「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(62ページ目) - Weblio英語例文検索

A liquid organic compound is mixed with thermally conductive powder, and the liquid organic compound is solidified so as to be formed into a solid compound, which is used as the vapor deposition source.例文帳に追加

液状有機化合物と熱伝導性粉体を混合し、該液状有機化合物を硬化させ固体の化合物にし、蒸着源とする。 - 特許庁

To simplify methods of handling and fixing a work in a rear surface vapor deposition process and prevent defects such as a flaw, crack, etc., due to handling failure or the like.例文帳に追加

裏面蒸着工程でのワークのハンドリングや固定方法を簡単にし、ハンドリングミス等によって生じるキズ，割れ等の不良発生を防止する。 - 特許庁

In addition, magnets are fixed to a plurality of parts of a work fixing surface of the table, the mask for regulating the vapor deposition is formed of a magnetic material, and a reinforcing ring is provided on the outer circumference.例文帳に追加

さらにテーブルのワーク固定面の複数箇所に磁石を固定し、蒸着規制用マスクは磁性体で形成し、外周には補強リングを設ける。 - 特許庁

As a result, the moisture contained in the film 11 is removed, whereby a satisfactory magnetic layer can be formed without evaporation of the moisture during a vapor deposition step.例文帳に追加

これにより、ベースフィルム１１が有する水分が除去され、蒸着時に水分の蒸発なしに、良好な磁性層を成膜することができる。 - 特許庁

To provide a vapor deposition device being suitable for multi-chamfering using a large area substrate, having high usage efficiency of an EL (electroluminescence) material, and having an excellent uniformity of a film.例文帳に追加

大面積基板を用いた多面取りに適し、且つ、ＥＬ材料の利用効率が高く、膜の均一性にすぐれた蒸着装置を提供する。 - 特許庁

The barrier layer 14 may be formed by chemical vapor deposition and at least a portion of the surface upon which the barrier layer 14 is formed may be a silicon-containing surface.例文帳に追加

バリアー層１４は、化学気相堆積によって作ることができ、バリアー層１４を形成する表面の少なくとも一部は、ケイ素含有表面でよい。 - 特許庁

To obtain a method and an apparatus for manufacturing a glass preform by which the thickness of a glass layer is made uniform in a longitudinal direction in the modified chemical vapor deposition (MCVD) method.例文帳に追加

ＭＣＶＤ法においてガラス層の厚さを長手方向に均一にすることのできるガラス母材の製造方法および製造装置を得る。 - 特許庁

Because the film acquires higher adhesiveness of the indium metal than that by pressure bonding or normal vapor deposition, the film realizes a more stable ohmic property and lower resistance.例文帳に追加

インジウム金属の圧着や通常の蒸着に比べて高い密着性が得られるため、安定したオーミック性と低抵抗性が実現される。 - 特許庁

To provide a raw material carburetor for an organometallic chemical vapor deposition system with which continuous filling and stable vaporization of a raw material for a thin film are made possible.例文帳に追加

薄膜用原料の連続的充填と安定気化を可能にする有機金属化学気相堆積装置用原料気化器を提供する。 - 特許庁

To provide a resin base material for forming a vehicle light wherein the outward appearance of the embossed surface of an extension base material after vapor deposition of a reflecting material can be made almost uniform.例文帳に追加

反射材蒸着後のエクステンション基材のシボ面の見栄えを略均一にすることができる車両灯体構成用樹脂製基材を提供する。 - 特許庁

The polyester film for vapor deposition has a film haze of ≤1.5% and a difference in friction coefficient Δμ as defined by formula (1) of ≤0.15.例文帳に追加

フィルムのヘーズが１．５％以下であり、下記式（１）で定義される摩擦係数の差Δμが０．１５以下であることを特徴とする蒸着用ポリエステルフィルム。 - 特許庁

The basic chip is vapor deposited in a vacuum deposition equipment according to a membrane system designing process and is finally chromium-plated to make a corrected three-primary-color ratio adjustment lens.例文帳に追加

