「defect inspection device」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a quality inspection method and device for a micro surface defect in a magnetic metal zone, capable of detecting automatically such the micro surface defect as usually difficult to be visually confirmed and detectable by grinding inspection using a grinding stone, in an objective specimen having a coarse surface roughness.例文帳に追加

表面粗さの粗い被検査対象物において通常視認が困難で砥石がけ検査により検出しているような微小表面欠陥を自動検出することができる磁性金属帯の微小表面欠陥の品質検査方法及び装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a technology for detecting a minute concavo-convex defect (phase defect) of only several nm with high sensitivity in a mask blank inspection method that uses DUV light that allows usage of an inspection optical system which has high degree of completion as a mass production device and uses a lens in the atmospheric air.例文帳に追加

量産装置としての完成度が高く、かつ、大気中でのレンズを使用した検査光学系を使用できるＤＵＶ光を使用したマスクブランクの検査方法において、わずか数ｎｍの微細な凹凸欠陥（位相欠陥）を高感度に検出できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device before crimping a wire and a defect inspection method before crimping a wire capable of correctly individually determining presence of respective defects of a crimp blade die, a crimp terminal, a wire core part and a wire covering part before crimping the wire at low cost.例文帳に追加

低コストで、電線の圧着前に圧着刃型、圧着端子、電線芯線部、および電線被覆部のそれぞれの不具合の有無を個別に正確に判断することができる、電線圧着前の不具合検査装置および電線圧着前の不具合検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a visual inspection device and a visual inspection method capable of defect detection even in a domain other than a repeated pattern domain without generating a reference image, when detecting a defect appearing in the appearance of a substrate on whose surface an electric pattern is to be formed or has been formed.例文帳に追加

表面に電気的パターンが形成される、又は形成された基板の外観に現れる欠陥を検出する際に、基準画像を生成することなく、繰り返しパターン領域以外の領域においても欠陥検出が可能な外観検査装置及び外観検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophoretic front plate inspection device and its inspection method that display an abnormal response defect, wherein driving speed is different from the surroundings more clearly, imaging the display, and accurately extracting the abnormal response defect included as local unevenness in the imaged image.例文帳に追加

周囲と駆動速度の異なる応答異常欠陥をよりはっきり表示させ、その表示を撮像し、撮像画像内において局所的なムラとして含まれる応答異常欠陥を高精度に抽出するための電気泳動型前面板検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

An endoscope device 3 includes a feature detection part for detecting a first feature part of an inspection object from an image based on a first condition, a defect detection part for detecting a first defect part of the inspection object based on the first feature part, and a display part for displaying information indicating the first defect part with an image thereof.例文帳に追加

内視鏡装置３は、第１の条件に基づいて、画像から検査対象物の第１の特徴部を検出する特徴検出部と、第１の特徴部に基づいて、検査対象物の第１の欠陥部を検出する欠陥検出部と、第１の欠陥部を示す情報を、画像と共に表示する表示部とを有する。 - 特許庁

By making the characteristic of the color filter 83 consistent with the optical system of the actual device, inspection of the defect of the panel conforming with the actual device is carried out with the picture on the screen 85.例文帳に追加

カラーフィルタ８３の特性を実機の光学系に一致させることによって、スクリーン８５上の画像によって実機に即したパネル欠陥検査を実施することができる。 - 特許庁

To provide an edge part inspection device capable of downsizing and simplifying the device and hardly erroneously detecting a quality change in material of the objective body to be measured as a defect.例文帳に追加

端部検査装置の小型化および簡略化が可能であり、かつ被測定物の端部の材質の変化が欠陥として誤検出されにくい端部検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method wherein defect causes in an electronic device are easily checked and identified by non-destruction, and to provide a method of manufacturing the electronic device that employs the same.例文帳に追加

非破壊で電子デバイスの欠陥原因を簡単に調査し特定することが可能な検査方法及びかかる検査方法を用いた電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

This inspection device 10 is equipped with a light irradiation device 16 for irradiating a film 12 with each light L1, L2, and forming regularly reflected light; and a sensor 18 for detecting a defect.例文帳に追加

