意味 | 例文 (999件) |
side-reactionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1381件
A method of manufacturing the semiconductor device comprises: forming the insulating film on a first conductor film; and forming a recess in an upper part of the insulating film exposed in an opening of a mask film and sticking reaction products on a lower part of a side wall part of the mask film through anisotropic etching using the mask film having the opening for exposing the insulating film.例文帳に追加
半導体装置の製造方法は、第1の導電体膜上に絶縁膜を形成し、絶縁膜を露出する開口部を有するマスク膜を用いた異方性エッチングにより、開口部に露出した絶縁膜の上部に凹部を形成すると共に、マスク膜の側壁部下部に反応生成物を付着させる。 - 特許庁
Microwaves of identical electric power are applied to the microwave introducing windows 2a, e.g. two in number, located in equivalent positions in the positional relationship with a side wall 1b of the reaction chamber 1 and microwaves of dissimilar electric power are applied to the microwave introducing windows 2a, 2b, e.g. two in number, in the nonequivalent positional relationship.例文帳に追加
反応容器1の側壁1bとの位置関係において等価な位置に配置されたたとえば2つのマイクロ波導入窓2aには同一電力のマイクロ波が投入され、かつ非等価な位置関係あるたとえば2つのマイクロ波導入窓2a、2bには異なる電力のマイクロ波が投入される。 - 特許庁
At the time, the lottery ball S, tending to reversely flow onto the second gentle slope 120c, is prevented from reversely flowing with the reaction force to push back the lottery ball S generated as a lottery ball S located at the most upstream side of the second gentle slope 120c abuts on a bending part between the second gentle slope and the steep slope 120b.例文帳に追加
この際、抽選球Sは第2の緩斜面部120cに逆流しようとするが、第2の緩斜面部120cの最上流に位置している抽選球Sが急斜面部120bとの屈折部分に当接することで、抽選球Sを押し戻す反作用の力が働き、抽選球Sの逆流が阻止される。 - 特許庁
To provide a decomposition treatment method and a decomposition treatment system of an organic halogen compound which can easily detoxify an oil mixed with the organic halogen compound like an insulating oil used for a pole transformer in a short time, saves the trouble of removing a catalyst and is unlikely to form side reaction products.例文帳に追加
柱上変圧器に使用された絶縁油など有機ハロゲン化合物が混入した油を、簡易に短期間で無害化処理することができ、しかも、触媒を分離する手間が不要で、副反応生成物が生成する可能性が低い、有機ハロゲン化合物の分解処理方法及び分解処理システムを提供する。 - 特許庁
Amylene has a lower possibility of causing an unanticipated side-reaction than oxygen-containing compounds and nitrogen-containing compounds as stabilizers conventionally used, and as required, can easily be separated from the chloropropane.例文帳に追加
CCl_3−CCl_(2−m)H_m−CCl_(3−n)H_n (1)(上記式において、mは0〜2であり、nは0〜3の整数である) 従来使用されている安定剤である含酸素化合物や含有窒素化合物に比べて、アミレンは予期せぬ副反応を生じる可能性が低く、また必要に応じてのクロロプロパンとの分離も容易である。 - 特許庁
To provide a method for producing a vinyl acetal resin that suppresses discoloration and molecular weight reduction of the obtained vinyl acetal resin, suppresses side reactions other than the acetalization reaction of aldehyde, and produces a vinyl acetal resin having a high degree of acetalization in a short time even when an amount of aldehyde used is small.例文帳に追加
得られるビニルアセタール樹脂の着色及び分子量の低下、並びに、アルデヒドのアセタール化反応以外の副反応を抑制することができ、アルデヒドの使用量が少量であってもアセタール化度の高いビニルアセタール樹脂を短時間で製造することができるビニルアセタール樹脂の製造方法を提供する。 - 特許庁
Cycloalkene has less probability of generating an unexpected side reaction in comparison with an oxygen-containing compound or a nitrogen-containing compound which is a stabilizer used hitherto, and can be separated easily from chloropropane as the need arises.例文帳に追加
