例文 (999件) |
diffusion-typeの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1877件
A resistor 2 formed of a p-type diffusion layer is formed on an n-type silicon substrate 1.例文帳に追加
n型のシリコン基板1上に、p型拡散層から成る抵抗体2が形成されている。 - 特許庁
An n-type diffusion layer forming composition 11 is applied to a silicon substrate 10 and is subjected to heat diffusion treatment, whereby a solar cell element including an n-type diffusion layer 12 is produced.例文帳に追加
シリコン基板10にこのn型拡散層形成組成物11を塗布し熱拡散処理を施すことで、n型拡散層12を有する太陽電池素子が製造される。 - 特許庁
A P-type diffusion layer 32 as a channel region is formed to the substrate on the source side of the gate electrode 30, and a source diffusion layer 34 is formed on the substrate in the P-type diffusion layer 32.例文帳に追加
ゲート電極30のソース側の基板にはチャネル領域となるP型拡散層32が形成され、P型拡散層32内の基板にはソース拡散層34が形成されている。 - 特許庁
An n^+ diffusion layer 30 is formed over the entire surface of an n type epitaxial layer 2 and a p^+ diffusion layer 40 is formed on the surface of the n^+ diffusion layer 30 while surrounded with the n^+ diffusion layer 30.例文帳に追加
n型エピタキシャル層2の全面にn^+拡散層30を形成し、n^+拡散層30の表面にn^+拡散層30に囲まれるようにp^+拡散層40を形成する。 - 特許庁
In the P-type well 23, a second N-type impurity diffusion layer 42 is formed so as to protrude from the N^+-type source layer 26 to the first N-type impurity diffusion layer 41 side, while overlapping the N^+-type source layer 26.例文帳に追加
P型ウエル23内には、N^+型ソース層26と重なり、かつN^+型ソース層26から第1N型不純物拡散層41側にはみ出すように、第2N型不純物拡散層42が形成されている。 - 特許庁
An N-type diffusion layer 9 and a P-type diffusion layer 11 are formed away from the N-type well 3 and having a space between each other on the P-type semiconductor substrate 1 at a position surrounded by the N-type well 3.例文帳に追加
N型拡散層3で囲まれた位置のP型半導体基板1に、N型拡散層3とは間隔をもって、かつ互いに間隔をもって、N型拡散層9及びP型拡散層11が形成されている。 - 特許庁
Low density p-type well diffusion layers (12B, 12C, for examples) are arranged so as to fill spaces between respective diffusion layers.例文帳に追加
各拡散層の間を埋めるように低濃度のP型ウェル拡散層(例えば12B,12C)を配置する。 - 特許庁
The P-type second low-concentration diffusion region 9 is as deep as the low-concentration diffusion regions 7 and 11.例文帳に追加
P型第2低濃度拡散領域9の深さは、低濃度拡散領域7,11の深さと同じである。 - 特許庁
Accordingly, impurities are segregated on the surface of the P^+ type diffusion layer 4.例文帳に追加
これにより、P^+型拡散層4の表面に不純物が偏析する。 - 特許庁
In the epitaxial layer 4, p-type diffusion layers 31, 32 for base regions, n-type diffusion layers 27, 28, 29, 30 for collector regions and an n-type diffusion layers 35 for an emitter region are formed.例文帳に追加
エピタキシャル層4には、ベース領域としてのP型の拡散層31、32と、コレクタ領域としてのN型の拡散層27、28、29、30と、エミッタ領域としてのN型の拡散層35が形成されている。 - 特許庁
WHITE DIFFUSION PLATE AND REFLECTION TYPE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
白色拡散板及びそれを用いた反射型液晶表示装置 - 特許庁
DIFFUSION PLATE USED IN DIRECT TYPE BACKLIGHT MODULE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