検査装置１０は、フィルム１２に光Ｌ１、Ｌ２を照射して正反射光を形成させる光照射装置１６と、欠陥を検出するためのセンサ１８とを備える。 - 特許庁

To provide a surface defect inspection device having the most simple and rational constitutions of an irradiation system and an imaging system, and capable of conducting highly reliable inspection, in the surface defect inspection device provided with the irradiation system comprising a plurality of light emitting elements arranged with a prescribed lay-out pattern, and an imaging camera for imaging an inspected face receiving irradiation light emitted from the irradiation system.例文帳に追加

所定のレイアウトパターンで配置された複数の発光素子からなる照射系と、その照射系から照明される照射光を受けた被検査面を撮像する撮像カメラとを備える表面欠陥検査装置において、照射系と撮像系との構成が最も合理的かつシンプルであり、信頼性の高い検査を行うことが可能なものを得る。 - 特許庁

To provide a device and a method for shape inspection which can surely detect a dimensional insufficiency and can determine it as a defect when the shape and dimensions of an inspection object are smaller even by a little than prescribed ones.例文帳に追加

被検査体が所定の形状および寸法よりもわずかでも小さい場合には寸法不足を確実に検出して欠陥であると判定できる形状検査装置および形状検査方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an inspection device capable of performing more accurately defect inspection in the periphery of the end of a substrate, by performing irradiation with illumination light from a direction in which an effect of scattered light from a circuit pattern is suppressed.例文帳に追加

回路パターンからの散乱光の影響を抑えた方向から照明光の照射を行うことで、基板の端部近傍の欠陥検査をより正確に行うことができる検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device and a method thereof for highly accurately distinguishing noise or nuisance defects from real defects by unifying inspection results different from each other in lighting conditions or detection conditions.例文帳に追加

照明条件、もしくは検出条件の異なる検査結果を統合することで、ノイズやNuisance欠陥と真の欠陥を高精度に判別することができる欠陥検査装置及びその方法を提供することにある。 - 特許庁

Of the pattern inspection device 1, a comparing inspection part 10 generates a defect candidate area D in an inspected image S by comparing the inspected image S with a reference image R.例文帳に追加

パターン検査装置１において、比較検査部１０は、被検査画像Ｓと参照画像Ｒとを比較して被検査画像Ｓにおける欠陥候補領域Ｄを特定する２値化された欠陥候補画像Ｑを生成する。 - 特許庁

To provide an inspection method and an inspection device for inspecting quickly a defect such as a cavity, a flaw and a stain, even when a machining oil or a cleaning liquid is deposited on an inner face of an inspected cylindrical object such as an engine cylinder.例文帳に追加

エンジンシリンダなどの被検査円筒物体の内面に加工油や洗浄液が付着していたりしても、高速で、鋳巣、傷、汚れ等の欠陥を検査できるようにした欠陥検査装置及びその方法。 - 特許庁

To provide a printing quality inspection device which performs an inspection of the printing quality state of a sheet on which printing has been applied, eliminates defective sheets, and at the same time, can print the defect information in a margin region of the defective sheet.例文帳に追加

印刷が成されたシートの印刷品質状態の検査を行い、不良シートを排除するとともに、不良シートの余白領域に欠点情報を印字することができる印刷品質検査装置を得る。 - 特許庁

To provide an ultrasonic inspection device capable of measuring stable and highly-accurate defect reflecting echo, by removing an influence of a temperature change of an inspection object and measuring water by performing temperature compensation of a sound pressure round-trip transmission rate.例文帳に追加

音圧往復通過率の温度補償を行い被検査物と測定水の温度変化の影響を排し、安定したかつ精度の高い欠陥反射エコーの測定を実現できる超音波検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method of a tire irregularity pattern and an inspection device of the tire irregularity pattern capable of determining a defect of a three-dimensional shape of the pattern with high reliability without depending on a brightness distribution image of irregularities.例文帳に追加

凹凸の輝度分布画像によることなく、高い信頼性をもって、図形の三次元形状の欠陥を判定することのできるタイヤ凹凸図形の検査方法、および、タイヤ凹凸図形検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a surface inspection method and a surface inspection device capable of detecting accurately the position of a defect on a surface to be inspected, without increasing the time required for inspecting the surface to be detected of a specimen.例文帳に追加