CCl_3−CCl_(2−m)H_m−CCl_(3−n)H_n (1)(上記式において、mは0〜2であり、nは0〜3の整数である) 従来使用されている安定剤である含酸素化合物や含有窒素化合物に比べて、シクロアルケンは予期せぬ副反応を生じる可能性が低く、また必要に応じてのクロロプロパンとの分離も容易である。 - 特許庁
To provide an exhaust emission control system improving conversion efficiency of NOx by disposing a second catalyst producing reducing gas including H_2 by production of aromatic hydrocarbon and a dehydrogenation reaction in an upstream side of an NOx trap catalyst disposed in an exhaust passage, and effectively using the reducing gas.例文帳に追加
排気通路に配置したNOxトラップ触媒の上流側に、芳香族炭化水素の生成と共に、脱水素反応によって、H_2を含む還元ガスを生成する第2の触媒を配置し、この還元ガスを有効に利用して、NOxの浄化効率を向上させる排気浄化システムを提供する。 - 特許庁
In the manufacturing method for a semiconductor device, a semiconductor substrate, with an insulating film taken as a mask, is etched using a gas comprising HBr and CHF3, and a reaction product with the semiconductor substrate is deposited gradually on a mask side wall, to form a trench having sufficient radius on the upper end of the trench.例文帳に追加
絶縁膜をマスクとした半導体基板を、HBrおよびCHF3からなるガスを用いてエッチングし、マスク側壁に半導体基板との反応生成物を徐々に付着させることにより、トレンチ上端部に十分な丸みを持つトレンチを形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁
The photographic chemical distributing product consisting essentially of a nonporous substrate and a hydrogel containing one or more photographic chemicals necessary for image formation is brought into contact with the silver halide emulsion layer side of an imagewise exposed photographic material to form a laminate and a photochemical reaction is caused in this state to form an image.例文帳に追加
無孔の基体と画像形成に必要な一種以上の写真薬剤を含むヒドロゲルとから本質的になる写真薬剤配送製品を、像様露光された写真材料のハロゲン化銀乳剤層側と接触させて積層物を形成し、その状態で光化学反応を起こさせて画像を形成する。 - 特許庁
According to the SOFC 100 of the configuration, solid-phase reaction can be prevented suitably between the solid electrolyte and the air electrode while maintaining the ion conductivity of the solid electrolyte in high state, because a Ce layer 24 having a thickness of 3 μm or less is included on the side of the solid electrolyte 20 in contact with the air electrode 30.例文帳に追加
かかる構成のSOFC100によると、固体電解質20の空気極30と接する側に厚み3μm以下のCe層24が含まれているため、固体電解質のイオン伝導度を高い状態で維持しながら、固体電解質−空気極間の固相反応を好適に防止することができる。 - 特許庁
At parts in which the cathode gas flow passage 6 positioned at the both side parts of a face in which the cathode gas flow passage 6 of this plate 23 with the both face grooves is not formed, an extra groove 20 to make the volume per unit area of the part closer to an inside reaction part in which the cathode gas flow passage 6 has been formed is formed.例文帳に追加
この両面溝付きプレート23のカソードガス流路6が形成された面の両側部に位置するカソードガス流路6が形成されていない部分に、その部分の単位面積当たりの容積を、カソードガス流路6が形成された内部反応部と近づけるための捨て溝20を形成する。 - 特許庁
After etching the WSi2 layer with a plasma of Cl2/O2 gas, by having it overetched to remove WSi2 layers 16e, 16f with a plasma of HBr/Cl2/O2 gas while reaction products suppress side etching, WSi2 layers 16a-16d corresponding to the layers 18a-18d are thereby obtained.例文帳に追加
Cl_2/O_2ガスのプラズマでWSi_2層をジャストエッチングした後、HBr/Cl_2/O_2ガスのプラズマにより反応生成物でサイドエッチングを抑制しつつオーバーエッチングを行なってWSi_2層16e,16fを除去することにより層18a〜18dに対応するWSi_2層16a〜16dを得る。 - 特許庁
