形成する。 - 特許庁
The application shall contain an indication of the appellation of origin or of the indication of source for which registration is sought. This is the name of the country or of the region or locality in that country, and the generic name or the name of the line of the goods may be added thereto. 例文帳に追加
出願には,登録を求めている原産地名称又は出所表示を含める。これは,国の名称又は当該国における地域若しくは場所の名称であり,商品の一般名称又は系列名称をこれに付加することができる。 - 特許庁
Since the surface channel layer 5 can be formed of 4H or 6H-SiC and the semiconductor layer 22 which becomes an n^+-type source region 4 can be formed of 3C-SiC, contact resistivity can be reduced and device characteristics can be stabilized.例文帳に追加
これにより、表面チャネル層5を4Hまたは6H−SiCで形成でき、n^+型ソース領域4となる半導体層22を3C−SiCで形成できるため、コンタクト抵抗率の低減を図ると共にデバイス特性の安定化を図ることができる。 - 特許庁
To prevent occurrence of a photoelectric current in a channel region due to illumination light from a back light source when TFT is turned off, which becomes a cause of an increase of a leaking current in an element and deterioration of picture quality, in a thin film transistor (TFT) plane display panel structure.例文帳に追加
薄膜トランジスタ(TFT)平面ディスプレイパネル構造において、素子の漏電電流の増加や画質の劣化の原因となる、TFTがオフのときのバックライト光源からの照明光に起因するチャンネル領域中の光電流の発生を防止する。 - 特許庁
Therefore, in order to make the light uniform in the overlapping portion of the light inevitably created in consideration of the overlapping region C of the illumination utilizing a first and second diffusion plates 26, 28 can attain prevention of a light source reflection and a uniform illumination without unevenness.例文帳に追加
そこで、照明の重なり領域Cを予定した上で、必然的にできる光の重なり部分で光を均一にするために、第1及び第2の拡散板26,28を利用して、光源の写り込み防止、ムラの少ない均一な照明を達成させている。 - 特許庁
The liquid crystal display is used which is equipped with a liquid crystal display panel 2; an image pickup unit 4, having an imaging optical system; a detection light source unit 9 which emits detection light, having wavelength in the IR region toward the observer's side of the liquid crystal display panel 2; and a backlight device 5.例文帳に追加
液晶表示パネル2と、結像光学系を有する撮像部4と、液晶表示パネル2の観察者側へ、波長が赤外領域にある検出光を出射する検出光源部9と、バックライト装置5とを備えた液晶表示装置を用いる。 - 特許庁
To provide an optical device and an optical system in which scattering of light in a short wavelength region can be decreased, and to provide an optical pickup device in which scattering of light can be decreased even when a light source in a shorter wavelength than a conventional one is used and which can prevent errors for reading and writing.例文帳に追加
短波長の光に関し散乱光を減じることのできる光学素子、光学系、及び従来よりも短波長の光源を使用した場合でも散乱光を減じ、読み取り・書き込みエラーを防止することのできる光ピックアップ装置を提供する。 - 特許庁
To obtain a bright screen even by the light source lamp of the same electric power by transmitting light in a visible region simultaneously absorbed with heat absorption by eliminating the need of heatproof glass conventionally required because a projecting material is cooled and obtained heat is reduced.例文帳に追加
映写資料を冷却出来る事と到達する熱が減少される事から従来必要とした防熱硝子が不要となり、熱吸収と同時に吸収されていた可視光も透過され同じ電力の光源ランプでも画面を明るくする事。 - 特許庁
In the surface light source 20, the surface 23a of the light diffusion plate 23 on the lamp box 22 side has an arithmetic average roughness RA of ≤1.0 μm and an irregular average interval RSm of ≤200 μm in a contact region with at least each of the spacer pins 25.例文帳に追加
面光源装置20では、光拡散板23のランプボックス22側の表面23aにおいて、少なくとも各スペーサピン25との接触領域の算術平均粗さRaが1.0μm以下且つ凹凸の平均間隔RSmが200μm以下である。 - 特許庁
When the light source M is lighted and light is projected to an internal part through the lateral end face, since projection light L is scattered due to the unevenness 3a formed in the light guiding plate 1, a pattern formed at the pattern region 3 clearly rises to a surface.例文帳に追加
光源Mを点灯させて導光板1の測端面から内部へ光を投射すると、投射光Lが導光板1に形成した凹凸3aによって散乱されるため、絵柄領域3に形成した絵柄が光によって鮮明に浮き上がる。 - 特許庁
Luminous flux from a point light source 111 is divided into reference light and illumination light by a beam splitter 221 in the measuring device 1, and the illumination light is applied vertically to an illumination region on the inner surface 91 by a mirror 223 arranged in the sleeve 9.例文帳に追加
測定装置1では点光源111からの光束がビームスプリッタ221により参照光と照明光とに分割され、照明光はスリーブ9内に配置されるミラー223にて内側面91上の照射領域に垂直に照射される。 - 特許庁