直下型バックライトモジュールに用いる拡散板及びその製造方法 - 特許庁
A gate electrode 9 is arranged to cover the P-type diffusion layer 5 in the region where the N-type diffusion layers 6 and 7 face each other.例文帳に追加
そして、ゲート電極9は、N型の拡散層6、7が対向する領域のP型の拡散層5上を被覆するように配置されている。 - 特許庁
ROTARY FAN TYPE AGENT DIFFUSING FAN USEUFL FOR DIFFUSION OF PEST CONTROL AGENT例文帳に追加
害虫駆除剤の拡散に用いるロータリーファン型薬剤拡散ファン - 特許庁
A contact to the n-type diffusion region is formed in the insulation layer.例文帳に追加
絶縁層に、n型拡散領域に到達するコンタクトを形成する。 - 特許庁
The current diffusion layer has a first conductivity type impurity density.例文帳に追加
電流拡散層は、第1の導電形の不純物濃度を有する。 - 特許庁
The n-type diffusion layer 107, together with the n-type diffusion layer 106, functions as a signal charge accumulating layer in the pixels of Red.例文帳に追加
n型拡散層107はn型拡散層106と一体となってRedの画素における信号電荷蓄積層として機能する。 - 特許庁
The second impurity concentration that the p type diffusion area 21 has is lower than the first impurity concentration that the p+ type diffusion region 5 has.例文帳に追加
p型拡散領域21の有する第2の不純物濃度は、p+型拡散領域5の有する第1の不純物濃度よりも低い。 - 特許庁
PARTICLE DIFFUSION TYPE MIXEDLY FUNCTIONAL FLUID AND MACHINING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
粒子分散型混合機能性流体及びそれを用いた加工法 - 特許庁
OPPOSED REFLECTION DIFFUSION TYPE HIGH OUTPUT LED INTERNAL ILLUMINATION SYSTEM ROAD SIGN例文帳に追加
対面反射拡散型高出力LED内照式道路標識 - 特許庁
N-type extension high- concentration impurity diffusion layers 15 possessed of a shallow junction and N-type high-concentration impurity diffusion layers 14 possessed of a deep junction are each formed on both sides of the P-type impurity diffusion layer 13.例文帳に追加
p型の不純物拡散層13の両側には、浅い接合を持つn型のエクステンション高濃度不純物拡散層15及び深い接合を持つn型の高濃度不純物拡散層14が形成されている。 - 特許庁
DIFFUSION OPTICAL SHEET, TRANSMISSION TYPE SCREEN, AND BACK PROJECTION DISPLAY DEVICE例文帳に追加
拡散光学シート、透過型スクリーン及び背面投射型表示装置 - 特許庁
ION-EXCHANGE MEMBRANE ELECTROLYTIC CELL USING LIQUID PERMEATION TYPE GAS DIFFUSION CATHODE例文帳に追加
液透過型ガス拡散陰極を使用するイオン交換膜電解槽 - 特許庁
OPERATION METHOD FOR SAVING POWER IN REVERSE DIFFUSION TYPE HELIUM LEAK DETECTOR例文帳に追加
逆拡散式ヘリウムリークディテクタの省電力化のための運転方法 - 特許庁
A Zener diode by breakdown voltage of the laser diode 11 is composed of the p-type diffusion layer 9 and the n-type diffusion layer 10.例文帳に追加
このp型拡散層9およびn型拡散層10により、レーザダイオード11のブレークダウン電圧によるツェナーダイオードを構成している。 - 特許庁
To provide a composition for forming an n-type diffusion layer which can form an n-type diffusion layer while suppressing occurrence of striation, and to provide a method for manufacturing an n-type diffusion layer and a method for manufacturing a solar cell.例文帳に追加
ストリエーションの発生を抑制しながら、n型拡散層を形成することが可能なn型拡散層形成組成物、n型拡散層の製造方法、及び太陽電池セルの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a composition for forming a p-type diffusion layer which can form a p-type diffusion layer while suppressing occurrence of striation, and to provide a method for manufacturing a p-type diffusion layer and a method for manufacturing a solar cell.例文帳に追加