The fuel cell power generating system comprises a fuel cell 16 generating electricity by the electrochemical reaction of fuel gas 12 and oxidant gas 14, a DC/DC converter 18 transforming the direct current voltage outputted from the fuel cell 16 into a prescribed direct current voltage, and a capacitor 20 connected to the output side of the DC/DC converter 18.例文帳に追加
燃料ガス12と酸化剤ガス14との電気化学的反応により発電する燃料電池16と、燃料電池16から出力される直流電圧を所定の直流電圧に変圧するDC/DCコンバータ18と、DC/DCコンバータ18の出力側に接続されたコンデンサ20とを備える。 - 特許庁
A re-releasing type pressure-sensitive adhesive has a radiation reactive polymer having an intramolecular side chain having one carbon-carbon double bond and a chain length of 6 or more atoms as the major component and a shrinkage force to be caused by the curing reaction by irradiation with radiation of not greater than 30 MPa.例文帳に追加
再剥離型粘着剤は、炭素−炭素二重結合を1個有し且つ鎖長が原子数で6個以上である分子内側鎖を有する放射線反応性ポリマーを主成分とするとともに、放射線照射による硬化反応により生じる収縮力が30MPa以下である。 - 特許庁
When the movable contact rotates in an open pole direction to a predetermined position, a first reaction force Fp" is generated toward the rotation center of the movable contact from the engaging inner wall 30b at a predetermined position with which the movable side engagement part is in contact, and therefore, the movable contact is kept at a predetermined position.例文帳に追加
そして、可動接触子が所定の位置まで開極方向に回動した際には、可動側係合部が当接する所定位置の係合内壁面30bから可動接触子の回動中心に向かって第1反力Fp″が発生することで、可動接触子が所定の位置を保持する。 - 特許庁
The side wall of a fuse element or an insulating film covering it is worked into a tapered shape, so that the distance to the applied insulating film existing near the fuse element is made larger to release a thermal stress to be applied to the applied insulating film and the degassing reaction from the applied insulating film is suppressed to avoid the deformation of the applied insulating film or a crack.例文帳に追加
ヒューズ素子の側壁部もしくはそれを覆う絶縁談をテーパ形状に加工することにより、ヒューズ素子の近隣に存在する塗布絶縁膜との距離を大きくすることで塗布絶縁膜へ加わる熱ストレスを緩和し、塗布絶縁談からの脱ガス反応を押さえ塗布絶縁談の変形やクラック等を避ける。 - 特許庁
To provide a vacuum-degassing treating method for molten steel with which, in the vacuum-degassing treatment, the reaction interface area is increased by making small bubbling diameter of blowing gas and also, uniformly dispersing the blowing gas bubble in the cross sectional area of an immersion tube, and the remarkable growth of solid metal is restrained at the outlet side of a gas blowing hole.例文帳に追加
真空脱ガス処理における、吹込みガスの気泡径を小さくするとともに、浸漬管の断面内において吹込みガス気泡を均一に分散させて反応界面積を増大し、しかもガス吹込み口出側における地金の著しい成長を抑制した、溶鋼の真空脱ガス処理方法について提案する。 - 特許庁
When the nut is fastened, a fastening force larger than the fastening force of the fastening nut part 6 is applied to the locking nut part 7 to separate the locking nut part 7 from the fastening nut part 6 so as to deform the end part 14 of the locking nut part 7 on the inclination surface 11 side by a reaction applied from the inclination surface 11 to the fastening surface 13.例文帳に追加
そして、締結の際には、緩み止めナット部7に締結ナット部6の締結力より大きい締付け力を加えて緩み止めナット部7を締結ナット部6から分離させ、締付け面13が傾斜面11から受ける反力により緩み止めナット部7の傾斜面11側の端部14を変形させる。 - 特許庁
In the electrode structure composed of a polymer electrolyte membrane, and an anode and a cathode having a catalyst layer and a diffusion layer, the anode side diffusion layer has a CO decomposition reaction layer, and the pressure difference measured by a pressure difference measuring method is not less than 60 mmaq and not more than 120 mmaq.例文帳に追加