To provide a color filter for a liquid crystal display device restraining a change in color temperature and further preventing the lowering of lightness at the time of white display without narrowing a color reproducing region even in the case of using a white LED as the light source of a backlight, and to provide a liquid crystal display device.例文帳に追加
バックライトの光源として白色LEDを用いても、色再現域を狭くすることなく、また、色温度の変化を抑制し、更には、白表示時の明度を低下させることのない液晶表示装置用カラーフィルタ、液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁
At that time, a distance from the light source 18a to the region 20a1 close to the lower-end edge of the reflecting surface 20a is made longer by setting the position of a light axis Ax of a light fixture in a position displaced to the upper position from the vertical center of the reflecting surface 20a.例文帳に追加
その際、灯具光軸Axの位置を反射面20aの上下方向中心位置よりも上方に変位した位置に設定することにより、光源18aから反射面20aの下端縁近傍領域20a1までの距離を長くする。 - 特許庁
To provide a reflection type polarizing modulation element capable of using a circularly polarized light or a linearly polarized light and modulating these polarized states of the light without using a radiation light source even in a vacuum ultraviolet region where no transmission type polarizing element can be used.例文帳に追加
透過型偏光素子が利用できない真空紫外領域においても円偏光もしくは直線偏光の利用ならびにそれら偏光状態の変調が放射光源を用いずとも可能とする反射型偏光変調素子を提供すること。 - 特許庁
The 17a of the second comb-shaped wiring 17 and the part 16a of the first comb-shaped wiring 16 are arranged alternately, and arranged vertically to a channel direction for connecting the drain regions 7, 9 and the source region 8 of the MOS capacitor 4.例文帳に追加
第2の櫛型配線17の延出部17aは、第1の櫛型配線16の延出部16aと交互に並んで配置されているとともに、MOSキャパシタ4のドレイン領域7、9とソース領域8を結ぶチャネル方向に対して垂直に配置されている。 - 特許庁
The exposure method comprises: making a beam from a light source scan an exposure object via an optical element LG; and exposing a pattern PA1 whose region is enlarged on the exposure object in a direction approximately perpendicular to the scanning direction X, via the optical element on the exposure object.例文帳に追加
この露光方法は、光源からの光を光学素子LGを介して走査するとともに、光学素子を介することでその走査方向Xと略直交する方向に被露光物上で領域が拡大したパターンPA1を被露光物上に露光する。 - 特許庁
To avoid being larger in size of a backlight device than effective lighting region in the case of direct backlight in which a major heat source of an electrode part of a cold-cathode tube 113 is placed outside of a lamp chamber 10 in order to prevent heating up of the sealed chamber 10.例文帳に追加
直下型のバックライト装置において、密閉されたランプ室10の発熱防止の目的で、主たる熱源である冷陰極管113の電極部をランプ室10の外に配置した場合、有効照明領域よりもバックライト装置が大きくなってしまう。 - 特許庁
To provide an active matrix type electroluminescence (EL) display device that can display a clear multi gray-scale color display to reduce the shift in the potential caused by the potential drop due to wiring resistance of a power source supply line, in order to decrease unevenness in a display region.例文帳に追加
電源供給線の配線抵抗による電位降下によって生じる電位のずれを軽減することにより、表示領域内のムラを軽減し、鮮明な多階調カラー表示が可能なアクティブマトリクス型のEL表示装置を提供することを課題とする。 - 特許庁
Light is applied from a lower part to perform back exposure, wherein a shadow generated by a light-shielding region of the mask and that generated by the gate electrode 320 become non-exposure regions of a resist layer, and patterning is performed to form the source and drain electrodes 350, 360.例文帳に追加
下方から光を照射し、マスクの遮光領域によって生じる影とゲート電極320によって生じる影とが、レジスト層の非露光領域となるような背面露光を行い、パターニングしてソース電極350およびドレイン電極360を形成する。 - 特許庁
Light guiding optical systems (2, 4) for leading luminous fluxes to the lighting region on the surface to be illuminated in a superposition manner after the luminous fluxes are once condensed from each of a plurality of the unit areas are provided in the optical path between the light source and the surface to be illuminated.例文帳に追加
光源部と被照射面との間の光路中には、複数の単位エリアの各々からの光束をそれぞれ一旦集光させた後に被照射面上の照明領域へ重畳的に導くための導光光学系(2,4)を備えている。 - 特許庁
Also, because of the presence of a range of voltages at which outputting is possible owing to the intervention of the NMOS transistors Tr5 and Tr6, optimization is so achieved as to maximize the region in which linearity is kept by shifting the threshold voltage Vth of the PMOS transistors Tr13 and Tr14 for source follower use.例文帳に追加
また、トランジスタTr5、Tr6が介在し出力可能の電圧範囲が存在するため、ソースフォロワ用PMOSトランジスタTr13及びTr14の閾値電圧Vthのシフトによって線形性を保つ領域が最大になるように最適化する。 - 特許庁