基片を真空蒸着機の中で膜系設計工程に基づいて蒸着し、最後にクロム鍍金して補正三原色比率調整レンズを作成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor element manufacturing apparatus capable of smooth vapor deposition of a source gas on a wafer and preventing deterioration of a process chamber and an injection part.例文帳に追加

ウェハ上にソースガスを円滑に蒸着でき、かつ工程チャンバおよび噴射部の劣化を防止できる半導体素子製造装置を提供する。 - 特許庁

To clean vapor deposition substances sticking on a tapered surface formed in an opening part of a mask for organic EL with a high degree of cleaning.例文帳に追加

有機ＥＬ用マスクの開口部に形成されているテーパ面に付着している蒸着物質を高い洗浄度でクリーニングすることを目的とする。 - 特許庁

On a silicon substrate having a contact hole 4 formed in the surface, a polysilicon film 15 is formed to fill the contact hole 4 by chemical vapor deposition (Fig.(a)).例文帳に追加

表面にコンタクトホール４が形成されたシリコン基板上に、化学蒸着法により、コンタクトホール４を埋めるようにポリシリコン膜１５が形成される（図２（ａ））。 - 特許庁

The electron beam induces an arc discharge between the anode 4 and the cathode 3 by irradiating the evaporating surface 21a, and generates a plume of a vapor-deposition material.例文帳に追加

電子ビームは蒸発面２１ａに照射されることにより、アノード４とカソード３との間でアーク放電を誘起し、蒸着材料のプルームを発生させる。 - 特許庁

ORGANIC COPPER COMPOUND FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND SOLUTION RAW MATERIAL CONTAINING THE SAME AND USED FOR FORMING THIN COPPER FILM AND THIN COPPER FILM FORMED FROM THE SAME例文帳に追加

有機金属化学蒸着用有機銅化合物及びこれを含む銅薄膜形成用溶液原料並びにこれから作られた銅薄膜 - 特許庁

The thickness of the silicon carbide chemical vapor deposition film pa1 is 10 μm to 2 mm and the silicon carbide purity of the film pa1 is 99.99% or higher.例文帳に追加

炭化珪素学蒸着膜ｐａ１の厚みは１０μｍ〜２ｍｍであり且つ当該膜ｐａ１の炭化珪素純度は９９．９９％以上である。 - 特許庁

The silicon carbide chemical vapor deposition film pa1 is strongly oriented to the (220) surface in Miller index display so that the specific resistance value becomes 1 Ωcm or less.例文帳に追加

炭化珪素化学蒸着膜ｐａ１は、その比抵抗値を１Ω・ｃｍ以下となるように、ミラー指数表示における（２２０）面に強配向させる。 - 特許庁

In this way, it is possible to stabilize the blowout flow rate, blowout speed and blowout direction of a vapor deposition substance 118 vaporized at random inside the crucible.例文帳に追加

これにより、坩堝内部にてランダムに蒸発した蒸着物質１１８の噴出流量、噴出速度及び噴出方向を安定させることができる。 - 特許庁

After the solutions are vaporized, the vapor phase precursors and reaction solvents are pulsed into a deposition chamber to assure ALD film growth of predetermined thickness.例文帳に追加

溶液が気化された後、気相前駆体溶液及び反応溶液はは交互に堆積室内にパルス状に供給し、所定厚のＡＬＤ膜を成長をする。 - 特許庁

A decrease in aperture ratio due to vapor deposition for formation of a luminescent layer can be controlled, and a high-definition panel with high strength and a high aperture ratio can be provided.例文帳に追加

発光層を形成するための蒸着起因の開口率の低下を抑制でき、高精細パネルにて、高強度で高開口率が達成できる。 - 特許庁

The porous layer 20 includes a polymer applied preferably by vapor or plasma deposition and provides the controlled release of the bioactive material.例文帳に追加

