意味 | 例文 (999件) |
Vapor Depositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5223件
A carbon protective film 6 is formed on the entire surface of a silicon carbide wafer WF by chemical vapor deposition while using carbon monoxide as the source gas.例文帳に追加
ソースガスとして一酸化炭素を使用し、化学気相成長法によって炭化珪素ウエハWFの全表面にカーボン保護膜6を形成する。 - 特許庁
To provide a method which forms a conformal dielectric film having Si-N bonds on a semiconductor substrate by a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD).例文帳に追加
プラズマ励起化学蒸着(PECVD)により、半導体基板上にSi−N結合を有するコンフォーマルな誘電体膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁
In the simultaneously ionizing step, ionization of the hydrocarbon gas is executed in a sublimation gas flow passage in which the plasma-converted sublimation gas is applied to the raw material for vapor deposition.例文帳に追加
同時イオン化工程において、炭化水素ガスのイオン化を、プラズマ化した昇華ガスを蒸着原料に照射する昇華ガス流路で行う。 - 特許庁
To form an electro-optical device for performing a high-quality image display by providing a vapor deposition apparatus with a uniform inorganic orientation film on a substrate.例文帳に追加
蒸着装置において、基板上に均一な無機配向膜を備えることにより、高品位な画像表示を行う電気光学装置を形成する。 - 特許庁
To provide an ultraviolet curing apparatus capable of accelerating the cooling of a cut filter and suppressing a vapor deposition film from peeling off, and to provide a printer using the ultraviolet curing apparatus.例文帳に追加
カットフィルタの冷却を促進させて、蒸着膜の剥がれを抑制できる紫外線硬化装置及びそれを用いた印刷機を提供する。 - 特許庁
To provide a metal-organic chemical vapor deposition apparatus which does not make film thickness vary in wafers and between wafers when simultaneously film-forming a large number of wafers.例文帳に追加
多数のウエハを同時に成膜処理しても、ウエハ内及びウエハ間で膜厚がばらつくことのない有機金属気相成長装置を提供する。 - 特許庁
The first surface is positioned to face a substrate which is subject to a chemical vapor deposition and on which a plurality of grooves 63 are formed.例文帳に追加
厚み方向一方Z1の第1表面部は、化学気相成長の処理対象となる基板に臨んで配置され、複数の溝63が形成される。 - 特許庁
The thin antenna is comprised of: a film substrate; and a metal layer formed on a surface of the film substrate, through vapor deposition in such a shape as to operate as an antenna.例文帳に追加
フィルム基材と、フィルム基材の表面に、アンテナとして動作する形状に蒸着により形成された金属層と、からなる薄型アンテナ。 - 特許庁
To form a fine pattern having both of a groove pattern and a hole pattern in the process of manufacturing a semiconductor device without carrying out vacuum vapor deposition.例文帳に追加
半導体装置の製造工程において、真空蒸着処理を行わずに、溝状パターンと穴状パターンとが共存する微細パターンを形成する。 - 特許庁
Preferably, the gas flow rate of hexamethyl-disiloxane acid to be introduced in a chamber of a vacuum vapor deposition apparatus is changed according to the gradation of the requested smoke color.例文帳に追加
好ましくは、要求されるスモーク色の濃淡に応じて、真空蒸着装置のチャンバー内に導入されるヘキサメチルジシロキ酸のガス流量を変化させる。 - 特許庁
To provide a radiological image conversion panel having a phosphor layer formed by a vapor-phase deposition method, and having excellent sensitivity and sharpness.例文帳に追加
気相堆積法による蛍光体層を有する放射線画像変換パネルであって、感度および鮮鋭性が良好な放射線画像変換パネルを提供する。 - 特許庁
The electron beam vapor deposition apparatus 10 includes a chamber 11, a conveyance mechanism 12, a container 17, a mask 19, and an electron beam formation mechanism 15.例文帳に追加
上記電子ビーム蒸着装置10は、チャンバ11と、搬送機構12と、容器17と、マスク19と、電子ビーム形成機構15とを具備する。 - 特許庁
Since the supply and exhaustion of the vapor deposition source, arrangement of the substrate and the mask, and the like are continuously advanced, the operation speed can be considerably increased.例文帳に追加
これにより、蒸着源の供給及び消尽、基板とマスクとのアレンジなどがいずれも連続して進められるために、作業速度が相当に速くなる。 - 特許庁
The reflection mirror 20 comprises a synthetic resin substrate 22, and a metal film 24 formed on the surface of the substrate 22 by vapor-deposition etc.例文帳に追加
反射鏡20は、合成樹脂製の基板22と、基板22の表面に、例えば、蒸着などにより形成された金属膜24とで構成されている。 - 特許庁
To provide a heating element for metal vapor deposition, capable of achieving a long life by improving wettability with respect to a molten metal, and its manufacturing method.例文帳に追加
溶融金属に対する濡れ性を改善し、長寿命化を達成することができる金属蒸着用発熱体とその製造方法を提供する。 - 特許庁