被検体の被検面を検査することに要する時間の増大を招くことなく、被検面における欠陥の位置を正確に検知することができる表面検査方法および表面検査装置を提供する。 - 特許庁

A surface defect is detected by a surface defect detector 14 and tracked by a controller 19, when a defect reaches the position of a marking device 15, marking is done to the thin steel sheet 1, an operator on an inspection base 13 is informed by a setting display board 25.例文帳に追加

表面欠陥検出器１４により表面欠陥を検出し、制御装置１９によりトラッキングし、欠陥がマーキング装置１５の位置に到達したとき、薄鋼板１にマーキングを施すと共に、設定表示盤２５により検査台１３上のオペレータに知らせる。 - 特許庁

To reduce the generation of a pseudo-defect when a lightness difference exists between two compared images, in an image defect inspection device and a method for detecting a difference between fellow picture elements corresponding to the two images to detect a picture element portion as a defect when the difference exceeds a detection threshold.例文帳に追加

２画像の対応する各画素同士の画素値の差分を検出して、この差分が検出閾値を超えるとき画素部分を欠陥として検出する画像欠陥検査装置及び方法において、比較する２画像に明度差がある場合の疑似欠陥の発生を低減する。 - 特許庁

According to algorithm for discriminating the kind of defect on a wafer, if the size of defect measured with a wafer inspection device containing a plurality of dark field part detectors is smaller than a limit value indicating the maximum size of COPs, the kind of defect is decided as being not particles.例文帳に追加

ウェーハ上の欠陥の種類を判別するためのアルゴリズムによれば、複数の暗視野部検出器を含むウェーハ検査装置によって測定されたウェーハ上の欠陥のサイズがＣＯＰの最大サイズを表わす限界値よりも小さければ前記欠陥の種類がパーチクルでないと判定する。 - 特許庁

To provide an apparatus for marking a defect, which can detect the defect in a long sheet product transferred to the longitudinal direction by using an inspection device, and can place a mark at the detected defect position by using an oil-based marking pen, without causing a decrease in the marking property due to drying of the tip of the pen.例文帳に追加

長さ方向に搬送される長尺のシート状製品の欠陥を検査装置により検出し、ペン先の乾燥によるマーキング性の低下を招くことなく、検出された欠陥部分に油性マーキングペンを用いてマーキングを施すことができる欠陥マーキング装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device for a thin film transistor substrate capable of inspecting the presence of a defect in the thin film transistor substrate, allowing accurate inspection even under a low vacuum condition, capable of coping properly with a change in a size of the thin film transistor substrate, and capable of shortening an inspection time.例文帳に追加

薄膜トランジスター基板の欠陥の有無を検査し、低真空状態でも正確な検査が可能で、薄膜トランジスター基板のサイズの変化に適切に対応することができ、検査時間を短縮させる薄膜トランジスター基板の検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a visual inspection device capable of detecting sufficiently an appearance defect by widening the setting width of an irradiation condition of light irradiated to an inspection object, and having a wide tolerance of the shape, the size and the material of the inspection object and a high utility value.例文帳に追加

被検査物に対して照射する光の照射条件の設定幅を広げることにより、外観不良を十分に検出することができる被検査物の形状，サイズ，材質の許容範囲を広げ、利用価値の高い外観検査装置を提供する。 - 特許庁

An analyte image inspection device 20 is provided nearby an outer peripheral part of an inspection rotor 10, and captures an appearance image of an analyte moving while held by a holding part of the inspection rotor 10 to inspect whether the analyte has a defect based upon the appearance image.例文帳に追加

被検体画像検査装置２０は、検査ロータ１０の外周部近傍に設けられ、検査ロータ１０の保持部に保持されて移動する被検体の外観画像を取得して、その外観画像に基づきその被検体における不良の有無を検査する。 - 特許庁

To provide an appearance inspection device for color filters automatically determining, at high speed, whether a detected defect is present only in a single colored part or over a plurality of colored parts in an appearance inspection of a color filter, and an appearance inspection method.例文帳に追加