高分子電解質膜、触媒層と拡散層を有するアノードおよびカソードからなる固体高分子型燃料電池用電極構造体であって、アノード側の拡散層は、一酸化炭素分解反応層を備え、かつ、差圧測定法により測定された差圧が60mmaq以上120mmaq以下である。 - 特許庁
To provide a preparation process of a polyester which gives a high reaction rate at melt polymerization, yields an aliphatic-aromatic polyester having a high degree of polymerization without using any chain extender, inhibits side reactions at molding, allows little deterioration in physical properties of a product and generates little amount of THT gas.例文帳に追加
溶融重合における反応速度が高く、鎖延長剤を用いなくても高重合度の脂肪族芳香族ポリエステルが製造でき、且つ成形時の副反応が抑制され、製品の物性低下が少なく、またTHFガス発生量が少ない利点を有するポリエステルの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a histamine H_1 receptor blocking agent, antihistamic agent and antiallergic agent having selective and high blocking action on histamine H_1 receptor, effective for suppressing the itchiness caused by the type I allergic reaction relating to histamine, insect bite and skin pruritus and free from side actions such as central nervous suppressing action and local stimulation.例文帳に追加
ヒスタミンH_1受容体に対し選択的且つ高い遮断作用を有し、ヒスタミンの関与するI型アレルギー反応や、虫刺され,皮膚そう痒症等のかゆみの抑制に有効で、中枢神経系抑制作用や局所刺激性といった副作用のないヒスタミンH_1受容体遮断剤,抗ヒスタミン剤,及び抗アレルギー剤を得る。 - 特許庁
To provide a method for producing a formic acid ester and methanol, having an advantage of the reaction performed in a super critical phase, capable of performing an operation in a high conversion rate and without progressing side reactions at ≤240°C low temperature, since the solvent in the supercritical state shows a catalytic activity.例文帳に追加
本発明は、超臨界相における反応の利点を有し、さらに超臨界状態の溶媒が触媒作用を示すため、高転化率にて運転可能で、かつ、240℃以下の低温で副反応がほとんど進行せず、ギ酸エステル及びメタノールを合成することを可能とする製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a producing method for semiconductor device, with which the deposition of polymerized films on the surface of a wafer is suppressed in the case of etching an insulating film with a resist pattern as a mask and satisfactory alloy reaction can be provided between a metal depositing film and the surface of the wafer while unnecessitating the mask formation of a side in a following lift-off process.例文帳に追加
レジストパターンをマスクとする絶縁膜のエッチングの際に基板表面への重合膜の堆積を抑制し、その後のリフトオフ工程におけるサイドのマスク形成を不要としながら金属蒸着膜と基板表面との間の良好なアロイ反応を得ることができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To suppress deterioration of exhaust gas purification capability of an exhaust gas purification catalyst containing an alkali metal or an alkaline earth metal on a Cr-containing substrate because of cracking of the substrate caused by a migration of Cr of the substrate to the catalytic active component side and reaction of Cr with the alkali metal or alkaline earth metal.例文帳に追加
Crを含有する基材上にアルカリ金属又はアルカリ土類金属を設けた排ガス浄化触媒において、基材中のCrが触媒活性成分側へ移動してアルカリ金属又はアルカリ土類金属と反応し、基材の割れ、排ガスガス浄化性能の低下が生ずるのを抑制する。 - 特許庁
A material presser part (16) acting so as to push the material chip (13) onto a cutting knife (4) side by reaction force to the pushing force by receiving the material chip (13) pushed by the rotating cutting knife (4) or a rotary body (1) to the cutting knife (4) held with the rotary body (1), is provided.例文帳に追加