ストリエーションの発生を抑制しながら、p型拡散層を形成することが可能なp型拡散層形成組成物、p型拡散層の製造方法、及び太陽電池セルの製造方法を提供する。 - 特許庁
The optical diffusion sheet 16 is used for an edge light type backlight device.例文帳に追加
光拡散シート16は、エッジライト型のバックライト装置に用いられる。 - 特許庁
An N+-type diffusion region 9 is formed around a P-type isolation layer 8 which is formed on an N-type epitaxial layer 4.例文帳に追加
N型エピタキシャル層4に形成されたP型アイソレーション層8の周囲にN+型拡散領域9を形成する。 - 特許庁
A photo-diode array 1 is provided with P+ diffusion layers 3 and 4 as second conductivity type diffusion layers, N+ channel stop layers 6 and 7, and an N+ diffusion layer 8 or the like.例文帳に追加
フォトダイオードアレイ1は、第2導電型の拡散層としてのP^+拡散層3,4、N^+チャンネルストップ層6,7、N^+拡散層8等を含んでいる。 - 特許庁
Within the p^- diffusion region 5, a plurality of p diffusion regions 20 containing p-type impurities are formed, which have high concentration as compared with the p^- diffusion region 5.例文帳に追加
p^-拡散領域5内には、このp^-拡散領域5よりも高濃度のp型の不純物を含むp拡散領域20が複数個形成される。 - 特許庁
The rear projection type screen 10 is provided with a horizontal diffusion sheet 13 and a vertical diffusion sheet 12 arranged adjacently to the horizontal diffusion sheet 13.例文帳に追加
背面投影型スクリーン10は、水平拡散シート13と、水平拡散シート13に隣接して配置された垂直拡散シート12とを備えている。 - 特許庁
A p-type impurity diffusion region 12 of high concentration which becomes an anode and an n-type impurity diffusion region 13 of high concentration which becomes a cathode enclosing the p-type impurity diffusion region 12 are formed on the surface of an n-type silicon well region 11.例文帳に追加
N型シリコンウエル領域11の表面に、アノードとなる高濃度のP型不純物拡散領域12と、このP型不純物拡散領域12を囲んでカソードとなる高濃度のN型不純物拡散領域13を形成する。 - 特許庁
A p-type well layer 4, an n-type buffer layer 7 and an n-type diffusion layer 20 are formed by impurity diffusion on the surface of the n-type active layer 3 between a source electrode 9 and a drain electrode 11.例文帳に追加
ソース電極9及びドレイン電極11間で、n^- 型活性層3の表面には、p型ウエル層4、n型バッファ層7、及びn型拡散層20が不純物拡散により形成される。 - 特許庁
An N-type region 60 is arranged in the P-type well 52 to reach the N-type layer 51 beneath the P-type diffusion region 38.例文帳に追加
N型領域60が、P型拡散領域38の下方においてN型層51に到達するように、P型ウエル52中に配置される。 - 特許庁
A silicon oxide film 19 is formed on the upper surface of an N type diffusion layer 12 (outside of the V shaped diffusion layer 12) between a P type diffusion layer 13 and an N type drain diffusion layer 17 on the N type diffusion layer 12, and the outer periphery of the silicon oxide film has tilted angles not smaller than 3 degrees and not larger than 30 degrees.例文帳に追加
N型拡散層12の表面におけるP型拡散層13とN型ドレイン拡散層17との間に形成されるシリコン酸化膜19を、N型拡散層12の表面に対して上側(V型拡散層12の外側)に形成し、然も外周部における傾斜面の傾斜角を3°よりも大きく且つ30°よりも小さく形成している。 - 特許庁
The P-type second low-concentration diffusion region 9 is formed by implanting N-type impurity ions for forming the N-type low-concentration diffusion region 11 and P-type impurity ions for forming the P-type low-concentration diffusion region 7 repeatedly into a semiconductor substrate, and thermally diffusing them.例文帳に追加