カラーフィルタの外観検査において、検出された欠陥が単一の着色部にのみ存在しているのか、複数の着色部に跨って存在しているのかを高速に自動判別するカラーフィルタ外観検査装置および外観検査方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a visual inspection device and a visual inspection method, capable of confirming the propriety of a production process of forming a pattern appearing on the surface of a semiconductor wafer or the like, at the same time as with the visual inspection of a defect appearing on a wafer surface.例文帳に追加

半導体ウエハなどの表面に現れるパターンを形成した製造プロセスが適切であるか否かを、このウエハ表面に現れる欠陥の外観検査と同時に確認することが可能な外観検査装置及び外観検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for inspecting a defect, capable of recalculation by collecting image data for a product currently on a production line even during a continuous inspection, without giving influence to an inspection tact and without stopping the line, and capable of evaluating ability of an inspection machine itself.例文帳に追加

連続検査中においても、その検査タクトに何も影響を与えること無く、またラインを止まることなく、現在流れている製品の画像データを集収し、再計算することができ、検査機自身の能力を評価することを目的とする。 - 特許庁

This device of the present invention is an improved pixel inspection device wherein a desired inspection pattern is displayed on the display equipment to be inspected, wherein light from the pixel of the display equipment is detected by a plurality of photoreceiving elements, and wherein the defect of the pixel of the display equipment is inspected.例文帳に追加

本発明は、被検査表示機器に所望の検査パターンを表示させ、表示機器の画素からの光を複数の受光素子で検出し、表示機器の画素の欠陥を検査する画素検査装置に改良を加えたものである。 - 特許庁

To provide an inspection device for a photomask capable of carrying out preferable performance evaluation and defect inspection of a large photomask while suppressing the increase in an installing area of the device, and capable of ensuring safeness and handling property for a large photomask.例文帳に追加

装置の設置面積の増大を抑えつつ、大型のフォトマスクの性能評価及び欠陥検査を良好に行うことができ、また、大型のフォトマスクに対する安全性やハンドリング性が確保されたフォトマスクの検査装置を提供する。 - 特許庁

An inspection device 1 gets a reference image obtained by picking up an image of a model having no defect prior to inspection, executes extension processing and reduction processing and stores obtained extended and reduced images in an image memory 3 built in the device 1.例文帳に追加

検査装置１は、検査に先立ち、欠陥のないモデルを撮像して得られた基準画像を取り込み、膨張処理および収縮処理を行い、得られた膨張画像および収縮画像を装置内の画像メモリ３内に保存する。 - 特許庁

In the surface defect data display management device 3, a risk level calculation part 33 calculates an influence degree of a defect upon yield of the final product on the basis of a defect size of the wafer detected by an appearance inspection device 12 and a review device 10 and a pattern density obtained from design data of a pattern figure corresponding to neighbors of the position of the defect.例文帳に追加

表面欠陥データ表示管理装置３において、危険率算出部３３は、外観検査装置１２やレビュー装置１０によって検出されたウェーハの欠陥サイズと、その欠陥の位置の近傍に対応するパターン図の設計データから得られるパターン密度とに基づき、その欠陥が最終製品の歩留まりに影響を及ぼす影響度を表面欠陥の危険率として算出する。 - 特許庁

To provide a highly reliable defect inspection device detecting defects without omission by forming, in a clear contrast image, an image of a rugged defect with small curvature changes formed on a transparent body sheet-like material surface.例文帳に追加

透明体シート状物表面に発生した曲率変化の小さな凹凸状欠陥を、最も鮮明な明暗像になる状態で結像させることにより、欠陥を漏れなく検出し、信頼性の高い欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

This surface defect inspection device is equipped with an imaging part 2 for imaging a surface 1a of an inspected object 1 and a processing part 4 for detecting a defect in the surface 1a of the inspected object 1, based on an image acquired by the imaging part 2.例文帳に追加

表面欠陥検査装置は、被検査物１の表面１ａを撮像する撮像部２と、撮像部２により得られた画像に基づいて被検査物１の表面１ａの欠陥を検出する処理部４と、を備える。 - 特許庁

To provide an inspection device having high detection precision, capable of preventing the influence of a formation spot of a test body, and detecting a defect even if the defect having very little difference in reflectance between itself and the test body exists.例文帳に追加