A shutter 7 for separating the substrate 1 from vapor 29 until the concentration of the mist for film deposition reaches the saturated condition.例文帳に追加
基板設置部23には、成膜用の霧の濃度が飽和状態に達するまで基板1を蒸気29から隔離するためのシャッタ7が設けられている。 - 特許庁
To achieve an improvement in production efficiency by discovering faults which occurred in a manufacturing process early and reducing a process loss after the vapor deposition of organic layer and electrode.例文帳に追加
製造工程で生じた不良を早期に発見し、有機層及び電極の蒸着以後の工程ロスを削減することで、生産効率の向上を図る。 - 特許庁
A high-precision pattern can be formed on a substrate with a multiple units by arranging and carrying out the vapor deposition on the substrate 17 on this second metal mask 13.例文帳に追加
この第二金属マスク13の上に基板17を配して蒸着を行うことで、基板に高精細なパターンを多面付けで形成することができる。 - 特許庁
The ferroelectric film 27 is formed by MOCVD (micro organic chemical vapor deposition) method and the initial layer 27A thereof is grown along the crystal orientation of second conductive film 26A.例文帳に追加
強誘電体膜27は、MOCVD法により形成し、その初期層27Aは第2の導電膜26Aの結晶配向に倣って成長する。 - 特許庁
A magnetic field forming apparatus 29 is provided in a backing plate 24 to collect plasma at the center of the vapor deposition material 25 and to emit steam from the center.例文帳に追加
バッキングプレート24内に磁界形成装置29を設け、プラズマを蒸着材料25の中心に集め、中心から蒸気を放出させるようにする。 - 特許庁
The carrier comprises core material particles having magnetism, and a covering layer on the surface of each core material particle, and the covering layer is formed by a vapor deposition process.例文帳に追加
磁性を有する芯材粒子と、該芯材粒子表面に被覆層とを有してなり、前記被覆層が蒸着法により形成されたキャリアである。 - 特許庁
To provide a technology which can reliably control the film thickness of a formed thin film, when the thin film is formed by a coaxial-type vacuum- arc vapor deposition source.例文帳に追加
同軸型真空アーク蒸着源により薄膜を成膜する際に、成膜された薄膜の膜厚を確実に制御することができる技術を提供する。 - 特許庁
Preferably, the copper vapor deposition layer on the coating layer is 0.02-1 nm thick, and the metal oxide layer is 10-100 nm thick.例文帳に追加
樹脂系塗工層上に設ける銅蒸着層が、0.02〜1nmの厚さであり、金属酸化物層の厚さが、10〜100nmであることが好ましい。 - 特許庁
The silicon carbide coating member is obtained by forming a silicon carbide film 2 by chemical vapor deposition on the surface 2a of a substrate 2 formed as a silicon carbide sintered compact.例文帳に追加
炭化珪素コーティング部材は、炭化珪素焼結体である基体2の表面2aに化学蒸着による炭化珪素膜2を形成してなる。 - 特許庁
The organic EL panel is formed without using the vapor deposition mask so that the organic EL panel having a high definition, a large screen, and low in manufacturing costs can be achieved.例文帳に追加
本発明によれば、蒸着マスクを使用せずに有機ELパネルを形成できるので、高精細、大画面で、かつ、製造コストの低い有機ELパネルが実現できる。 - 特許庁
First group-III and nitrogen precursors are flowed into a first processing chamber to deposit a first layer over a substrate with a thermal chemical-vapor-deposition process.例文帳に追加
III族及び窒素の前駆物質が、第1の処理チャンバに流入されて、熱化学気相堆積プロセスを用いて、基板上に第1の層が堆積される。 - 特許庁
A wave-guide pattern 12 comprising metal or a metal compound is formed on a substrate 11 having a photoelectric effect by a vapor deposition method or the like.例文帳に追加
電気光学効果を有する基板11上に、金属あるいは金属化合物からなる導波路パターン12を蒸着法などで形成する。 - 特許庁
The step 48 for forming the tantalum pentoxide layer preferably includes chemical vapor deposition of the tantalum pentoxide at a temperature below about 500°C.例文帳に追加
五酸化タンタル層を形成するステップ48は、好ましくは、五酸化タンタルを、約500℃より低い温度にて、化学蒸着することによって行なわれる。 - 特許庁
The active layer 6 is formed by an organic metal vapor deposition, and its film forming pressure conditions are set to atmospheric pressure or rather lower pressure than the atmospheric pressure.例文帳に追加
活性層6を有機金属気相成長法により形成し、その製膜圧力条件を大気圧また大気圧よりもやや低い圧力とする。 - 特許庁
A thin plate-like dielectric sheet is calcinated to create a ceramic substrate and a metal film is formed on its required surface by plating, sputtering, vapor deposition and the like.例文帳に追加
薄い板状の誘電体シートを焼成してセラミック基板を作成し、その必要な面に、メッキ、スパッタ、蒸着等によって金属膜を形成する。 - 特許庁
To prevent variations in a refractive index in manufacturing an antireflection film containing a metal oxide the refractive index of which is liable to change depending on a vacuum degree during vapor deposition.例文帳に追加
