意味 | 例文 (999件) |
Solution toの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 29197件
The refrigerant vapor evaporated by means of the evaporator 3 is absorbed to a concentrated solution in an absorber 5 and generates a diluted solution.例文帳に追加
蒸発器で蒸発した冷媒蒸気は、吸収器5で濃溶液に吸収され稀溶液を生成する。 - 特許庁
The amount of added hydroxide water solution and changes in the pH of the above water solution are measured to make determination.例文帳に追加
そして、水酸化ナトリウム水溶液の添加量と前記水溶液のpHの変化を測定して判断する。 - 特許庁
This method for stabilizing a quaternary alkylhydroxyalkylammonium hydroxide aqueous solution is characterized by adding 1-aminopyrrolidine or carbodihydrazide to the quaternary alkylhydroxyalkylammonium hydroxide aqueous solution.例文帳に追加
第四級アルキルヒドロキシアルキルアンモニウムハイドロオキサイドの水溶液に、1−アミノピロリジン或いはカルボジヒドラジド添加する。 - 特許庁
The obtained tetravalent vanadium sulfate solution is reduced in an electric field to give a trivalent vanadium sulfate solution.例文帳に追加
得られた4価の硫酸バナジウム溶液を電解還元することにより3価の硫酸バナジウム溶液が得られる。 - 特許庁
To provide an inexpensive open type storage battery capable of correctly detecting and adjusting the solution level of an electrolytic solution.例文帳に追加
電解液の液面位を正確に検知し調整することができ且つ安価な開放型蓄電池を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing an aluminum salt aqueous solution in a short time, the solution which is useful as a flocculant.例文帳に追加
凝集剤としての用途に有用なアルミニウム塩水溶液を短時間で製造し得る方法を提供する。 - 特許庁
A solution layer regularizing base plate is mounted on a three-dimensional micro irregular face to be evaluated via a solution.例文帳に追加
評価すべき三次元の微小凹凸面の上に溶液を介して溶液層定常化基板を載置する。 - 特許庁
The metal particulates are dissolved in the electrolytic solution when a second voltage is given to the electrolytic solution layer.例文帳に追加
前記電解液層に第2の電圧が付与されると、前記金属微粒子が前記電解液中に溶解される。 - 特許庁
At least a part of the solution is separated from the residual biomass by applying centrifugal force to the solution and the residual biomass.例文帳に追加
溶液及び残渣バイオマスに遠心力を加えて、残渣バイオマスから溶液の少なくとも一部を分離する。 - 特許庁
To provide an improved method for the synthesis of monochloramine by reacting an ammonium chloride solution with a sodium hypochlorite solution.例文帳に追加
塩化アンモニウム溶液と次亜塩素酸ナトリウム溶液との反応によるモノクロラミンの合成方法の改良。 - 特許庁
Thus, heat of condensation of the water is transferred to a lithium bromide solution (absorbing solution) in the regenerator 12.例文帳に追加
これによって、上記水の凝縮熱が再生器12内の臭化リチウム溶液(吸収溶液)に受け渡される。 - 特許庁
To provide nonaqueous electrolyte solution of high safety and a new evaluation method of safety of nonaqueous electrolyte solution.例文帳に追加
安全性の高い非水電解液、並びに非水電解液の安全性の新規評価方法を提供する。 - 特許庁
To provide an aromatic polysulfone resin solution composition having excellent solution stability without causing gelation.例文帳に追加
ゲル化の発生のない、優れた溶液安定性を有する芳香族ポリサルホン樹脂溶液組成物を提供する。 - 特許庁
A silane compound solution is applied on the nozzle plate 21 to form a silane compound solution layer 31 on it.例文帳に追加
シラン化合物溶液を塗布することによって、ノズル板21の上にシラン化合物溶液層31を形成する。 - 特許庁
The content of the water bath becomes an aqueous solution of ethylene glycol having a freezing point lower than water to prevent the freezing of the solution.例文帳に追加
水浴はエチレングリコールの水溶液となり、その凝固点は水より低くなるから、水浴は凍結しない。 - 特許庁
The eluting solution arrival time T is the arrival time of the eluting solution mixed by a pump to a detector.例文帳に追加
溶離液到達時間Tは、ポンプによって混合された溶離液が検出器に到達するまでの時間である。 - 特許庁
The vaporizing section 45 is provided with a heating means 62 for heating the raw solution dispersed in the carrier gas to vaporize the raw solution.例文帳に追加