回転体(1)によって支えられた切削刃(4)に対して、回転する切削刃(4)若しくは回転体(1)によって押される材料木片(13)と受け止めて、前記の押し付け力に対する反力が、材料木片(13)を切削刃(4)の側へ押し付けるように働く材料押さえ部(16)を設ける。 - 特許庁
A thrust bearing to receive a thrust force applied to the output shafts 41 and 42 in their axial direction as the reaction of the object driven is composed of an annular member 51 made of an oil-impregnated sintered alloy and annular sliding surfaces 442 and 452 of rotation side members 441 and 451 slidable in abutting to the member 51.例文帳に追加
駆動対象物からの反作用として出力軸41、42の軸方向に加わるスラスト力を受けるスラストベアリングが、含油焼結合金からなる円環状部材51と、それに当接して摺動可能な回転側部材441、451の円環状摺動面442、452とで構成されている。 - 特許庁
The organic waste decomposition treatment method is to carry out the decomposition treatment by constantly maintaining the temperature and moisture of a mixture of the organic waste and a degradation medium in the range of favorable decomposition conditions by discharging the air from the reaction vessel while supplying the warm air and diffused moisture from the upper side of the organic waste under the treatment.例文帳に追加
有機廃棄物分解処理方法は、処理中の有機廃棄物の上方より暖気及び拡散状水分を供給しつつ、処理反応槽内の空気を排気して有機廃棄物と分解媒体の混合物の温度及び湿度を分解の為の好条件範囲内に常時維持しつつ分解処理を進行させる。 - 特許庁
This ammonia decomposing apparatus has a structure that a cylindrical body through which gas flows has a heating part for heating the gas, a spraying part for spraying liquid to be treated into the gas, and an reaction part having an ammonia decomposition catalyst installed in order from the upstream side of the gas along the lengthwise direction of the cylindrical body.例文帳に追加
アンモニア分解装置を、気体が通流される筒体中に、筒体の長手方向に沿って気体の上流側から順に、気体を加熱する加熱部と、気体中に処理対象液を噴霧する噴霧部と、アンモニア分解触媒を有する反応部とが順次設けられてなる構成とする。 - 特許庁
MACROMONOMER DERIVED FROM NORBORNENE-BASED MONOMER HAVING HALOGEN GROUP CAPABLE OF INDUCING RADICAL POLYMERIZATION AT ITS TERMINAL, NORBORNENE POLYMER HAVING GROUP CAPABLE OF INDUCING RADICAL POLYMERIZATION AT SIDE CHAIN AND NORBORNENE POLYMER PRODUCED BY GRAFT REACTION OF THE MACROMONOMER USING ACRYLATE MONOMER OR STYRENE MONOMER, AND METHOD FOR PRODUCING THEM例文帳に追加
末端にラジカル重合反応を誘導できるハロゲン基を有するノルボルネン系モノマーから誘導されたマクロモノマー、側鎖にラジカル重合反応を誘導できる基を有するノルボルネン重合体、そのマクロモノマーとアクリレート系モノマーまたはスチレン類モノマ−を用いてグラフト反応生成物であるノルボルネン重合体とそれらの調製方法 - 特許庁
The electrode catalyst for the electrochemical cell has the oxidation reaction rising potential of the electrode catalyst itself shifted on the high potential side against the electrode catalyst comprising the aromatic heterocyclic compound having a six-membered cyclic structure containing the heteroatom having the metal coordination capacity and not coexisting with the aromatic heterocyclic compound.例文帳に追加
芳香族複素環式化合物は6員環構造を有し、ヘテロ原子が金属配位能を有し、芳香族複素環式化合物が共存しない電極触媒に対して、電極触媒自身の酸化反応の立ち上がり電位が高電位側にシフトしている電気化学セル用電極触媒である。 - 特許庁
The semiconductor substrate holding device for holding a semiconductor substrate in the reaction room of a plasma CVD device consists of a mounting block and a heating block, the upper surface and side faces of the mounting block are treated with anode oxidation treatment and the film thickness of the anode oxidation film is 30 to 60μm.例文帳に追加
プラズマCVD装置の反応室内で半導体基板を保持するための半導体基板保持装置であって、載置ブロックと、加熱ブロックとから成り、載置ブロックの上面及び側面が陽極酸化処理されており、陽極酸化膜の膜厚が30μmから60μmであることを特徴とする装置。 - 特許庁