被検査体の地合い斑の影響を防止するとともに、被検査体と反射率の差がほとんどない欠陥が存在するような場合にも、このような欠陥を検出可能な検出精度の高い検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an automatic inspection device for display panel which automatically inspects testing items such as point defect or line defect, while achieving an enhancement of precision in detection and judgment of display unevenness without requiring any difficult display unevenness detection/determination processing.例文帳に追加

自動的に点欠陥や線欠陥などの検査項目を検査するとともに、困難な表示ムラ検出・判定処理を必要とせずに表示ムラの検出・判定の精度を向上可能なディスプレイパネル自動検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positioning method of a color filter substrate for positioning a color filter substrate in a short time with good accuracy when a defect of the color filter substrate inspected by a defect inspection device is corrected by a color filter correction system.例文帳に追加

欠陥検査装置で検査されたカラーフィルタ基板の欠陥をカラーフィルタ修正装置にて修正する際、カラーフィルタ基板を精度良く、短時間に位置決めするためのカラーフィルタ基板の位置決め方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To practically use a surface defect inspection device by robot grasping, by reducing rotation deflection in an open end when inspecting a defect while rotated under the condition where one side of an inspected object is grasped and where the other side is opened.例文帳に追加

被検査物の一方を把持し、他方を開放した状態で回転させながら欠陥検査を行う上で、開放端側の回転振れを小さくし、ロボット把持による表面欠陥検査装置を実用化できるようにする。 - 特許庁

To provide a defect inspection device and method for a film, capable of inspecting simply and easily an optical defect in the film to be inspected formed with an optical compensation layer having a double refraction characteristic, in a production line or the like.例文帳に追加

製造ライン等において、複屈折特性を有する光学補償層が形成された被検査フィルムの光学的欠陥検査を簡易かつ容易に行うことができるフィルムの欠陥検査装置よおび方法を提供する。 - 特許庁

In a defect inspection device 10, light-receiving directions of optical receivers 22, 24 are set at a light-receiving angle θ_1 (0°<θ_1≤60°, preferably 30°≤θ_1≤45°) having high light-receiving sensitivity to a minute defect which is present on a lower surface of a glass substrate G.例文帳に追加

欠陥検査装置１０は、ガラス基板Ｇの下面に存在している微細傷に強い受光感度を有する受光角度θ_１（０°＜θ１≦６０°、好ましくは３０°≦θ_１≦４５°）に、受光器２２、２４の受光方向を設定した。 - 特許庁

The final defect marking apparatus comprises a defect mark detecting device of detecting a defect mark of the film carrier tape for mounting electronic components with defect marks at predetermined points in various inspection steps in advance, and a plurality of marking devices of providing the final marking to detected defective portions of the film carrier tape for mounting the electronic components.例文帳に追加

予め前行程である種々の検査工程で所定箇所に不良マークが付された電子部品実装用フィルムキャリアテープの不良マークを検出する不良マーク検出装置と、不良マーク検出装置の検出結果に基づいて、検出された電子部品実装用フィルムキャリアテープの不良部分に最終マーキングを付する複数のマーキング装置を備える。 - 特許庁

To provide an inspecting device and an inspecting method that remove a fine defect desirous of being ignored which originates from an OPC pattern of a scattering bar etc., in defect inspection of a mask with a pattern, and a manufacturing method for a pattern substrate using the inspecting device and inspecting method.例文帳に追加

パターン付きマスクの欠陥検査において、スキャッタリングバーなどのＯＰＣパターンに由来する微小な無視したい欠陥を除去する検査装置及び検査方法とその検査装置及び検査方法を用いたパターン基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A defect marking device is equipped with an inspection machine 21 which detects defects that a long filmy product 1 has, block by block, a laser marker device 22 which prints marks corresponding to the defects detected by the inspection machine 21, and a control unit 23 which controls the laser marker device 22.例文帳に追加

欠陥マーキング装置は、長尺フィルム状製品１に存在する欠陥をブロック毎に検出する検査機２１と、検査機２１によって検出された欠陥に対応してマークを印字するレーザマーカ装置２２と、このレーザマーカ装置２２を制御する制御部２３とを備える。 - 特許庁