気化部45は、キャリアガス中に分散させた原料溶液を加熱して気化する加熱手段62を備えている。 - 特許庁
The etching solution reproducing apparatus includes: atomizing means 11 for atomizing taken-out waste etching solution; and separating means 12 for separating silicon compound in the waste etching solution precipitated and/or flocculated by the atomization from the waste etching solution to obtain reproduced etching solution.例文帳に追加
取り出されたエッチング液を霧化する霧化手段11と、霧化によって析出および/または凝集されるエッチング液中のケイ素化合物を、エッチング液から分離除去して再生エッチング液を得る分離手段12を備えている。 - 特許庁
Fire extinguishing equipment provided with a mixer 14 and an undiluted solution tank 16 storing a foaming undiluted solution is provided with a prevention valve 17 between the mixer and the undiluted solution tank to control the foaming water solution from flowing out from the inside of the undiluted solution tank when no fire occurs.例文帳に追加
混合器14と、泡原液が貯蔵された原液タンク16とを備えた消火設備において、混合器と原液タンクとの間に阻止弁17を設け、火災時以外に原液タンク内から泡原液が流出しないように制御する。 - 特許庁
In this fire extinguishing equipment comprising a mixer 14 and an undiluted solution tank 16 storing a foaming undiluted solution, a prevention valve 17 is provided between the mixer and the undiluted solution tank to control so that the foaming undiluted solution does not flow out of the undiluted solution tank when no fire breaks out.例文帳に追加
混合器14と、泡原液が貯蔵された原液タンク16とを備えた消火設備において、混合器と原液タンクとの間に阻止弁17を設け、火災時以外に原液タンク内から泡原液が流出しないように制御する。 - 特許庁
At this point, the cleaning nozzle 102 discharges or blows out a cleaning solution A108 (e.g. ozone aqueous solution), high-pressure air 109 (e.g. high- pressure dry air), and a cleaning solution B110 (e.g. hydrogen aqueous solution) to the developing solution 107 in this order in the scanning direction.例文帳に追加
このとき、スキャン方向に沿って、洗浄用ノズル102は、現像液107に、洗浄液A108(例:オゾン水)、高圧エアー109(例:高圧のドライエアー)、及び洗浄液B110(例:水素水)の順に吐出、或いは、吹き付けを行う。 - 特許庁
A fixing device includes: foamy fixing solution generating means for generating foamy fixing solution by rendering the fixing solution into a foamy state; and foamy fixing solution application means for applying the foamy fixing solution to a resin fine particle layer on the recording medium.例文帳に追加
前記定着液を泡状化して、泡状定着液を生成する泡状定着液生成手段と、前記泡状定着液を記録媒体上の樹脂微粒子層に付与する泡状定着液付与手段と、を有する定着装置である。 - 特許庁
To provide a substrate plating apparatus to prevent a plating solution from turning around to the rear side of a substrate.例文帳に追加
基板の裏面へのメッキ液の回り込みを防止する基板メッキ装置を提供する。 - 特許庁
To efficiently collect an analysis target contained in a solution to be inspected to be used in analysis.例文帳に追加
被検液に含まれて分析に用いられる分析対象物を効率よく捕集する。 - 特許庁
To design a solution processing device to save energy and to prevent its structure from being complicated.例文帳に追加
省エネルギー化を図ることができ,かつ液処理装置の構造複雑化を防止する。 - 特許庁
To provide a simple, effective, and low-cost, solution to the problems according to the conventional technique.例文帳に追加
従来の問題に対して、単純で効果的および安価な解決策を提供する。 - 特許庁
To provide a numeric keyboard device integrated with a voice interaction function, and to provide a solution to integrate the two products concerning the portability issue.例文帳に追加
音声対話機能を有する数値キーボード装置及びその方法を提供する。 - 特許庁
To provide a solution treatment method enabling to uniformly cool an alloy coil wound into a coil, even when directly subjecting the same to the solution treatment.例文帳に追加