Then a thermally decomposed layer 12a, resulting from the thermal decomposition of the contact layer 12, is formed so as to disjoin the contact layer 12 from the substrate 11, by once taking out the substrate 11 from a reaction furnace and irradiating the contact layer 80 with a laser beam 80 from the substrate 11 side.例文帳に追加
一旦、反応炉から取り出して、レーザ光80を母材基板11側からn型コンタクト層12に照射することにより、母材基板11とn型コンタクト層12との間にn型コンタクト層12が熱分解してなる熱分解層12aを形成して、母材基板11とn型コンタクト層12の間の接合を分離する。 - 特許庁
When the turning handle 51 is turned in the one direction to move the sash 4 into an open position, the turning plate 57 also turns to one side, and the assist roller 59 abuts on a lower frame 2b of the window frame 2 and presses it in an opposite direction to the advancing direction of the sash 4, and the sash 4 moves receiving reaction from the lower frame 2b.例文帳に追加
障子4を開放位置へ移動させるために、回動ハンドル51を一方向に回動させると、回動プレート57も一側に回動し、アシストローラー59が窓枠2の下枠2bに当接して、これを障子4の進行方向と反対方向へと押動し、障子4が下枠2bからの反力を受けて移動する。 - 特許庁
The gasket material is obtained by forming a rubber layer on one side or the both sides of a steal plate through a film comprising a reaction product of (A) a carbonate of Mg, Co, Zr, Mn, Ni or Cu, (B) water-dispersible silica and (C) an organic acid containing at least one of carboxy or hydroxy in a molecule and having 3-10 carbon number in a molecule.例文帳に追加
鋼板の片面または両面に、(A)Mg、Co、Zr、Mn、Ni、Cuの炭酸塩と、(B)水分散性シリカと、(C)1分子中にカルボキシル基及び水酸基の少なくとも1種を含み、1分子中の炭素数が3〜10の有機酸との反応生成物からなる皮膜を介してゴム層が形成してなることを特徴とするガスケット用素材。 - 特許庁
The calculation method of upper limit temperature is characterized by determining an activation energy of a main side reaction causing the deterioration of the battery, depending on the temperature of the lithium secondary battery at use and the lowering of capacity at the above temperature, and applying the charging/discharging temperature when an activation energy is changed as an upper limit temperature.例文帳に追加
リチウム二次電池の使用温度とその温度での容量低下から、電池劣化を引き起こす主要な副反応の活性化エネルギーを求め、当該活性化エネルギーが変化したときの充放電温度を充放電の上限温度とすることを特徴とする充放電上限温度の算出方法を採用する。 - 特許庁
For example, in joining an aluminum alloy material A which is an oxide film forming material to a steel material B, galvanization P for example is preliminarily applied to a joining face at least on the side of the aluminum alloy material A, and then the joining is performed, so that a reaction layer R is formed between the new surface of the aluminum alloy material A and of the steel material B.例文帳に追加
例えば、酸化皮膜形成材料であるアルミニウム合金材Aと、鋼材Bとを接合するに際して、少なくともアルミニウム合金材Aの側の接合面に、あらかじめ、例えば亜鉛めっきPを施した上で接合し、アルミニウム合金材Aと鋼材Bの新生面間に反応層Rを形成させる。 - 特許庁
A lower end part of a buffer 14 wherein a coil spring 12 and a damper 13 are approximately coaxially mounted, is pivoted on an end part of a connecting part 30 extended to a car body inner side of a wheel support 11 of a rear wheel 2, and its vertical reaction force generates the momental force Mn in the direction of a negative camber to the rear wheel 2.例文帳に追加
コイルバネ12及びダンパ13が略同軸に配置された緩衝装置14の下端部を、後車輪2のホイールサポート11の車体内方側に延出させた連結部30の端部に枢着して、その上下反力が後車輪2に対し負キャンバの向きのモーメント力Mnを発生させるようにする。 - 特許庁