多孔質層２０は、好ましくは蒸着又はプラズマ蒸着により塗布されたポリマーを含有し、生物学的活性物質の制御された放出を行う。 - 特許庁

By this restricting means 12, the heat energy emitted from the heating means 13 is applied only to a specific part in the vapor deposition material 14.例文帳に追加

この加熱領域制限手段１２により、加熱手段１３から放出された熱エネルギが、蒸着材料１４のうちで特定部分のみに与えられる。 - 特許庁

Thus, even when foreign matters are present on the glass substrate 130, the vapor deposition molecules can be deposited on a shadow (back) side part of the foreign matters in a turning manner.例文帳に追加

従って、ガラス基板１３０上に異物があったとしても、蒸着分子は異物の影（裏）の部分に周りこんで付着することができる。 - 特許庁

To provide a method of cleaning a nozzle for supplying gas which enables the appropriate cleaning of a nozzle for supplying gas, and also to provide a vapor phase deposition apparatus.例文帳に追加

ガス供給用ノズルを好適に清浄化することが可能なガス供給用ノズルの清浄化方法および気相成長装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask for vapor deposition which is lightweight, easily handled, and capable of preventing a support frame from being curved by the tension of a mask thin plate.例文帳に追加

軽量化が可能で取扱いが容易であり、支持フレームがマスク薄板の張力に負けて湾曲することもない蒸着用マスクを提供する。 - 特許庁

Catalyst metal particles are supported on a substrate 2, and carbon nanotubes 5 are grown by chemical vapor deposition on the substrate 2 by using the catalyst particles as nuclei.例文帳に追加

基板２ に触媒金属粒子を担持させ、該触媒粒子を核として基板上に化学蒸着法によりカーボンナノチューブ５ を成長させる。 - 特許庁

The gas barrier layer may be formed of a vapor deposition film of an inorganic oxide or an inorganic nitride (preferably silicon oxide, silicon nitride or aluminum oxide).例文帳に追加

ガスバリア層は、無機酸化物又は無機窒化物（好ましくはケイ素酸化物、ケイ素窒化物又はアルミニウム酸化物）の蒸着膜から形成するとよい。 - 特許庁

A selective oxidation semi- atmospheric pressure chemical vapor deposition (SELOX SACVD) comprises depositing silicon dioxide on the wafer, using an ozone-activated tetraethyl orthosilicate process.例文帳に追加

さらに、選択的酸化準大気圧化学気相堆積(SELOX SACVD）は、オゾン活性オルトケイ酸テトラエチルプロセスを用いて、ウェーハの上に二酸化ケイ素を堆積する。 - 特許庁

A film is formed by chemical vapor deposition of a diamantane or adamantane compound having a particular substituent or a composition containing the compound.例文帳に追加

特定の置換基を有するジアマンタンまたはアダマンタン化合物もしくは該化合物を含む組成物を化学気相蒸着することにより形成された膜。 - 特許庁

The optical filter 6 is provided with a polyimide film composed of polyimide resin and a dielectric multilayer film is formed on both surfaces of the polyimide film by vapor deposition or the like.例文帳に追加

光フィルタ６は、ポリイミド系樹脂からなるポリイミド膜を有し、このポリイミド膜の両面には、誘電体多層膜が蒸着等により形成されている。 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION FOR Al-BASED III-V COMPOUND SEMICONDUCTOR, AND METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING Al-BASED III-V COMPOUND SEMICONDUCTOR例文帳に追加

Ａｌ系ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体の気相成長方法、Ａｌ系ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体の製造方法ならびに製造装置 - 特許庁

The ITO film is evaporated onto a crystalline substrate (e.g. YSZ single crystal substrate) at 500 to 1,000°C substrate temperature using a pulsed laser assisted vapor deposition method.例文帳に追加

パルス・レーザー・蒸着法を用いて結晶性基板（例えば、ＹＳＺ単結晶基板）上に基板温度５００〜１０００℃においてＩＴＯ膜を形成する。 - 特許庁

The vapor deposition material consists of polycrystals having an MgO purity of ≥99.0% and a relative density of ≥90.0%, and having a chlorine Cl content of 0.01 to 50 ppm.例文帳に追加