コイル状に巻いた合金コイルをそのまま溶体化処理しても、均一な冷却をすることができる溶体化処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of preventing a solution piping for supplying a plastic solution to a pyrolysis vessel from being blocked due to the retention of impurities.例文帳に追加
熱分解槽へプラスチック溶液を供給する溶液配管が不純物の滞留により閉塞することを防止する方法の提供。 - 特許庁
The method for producing graphene comprises: a step of adding a solvent to the dispersion to form a solution; and a step of controlling the temperature of the solution to form graphene.例文帳に追加
該分散物に溶剤を加えて溶液を形成する工程、及び該溶液の温度を制御してグラフェンを形成する工程をさらに含む。 - 特許庁
For example, a seasoning solution comprising a saline solution having a salt concentration of ≥5 wt.% and used in the seasoning solution immersion process or a seasoning solution containing soy sauce as a main component is mixed with 1 to 30 wt.% of one or more of organic acids, organic acid salts, ammonia and ammonium salts to adjust the solution to pH 4 to 9.例文帳に追加
例えば、調味液浸漬工程で用いる食塩濃度5重量%以上の食塩水からなる調味液あるいは醤油を主成分とする調味液に有機酸,有機酸塩,アンモニア,アンモニウム塩の内1または2種以上を1〜30重量%加え、pH4〜9に調整する。 - 特許庁
The plating solution supply mechanism 30 has: a supply tank 31 for storing the plating solution 35 to be supplied to the substrate 2; a discharge nozzle 32 for discharging the plating solution 35 to the substrate 2; and a plating solution supply pipe 33 for supplying the plating solution 35 from the supply tank 31 to the discharge nozzle 32.例文帳に追加
このうちめっき液供給機構30は、基板2に供給されるめっき液35を貯留する供給タンク31と、めっき液35を基板2に吐出する吐出ノズル32と、供給タンク31のめっき液35を吐出ノズル32へ供給するめっき液供給管33と、を有している。 - 特許庁
To provide an apparatus which adjusts a developer solution recovered from a developing process to a specified concentration and then again supplies the resultant developer solution to the developing process, in particular, an apparatus for recycling and supplying a developer solution which can supply the developer solution having the concentration more accurately adjusted to the developing process and enhance the recovery rate of the developer solution.例文帳に追加
現像プロセスから回収された現像液を一定濃度に再調節して再び現像プロセスに供給する装置であって、一層正確に濃度調節された現像液を現像プロセスへ供給し得ると共に、現像液の回収率を高め得る現像液のリサイクル供給装置を提供する。 - 特許庁
This antioxidant material measuring device comprises a flow cell comprising a mechanism for supplying hydrogen peroxide solution to a buffer solution flow and a mechanism for supplying a subject solution to be measured for antioxidant material to bring the buffer solution containing the hydrogen peroxide solution and the subject solution into contact with a hydrogen peroxide electrode, and a release part for releasing the mixture from the flow cell out of the system.例文帳に追加
緩衝液流の中に、過酸化水素液を供給する機構、抗酸化物質を測定される被験液を供給する機構を備え、過酸化水素液と被験液を含む緩衝液を過酸化水素電極に接触させるフローセル及びフローセルからの混合液を系外に放出する放出部を備えてなる抗酸化物質測定装置。 - 特許庁
The method for recovering the polystyrene, characterized by comprising a dissolving process for adding a solvent to a gel to produce the dissolved solution, a filtering process for filtering the dissolved solution, and a concentrating process for evaporating the solvent from dissolved solution produced in the filtering process to produce the concentrated solution having a prescribed concentration.例文帳に追加
また、ゲルに溶剤を加えて溶解液をつくる溶解工程と、その溶解液を濾過する濾過工程と、濾過工程でできた溶解液から溶剤を蒸発させ所定の濃度の濃縮液をつくる濃縮工程と、を備える。 - 特許庁
A desiccant solution (solution, hereinafter) is separately supplied to a high stage regenerator 21 and a low stage regenerator 22, and the high stage regenerator 21 heats the solution by a heating source 21a to regenerate it and supplies steam generated by the heating of the solution to a condenser 23.例文帳に追加