If one surface 11A side of the structure 11 is made a region 12 with higher deuterium pressure by pressurization or electrolysis and the like and the other surface 11B side is made a region 13 with lower deuterium pressure by vacuum exhaust and the like, a flow 15 of deuterium is produced in the structure 11 and nuclear transformation is caused by the reaction of deuterium and the material 14 causing nuclear transformation.例文帳に追加
構造体11の一方の表面11A側が例えば加圧或いは電気分解等により重水素の圧力が高い領域12とされ、他方の表面11B側が例えば真空排気等により重水素の圧力が低い領域13とされることで構造体11内に重水素の流れ15が生成され、重水素と核種変換を施す物質14とが反応することによって核種変換が行われる。 - 特許庁
To provide a decomposition treatment method and a decomposition system for an organic halogen compound, which can easily detoxify an oil mixed with the organic halogen compound like an insulating oil used for a pole transformer without using a special decomposition treatment device in a short term, saves the trouble of removing a catalyst and unlikely to form side reaction products.例文帳に追加
柱上変圧器に使用された絶縁油など、有機ハロゲン化合物が混入した油を特別な分解処理装置を使用することなく簡易に短期間で無害化処理することができ、しかも、触媒を分離する手間が不要で、副反応生成物が生成する可能性の低い、有機ハロゲン化合物の分解処理方法及び分解システムを提供する。 - 特許庁
The method for producing 3-alkanoylindoles and 3-alkylindoles represented by formula I comprises: adding a side chain directly to the 3-position of an indole derivative as a raw material by a Friedel-Crafts reaction catalyzed by a Lewis acid metal halide; and further reducing by using a complex hydride by activation with the Lewis acid metal halide.例文帳に追加
下記一般式Iで表される3−アルカノイルインドール類および3−アルキルインドール類化合物を製造するため、原料のインドール誘導体の3位にルイス酸金属ハロゲン化物触媒によるフリーデルークラフト反応させて直接側鎖を付加させ、さらにルイス酸金属ハロゲン化物による活性化によって錯水素化物を使って還元させる方法。 - 特許庁
The method for producing the alcohol-soluble urethane resin is specified by that a linear urethane prepolymer in which each of the both molecular ends has an isocyanate group bonding to a carbon atom in an aliphatic hydrocarbon and the side chains have carboxyl groups, is reacted with a diamine by using an alcoholic solvent as a reaction solvent, neutralizing the carboxyl groups in the linear urethane prepolymer with bases.例文帳に追加
反応溶媒としてアルコール系溶媒を使用して、両末端に脂肪族炭化水素の炭素に結合したイソシアネート基を有し、さらに分子側鎖にカルボキシル基を有する線状ウレタンプレポリマーと、ジアミンとの反応であって、該線状ウレタンプレポリマー中のカルボキシル基を塩基で中和したものであるアルコール可溶性ウレタン樹脂の製造方法。 - 特許庁
To obtain a homopolymer with controlled molecular weight and molecular weight distribution using a carbazole-containing styrene solid monomer and by reducing a reaction temperature to control side reactions a copolymer with controlled molecular weight and molecular weight distribution which is obtained by the block polymerization of a carbazole-containing styrene derivative and various monomers, and to provide its synthetic method.例文帳に追加
反応温度を低めて副反応を抑制し、カルバゾールを含むスチレン固体単量体を用いて分子量と分子量分布とが制御された単独重合体、カルバゾールを含むスチレン誘導体と様々な単量体とのブロック重合による分子量と分子量分布とが制御された共重合体及びその合成方法。 - 特許庁
In the metal barrier rib for the plasma display formed of a metal substrate with a large number of through holes, an insulating layer-an Al layer-a reaction preventive layer is formed from the surface side.例文帳に追加
多数の貫通孔を有する金属基板を用いてなるプラズマディスプレイ用隔壁において、表面側から絶縁層—Al層—反応防止層が形成されているプラズマディスプレイ用金属隔壁であり、好ましくは、絶縁層が、Al_2O_3、SiO_2、ZrO__2、MgO、TiO_2、ガラスのうちの少なくとも一種を主体とし、更に好ましくは絶縁層の厚みが、0.5〜10.0μmであるプラズマディスプレイ用金属隔壁である。 - 特許庁
The UV-curable urethane-containing polymer is obtained by reacting a diisocyanate compound with a reaction product of an OH-containing unsaturated compound with an epoxy compound having a liquid crystal group, and preferably has formula (1) (wherein, R is independently H or CH_3; X is independently a linking group having at least one LC side chain; and Y is a linking group).例文帳に追加