P型第2低濃度拡散領域9は、N型低濃度拡散領域11を形成するためのN型不純物イオンとP型低濃度拡散領域7を形成するためのP型不純物イオンが半導体基板に重複して注入され、かつ熱拡散されて形成されたものである。 - 特許庁
Since the channel length of the transistor depends on the length of the P type channel diffusion layer 15 under the gate electrode 13, that is, the diffusion depth of the P type channel diffusion layer 15 and the diffusion depth of the P type channel diffusion layer 15 has excellent controllability, the manufacturing method can stably manufacture the MOS transistor according to the fine rule technique.例文帳に追加
トランジスタのチャネル長は、ゲート電極13下のP型チャネル拡散層15の長さ、すなわちP型チャネル拡散層15の拡散深さにより決定され、P型チャネル拡散層15の拡散深さは制御性がよいので、微細ルールのMOSトランジスタを安定的に作ることができる。 - 特許庁
LIGHT DIFFUSION PLATE, PLANAR LIGHT SOURCE APPARATUS, AND TRANSMISSION TYPE IMAGE DISPLAY APPARATUS例文帳に追加
光拡散板及び面光源装置並びに透過型画像表示装置 - 特許庁
GAS DIFFUSION ELECTRODE FOR SOLID POLYMER TYPE FUEL CELL, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
固体高分子型燃料電池用ガス拡散電極とその製造方法 - 特許庁
Further, the gate electrode 9 is wired on the N-type diffusion layer 7.例文帳に追加
更に、ゲート電極9は、N型の拡散層7上に配線されている。 - 特許庁
N-type diffusion areas 53 are formed on the P-well area 21.例文帳に追加
P-型ウェル領域21の上層にはN型拡散領域53が設けられている。 - 特許庁
REFLECTION TYPE LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT AND METHOD FOR FORMING ITS LIGHT DIFFUSION LAYER例文帳に追加
反射型液晶表示素子およびその光拡散層の形成方法 - 特許庁
To provide a semiconductor optical element capable of preventing diffusion of a p-type dopant.例文帳に追加
p型ドーパントの拡散を防止可能な半導体光素子を提供する。 - 特許庁
The diffusion region 6b of a first source-drain 6 comprises an n^+ type layer and the diffusion region 7b of a second source-drain 7 comprises an n^- type layer.例文帳に追加
第1のソース/ドレイン6の拡張領域6bはn^+型層により、第2のソース/ドレイン7の拡張領域7bはn^-型層により構成される。 - 特許庁
With this structure, the impurity concentration of the n-type diffusion layer 8 near the p-type diffusion layers 10, 11 as source regions can be increased.例文帳に追加
この構造により、ソース領域としてのP型の拡散層10、11近傍のN型の拡散層8の不純物濃度を高濃度とすることができる。 - 特許庁
Thus, a p-n junction in the protective diode 1 is constituted of the side face of the p+ type diffusion region 16 and the n+ type diffusion region 4a.例文帳に追加
このため、保護ダイオード1におけるpn接合は、上記p+型拡散領域16の側面と、上記n+型拡散領域4aとで構成される。 - 特許庁
Furthermore, a p-type diffusion layer 31 and an n-type diffusion layer 32 are formed closely to the vertical electric charge transfer region 2 on the surface side of the semiconductor substrate 23.例文帳に追加
更に、半導体基板23の表面側の垂直電荷転送領域2の近傍には、p型拡散層31とn型拡散層32が形成される。 - 特許庁
In the semiconductor device, P-type diffusion layers 22, 23 as a collector region are formed around an N-type diffusion layer 24 as a base region.例文帳に追加
本発明の半導体装置では、コレクタ領域としてのP型の拡散層22、23が、ベース領域としてのN型の拡散層24の周囲に形成される。 - 特許庁
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