デシカント溶液(以下、溶液)を高段再生器21と低段再生器22とに分けて供給し、高段再生器21は溶液を加熱源21aにより加熱して再生し、溶液の加熱により発生した蒸気を凝縮器23に供給する。 - 特許庁
Next, an etching solution, for example a solvent of coating solution, is supplied to the rotating wafer from a solvent supplying nozzle 40 to etch the coating film, and thereafter the coating solution is supplied to the wafer from the coating solution supplying nozzle, to form a flat coating film on the surface of the wafer.例文帳に追加
次に、回転するウエハに対して溶剤供給ノズル40からエッチング液例えば塗布液の溶剤を供給して、塗布膜をエッチングした後、ウエハに対して塗布液供給ノズルから塗布液を供給し、ウエハの表面に平坦状の塗布膜を形成する。 - 特許庁
When a solution is pressure-fed to the solution sump X from a solution feeding source 71, the solution is discharged to the circumference of a substrate G from the discharge hole 67 formed on the thin plate 66, and the unnecessary resist film R on the circumferential part is fused and removed.例文帳に追加
溶剤供給源71から溶剤が溶剤溜部Xに圧送されると、薄板66に形成された吐出孔67から溶剤が基板G周縁部に吐出され、周縁部の不要なレジスト膜Rが溶解除去される。 - 特許庁
To provide a liquid absorbing sheet having a liquid absorbing resin which shows an excellent liquid absorption performance to the non-aqueous electrolytic solution of a non-aqueous electrolytic solution secondary battery constituting a non-aqueous electrolytic solution battery pack (especially, lithium ion non-aqueous electrolytic solution secondary battery pack).例文帳に追加
非水電解液電池パック(特に、リチウムイオン非水電解液二次電池パック)を構成する非水電解液二次電池の非水電解液に対して優れた吸液性を示す吸液性樹脂層を有する吸液性シートを提供する。 - 特許庁
A process for producing concentrated glycerin from the aqueous glycerin solution includes an atomization/dehydration/concentration step of subjecting the aqueous glycerin solution having a viscosity of 25 mPa s or less to an ultrasonic vibration procedure to convert water in the solution into mist, thereby dehydrating and concentrating the solution.例文帳に追加
グリセリン水溶液から濃縮グリセリンを製造する方法は、粘度が25mPa・s以下のグリセリン水溶液を超音波振動させることにより水を霧化させて脱水濃縮する霧化脱水濃縮工程を有する。 - 特許庁
In comparison with the case of setting the position of the flux solution to the prescribed position by supplying the undiluted flux solution, the specific gravity of the flux solution F can easily be kept to the prescribed value without making the position of the surface of the flux solution F higher than required.例文帳に追加
フラックス原液を供給してフラックス液の液面の位置を所定の位置とする場合と比較して、フラックス液Fの液面の位置を必要以上に高くすることなくフラックス液Fの比重を所定値に容易に維持できる。 - 特許庁
After temperature of the substrate W is equalized as explained above, a temperature adjustment solution removing step is conducted to remove the temperature adjustment solution from the substrate W and a resist solution coating step is conducted to coat the resist solution at the upper surface of the substrate W.例文帳に追加
こうして基板Wの温度を均一化した後,基板Wから温調用液体を除去する温調用液体除去工程を行い,基板Wの上面にレジスト液を塗布するレジスト液塗布工程を行った。 - 特許庁
The ribosome solution can be produced by drying and solidifying a film-forming solution comprising a phospholipid solution for forming a film, and adding a buffer solution to this film, prior to the addition of the compound that serves as the candidate for the skin barrier function restoring agent.例文帳に追加
リポソーム溶液は、リン脂質溶液からなるフィルム形成溶液を乾固させてフィルムを作成し、このフィルムに緩衝液を加えた後、皮膚バリア機能回復剤の候補となる化合物を添加して作成することができる。 - 特許庁