OH含有不飽和化合物と液晶基を有するエポキシ化合物との反応物にジイソシアネート化合物を反応させて得られるUV硬化性ウレタン含有ポリマー、好ましくは、式を持ち、[ここで、Rは、独立にHまたはCH_3であり、Xは、独立に、少なくとも1のLC側鎖を含有する連結基であり、Yは、連結基である。 - 特許庁
A polyester film for a substrate-less double-sided adhesive sheet is a releasing film having, on one side, a release layer disposed by applying a coating agent containing a solventless addition reaction-curing type silicone, wherein the tape peeling force of the release layer is ≤15 mN/cm and an adhesion ratio for evaluating the migration of a silicone-based component is ≥90%.例文帳に追加
無溶剤系付加反応硬化型シリコーンを含有する塗布剤を塗布して設けられた離型層を片面に有する離型フィルムであり、当該離型層のテープ剥離力が15mN/cm以下であり、かつ、シリコーン系成分の移行性評価接着率が90%以上であることを特徴とする基材レス両面粘着シート用ポリエステルフィルム。 - 特許庁
To provide an antiinflammatory agent which can suppress inflammatory reaction by various inflammatory mediators produced by inflammatory cells and infiltration of the inflammatory cells in inflammation parts, has no side effect, and has excellent antiinflammatory activity, and to provide a medicinal composition containing the antiinflammatory agent and effective in prevention or treatment of local inflammation.例文帳に追加
炎症性細胞が産生する種々の炎症性メディエーターによる炎症反応や、炎症局所における前記炎症性細胞の浸潤を抑制することができ、副作用がなく、優れた抗炎症活性を有する抗炎症剤、前記抗炎症剤を含有し、局所炎症の予防乃至治療に有効な薬用組成物の提供。 - 特許庁
The heat-resistant solvent-free transparent curable fluororesin composition comprises an unsaturated group-containing fluoropolymer (I), obtained by an esterification reaction of a hydroxy group-containing fluoropolymer containing a hydroxy group-containing structural unit (1) having an ether-type side chain with (b) an unsaturated carboxylic acid or an acid halide thereof, dissolved in an acrylic monomer (II).例文帳に追加
エーテル型側鎖を有する水酸基含有構造単位(1)を含む水酸基含有含フッ素重合体と、(b)不飽和カルボン酸またはその酸ハライドとをエステル化反応に供して得られる不飽和基含有含フッ素重合体(I)が、アクリル系単量体(II)に溶解している耐熱性透明無溶剤型硬化性含フッ素樹脂組成物。 - 特許庁
A lower electrode 3 is arranged on a semiconductor substrate and the resistance change element 4 which changes in resistance is arranged on the lower electrode 3; and an upper electrode 5 is arranged on the resistance change element 4, and the reaction product 8 produced when the resistance change layer 4 is dry-etched sticks on the side wall surfaces of the resistance change layer 4 and the upper electrode 5.例文帳に追加
半導体基板上に下部電極3が配設され、下部電極3上に抵抗が変化する抵抗変化素子4が配設され、抵抗変化素子4上に上部電極5が配設され、抵抗変化層4と上部電極5の側壁面には、抵抗変化層4のドライエッチング時に発生した反応生成物8が付着している。 - 特許庁
To provide an image forming device preventing a carrier liquid from dropping from an end part of a member to be cleaned when cleaning the member to be cleaned having the carrier liquid adhered to it and preventing the occurrence of unstable driving due to the adhesion of the carrier liquid to a driving roller or the like securely by a simple configuration capable of preventing the occurrence of side reaction.例文帳に追加
キャリヤ液が付着した被クリーニング部材のクリーニングにおいて、被クリーニング部材の端部からキャリヤ液が落下したり、キャリヤ液が駆動ローラ等に付着して駆動が不安定になったりするのを、簡単な構成で確実に防ぐことができ、なおかつ副作用がないような構成を備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁
意味 | 例文 (999件) |
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