ＭｇＯ純度が９９．０％以上かつ相対密度が９０．０％以上で、塩素Ｃｌ含有量が０．０１〜５０ｐｐｍの多結晶とした。 - 特許庁

To provide a method for providing films having improved characteristics such as an etching rate, the concentration of hydrogen, and stress as compared to the films by thermal chemical vapor deposition.例文帳に追加

熱化学気相堆積の膜に比較してエッチング速度、水素濃度、およびストレスなどの改善された特性を有する膜を与える方法の提供。 - 特許庁

To provide a high-barrier, biodegradable resin film which can decrease the oxygen transmittance of the entire film in comparison with the thickness of a vapor deposition film formed in the film.例文帳に追加

フィルムに設けられた蒸着膜の厚みの割には、フィルム全体の酸素透過度が低くできる、ハイバリア性で生分解性の樹脂フィルムを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING CRYSTAL THIN FILM OF N AND P TYPE SEMICONDUCTOR OF SILICON CARBIDE BY DUAL TARGET SIMULTANEOUS PULSE LASER VAPOR DEPOSITION TECHNIQUE AND THIN FILM MANUFACTURED BY SAME TECHNIQUE例文帳に追加

デュエルターゲット同時パルスレーザ蒸着手法による炭化ケイ素のｎ及びｐ型半導体の結晶薄膜の作製方法及び同法で作製した薄膜 - 特許庁

A magnet for a hearth for introducing a plasma beam emitted from a pressure-gradient type plasma gun to a vapor deposition material placed on a hearth has a magnetron structure.例文帳に追加

圧力勾配型プラズマガンから出射されたプラズマビームをハースに載置された蒸着材料に導くためのハース用マグネットが、マグネトロン構造である。 - 特許庁

On a silicon substrate 1 having a contact hole 4 formed in the surface, a polysilicon film 15 is formed over the substantially entire surface by chemical vapor deposition (Fig.(a)).例文帳に追加

表面にコンタクトホール４が形成されたシリコン基板１上に、ほぼ全面に渡って、化学蒸着法により、ポリシリコン膜１５が形成される（図２（ａ））。 - 特許庁

To reduce variance of a composition ratio within a plane, in performing electron beam vapor deposition using a plurality of evaporating sources to deposit a thin film.例文帳に追加

複数の蒸発源を用いて電子ビーム蒸着を行ない薄膜を形成する場合において、面内における組成比率のばらつきを減少させる。 - 特許庁

In the vacuum treatment system 1, vapor deposition is performed to the surface of a substrate 5 via a mask 7 having the plurality of opening parts 8 in a vacuum tank 2.例文帳に追加

本発明の真空処理装置１は、真空槽２内において複数の開口部８を有するマスク７を介して基板５０上に蒸着を行う。 - 特許庁

To control a film thickness adjustment with excellent responsiveness even in the case of forming an organic layer by vapor deposition of an organic material.例文帳に追加

有機材料の真空蒸着によって有機層を形成する場合であっても、その膜厚調整を優れた応答性で安定して制御できるようにする。 - 特許庁

To provide an optical member which has a transparent conductive film formed by a method easier than a physical vapor deposition method and is capable of suppressing Newton rings.例文帳に追加

物理的蒸着法よりも容易な方法で形成された透明導電膜を有し、かつ、ニュートンリングを抑制できる光学部材を提供する。 - 特許庁

In the polypropylene film, a resin coating layer is formed on at least one side of a polypropylene film, and a copper vapor deposition layer and a metal oxide layer are laminated in turn on the coating layer.例文帳に追加

ポリプロピレンフィルムの少なくとも片面に樹脂系塗工層を設け、次いで銅蒸着層及び金属酸化物層を順次積層したポリプロピレンフィルム。 - 特許庁