To provide a double aerosol container, which separately holds an undiluted solution and a compressed gas for jetting the undiluted solution in a sealed state, and jets the undiluted solution together with the compressed gas with mixing the solution and gas to be jetted in a foaming state.例文帳に追加
原液と、原液を噴出させるための圧縮ガスとを別個に密封保存し、かつ原液の噴出時には圧縮ガスも噴出させ、それらを混合してして泡状に吐出させることのできるエアゾール容器を提供する。 - 特許庁
The substrate processing apparatus includes first and second discharge solution lines 42b and 44b each branched and connected to the downstream side of a discharge unit 40, and the discharged solution from each of the first and second discharge solution lines 42b and 44b is independently delivered to a processing solution supply unit 30 as a recovered solution.例文帳に追加
排出部40の下流側には第1の排液ライン42bおよび第2の排液ライン44bが分岐して接続され、第1の排液ライン42bおよび第2の排液ライン44bからそれぞれ処理液供給部30に排液が回収液として互いに独立して送られる。 - 特許庁
The method for separating glycol comprises adding a hydrophobic solvent 2 having ≤150°C boiling point to a glycol-containing aqueous solution (a glycol aqueous solution 1) and mixing, and separating the obtained into two layers of a solution 3 and an aqueous solution 4 so as to separate the glycol, which solution 3 is the hydrophobic solvent 2 dissolving the glycol therein.例文帳に追加
グリコールを含む水溶液(グリコール水溶液1)中に、沸点が150℃以下である疎水性溶媒2を投入して混合を行い、疎水性溶媒2にグリコールを溶解した溶液3と水溶液4との二層に分離してグリコールを分離することを特徴とする。 - 特許庁
The surface treatment method for a nickel particle using an acid solution comprises: a stage (1) where weak acid and a buffer solution are mixed to produce an acid solution whose pH is 2 to 5; a stage (2) where the acid solution and a nickel particle are mixed; and a stage (3) where the mixed solution is filtered, cleaned and dried.例文帳に追加
1)弱酸及び緩衝溶液を混合してpH2〜5の酸溶液を製造する段階と、2)この酸溶液とニッケル粒子とを混合する段階と、3)この混合溶液をろ過、洗浄及び乾燥させる段階と、を含む、酸溶液を用いたニッケル粒子の表面処理方法である。 - 特許庁
The method for manufacturing a silk fibroin porous body includes allowing a silk fibroin solution in which an acidic amino acid is added to a silk fibroin aqueous solution to stand still at a temperature at which the solution does not solidify for ≥10 hours, freezing the silk fibroin solution after the still standing, and thawing the frozen solution.例文帳に追加
シルクフィブロイン水溶液に酸性アミノ酸を添加したシルクフィブロイン溶液を該溶液が凝固しない温度で10時間以上静置し、静置後の該シルクフィブロイン溶液を凍結し、次いで融解することを特徴とするシルクフィブロイン多孔質体の製造方法である。 - 特許庁
By vibrating the wafer to spin off the plating solution, the quantity of the plating solution scattered to the outside is suppressed in comparison with that when the plating solution is removed only by rotating, and the deposition of the plating solution or the foreign matter produced from the plating solution on the side wall of the bath and the re-deposition of the foreign matter on the wafer W are also suppressed.例文帳に追加
ウェーハWを振動させることでめっき液を振り落とすので、回転のみで液切りする場合に比べて外方へ飛散するめっき液量を抑え、槽の側壁へのめっき液やそれから生じる異物(結晶)の付着、その異物のウェーハWへの再付着を抑えることができる。 - 特許庁
The method for manufacturing a silk fibroin porous body includes allowing a silk fibroin solution in which an aliphatic carboxylic acid is added to a silk fibroin aqueous solution to stand still at a temperature at which the solution does not solidify for ≥10 hours, freezing the silk fibroin solution after the still standing, and thawing the frozen solution.例文帳に追加
シルクフィブロイン水溶液に脂肪族カルボン酸を添加したシルクフィブロイン溶液を該溶液が凝固しない温度で10時間以上静置し、静置後の該シルクフィブロイン溶液を凍結し、次いで融解することを特徴とするシルクフィブロイン多孔質体の製造方法である。 - 特許庁
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