Thus, the dimensions of the light receiving face of the light receiving element 20 in the main scanning direction and in the subscanning direction are made smaller than the dimensions of the light emitting region on which VCSEL of the light source 10 is arranged in the main scanning direction and in the subscanning direction.例文帳に追加
これにより、受光素子20の受光面の主走査方向の寸法、及び副走査方向の寸法を、光源10のVCSELが配置される発光領域の主走査方向の寸法、及び副走査方向の寸法よりも小さくすることができる。 - 特許庁
To provide a structure of semiconductor deice and its manufacturing method capable of suppressing defective contacting to a source/drain region of a memory cell transistor, without causing fluctuation in characteristics of a peripheral element, related to a logic semiconductor device mounted with a nonvolatile semiconductor memory.例文帳に追加
不揮発性半導体メモリを混載したロジック半導体装置に関し、周辺素子の特性変動等を生じることなく、メモリセルトランジスタのソース/ドレイン領域へのコンタクト不良を抑制する半導体装置の構造及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a light source device in which sufficient uniformity over an entire irradiation region can be achieved even when an irradiation object is exposed from a short distance utilizing an effective irradiation range in the length direction of a low voltage discharge lamp to the vicinity of limit.例文帳に追加
低圧放電灯の長さ方向の有効照射範囲を限界付近まで利用して照射対象を近距離から露光する場合においても、照射領域全域に渡って十分な均斉度を実現することができる光源装置を提供する。 - 特許庁
In this state, a semiconductor material is grown by selective epitaxial growth in a well region exposed to both the sides of the spacer in the width direction and including two source-drain regions 10 thus forming two extension portions 12 separated by the retracted spacer.例文帳に追加
この状態で、後退したスペーサの幅方向両側に露出し2つのソース・ドレイン領域10を含むウェル領域に選択的なエピタキシャル成長により半導体材料を成長させ、後退したスペーサにより分離する2つのエクステンション部12を形成する。 - 特許庁
The first and second main electrodes 13, 14 serve as a drain or a source of a main semiconductor switching element 20 composed of HEMT in ohmic contact with the main semiconductor region 12 and further serve as a cathode of the first and second diodes 21, 22.例文帳に追加
第1及び第2の主電極13,14は主半導体領域12にオーミック接触してHEMTから成る主半導体スイッチング素子20のドレイン又はソースとして機能すると共に第1及び第2のダイオード21,22のカソードとして機能する。 - 特許庁
Metastable parent ions which spontaneously fragment by Post Source Decay whilst passing through the field free or drift region 5 are arranged to enter the ion mirror 7, and reflected by the reflectron towards an ion detector 8 when the reflectron is maintained at a certain voltage.例文帳に追加
ポストソース分解により自然に分解し、フィールドフリー又はドリフト領域5を通り抜ける準安定親イオンは、イオンミラー7に入るよう準備され、リフレクトロンがある一定の電圧で保たれているとき、リフレクトロンでイオン検出器8に向かって反射される。 - 特許庁
To produce hot water about 90°C in utilizing condensation heat of a refrigerating device comprising an ice thermal storage tank as a heat source of a heat pump for CO_2 hot water supply, and to stably supply hot water throughout the year regardless of season, cold region and the like.例文帳に追加
氷蓄熱槽を備えた冷凍装置の凝縮熱をCO_2給湯用ヒートポンプの熱源として利用する場合に、90℃前後の温水を製造可能とし、かつ季節、寒冷地等に関係なく、年間を通して安定した給湯を可能とする。 - 特許庁
A cavity 9 is formed in the insulation layer 8 immediately under a portion of the source region which touches the supporting substrate 6 in the vicinity of the cavity 9, and a bend 110a is provided in the vicinity of a level difference 9a between the insulation layer 8 and the cavity 9.例文帳に追加
絶縁層8には、ソース領域の一部の直下に空洞部9が形成され、ソース領域は、空洞部9近傍において支持基板6に接し、かつ絶縁層8と空洞部9との間の段差部9a近傍にて湾曲部110aを有している。 - 特許庁
A light receiving part 160 observes reflected light of light from a light source 140 via a lens 150 and measures the distance from the rotational shaft to a point on an inner peripheral part on the basis of light quantity distribution in the region including an inner peripheral end part of the glass substrate 300.例文帳に追加
受光部160は、光源140からの光の反射光をレンズ150を介して観測し、ガラス基板300の内周端部を含む領域における光量分布に基づいて、回転軸から内周上の点までの距離を測定する。 - 特許庁
To provide a planar light source device that has a structure in which foreign matters entered in the gap between the peripheral edge on the light emitting side of a light guide plate and a molded frame opposed to this hardly moves to the display region side or a structure in which the entered foreign matters can be removed easily.例文帳に追加
導光板の発光面側周縁部とこれに対向するモールドフレームとの隙間に侵入した異物が表示領域側に移動し難い構造、または侵入した異物を容易に取り除くことができる構造の面状光源装置を得る。 - 特許庁
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