蒸着時の真空度により屈折率が変わりやすい金属酸化物を含む反射防止膜を製造するにあたって、屈折率のバラツキを抑制する。 - 特許庁
The magnet layer 11 and the magnet layer 21 are formed by a vapor phase deposition method and are reversed in N-S poles from each other.例文帳に追加
磁石層11と磁石層21とは,気相成膜法によって形成されていると共に,互いに上記N−S極が逆方向になっている。 - 特許庁
To provide a vacuum vapor deposition apparatus which can efficiently heat a vessel containing a treating agent without melting it when directly heating the vessel.例文帳に追加
処理剤の入った容器を直接加熱する際に溶融させることなく効率よく加熱することができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁
The cutting of the grooves is performed by a dicer blade and the electrodes are formed by metal vapor deposition and the unnecessary removal of electrodes is performed by using a resist as a mask before the cutting of the grooves.例文帳に追加
溝切削はダイサーブレードを、電極は金属蒸着を、不必要な電極の除去は溝切削まえにマスクとしてレジストを用いる。 - 特許庁
Such a silicon nitride film is formed in such a manner that a silicon nitride film including ≥15 atomic% of hydrogen is formed by a chemical vapor deposition method, and an upper portion of the silicon nitride film is nitrided.例文帳に追加
このような窒化シリコン膜は、化学気相成長法により、水素を15atomic%以上含む窒化シリコン膜を形成し、その上部を窒化することで形成される。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for producing carbon nanotubes having a low amorphous content by a chemical vapor deposition method.例文帳に追加
化学蒸着法により製造するカーボンナノチューブにおいて、アモルファス含量の少ないカーボンナノチューブを製造する方法および装置を提供することを課題とする。 - 特許庁
An aluminum vapor deposition layer 5 is formed on a code wheel 1, and an encode pattern 2 comprising vertical-grid-like print 6 is formed on a surface thereof by black ink.例文帳に追加
コードホイール1にアルミ蒸着層5を形成し、その表面に黒色インクにより縦格子状の印刷6からなるエンコードパターン2を形成した。 - 特許庁
This balloon catheter (1) is constituted by forming a vapor deposition layer (5A) or coating layer (5B) of the X-ray impermeable metal (5) on the inside surface of the balloon (2) of the balloon catheter.例文帳に追加
バルーンカテーテルにおいて、バルーン(2)の内表面にX線不透過性金属(5)の蒸着層(5A)、またはコーティング層(5B)を形成したバルーンカテーテル(1)。 - 特許庁
To provide a vacuum deposition apparatus for forming an adequate vapor-deposited layer, and to provide a pretreatment method for forming such a layer.例文帳に追加
良好な蒸着層を形成することのできる真空蒸着装置、および、そのような真空蒸着を行うための前処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide an organic platinum complex having good light emission properties (luminance, quantum efficiency, driving voltage), durability, and vapor deposition properties, and a light-emitting device containing the same.例文帳に追加
発光特性(輝度、量子収率、駆動電圧)、耐久性、蒸着性が良好な有機白金錯体、およびそれを含む発光素子の提供にある。 - 特許庁
To provide a new vaporization source of a metal precursor used for chemical vapor deposition (CVD) of group 2 alkaline earth metal-containing oxide films and the like.例文帳に追加
第2族アルカリ土類金属含有酸化物膜などの化学気相成長(CVD)に使用する新規な金属前駆体の揮発源の提供。 - 特許庁
In an element substrate 30 provided with a plurality of pixel regions 33 surrounded by a barrier rib 32, the organic functional layer is formed at the pixel regions 33 by the vapor deposition.例文帳に追加
隔壁32に囲まれた複数の画素領域33を備える素子基板30に、画素領域33に有機機能層を蒸着によって形成する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method of a vapor deposition thin film which has high precision and high manufacturing throughput, and provide a manufacturing method of an organic EL panel utilizing it.例文帳に追加
高精細で製造スループットの高い蒸着薄膜のパターン形成方法およびそれを利用した有機ELパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁
To increase capacity and prolong service life of a capacitor in which a dielectric layer and a metal thin-film layer are laminated and formed by vapor deposition.例文帳に追加
本発明は、誘電体層と金属薄膜層とを蒸着によって積層形成したコンデンサの大容量化と長寿命化を目的とする。 - 特許庁
To provide a production apparatus for film-deposited substrates which prevents the generation of film-undeposited parts of vapor deposition films, and thereby can hold many substrates while being made compact.例文帳に追加
蒸着膜の未成膜部分の発生を防止して、小型化を図りつつより多くの基板を保持可能とする成膜基板の製造装置を提供する。 - 特許庁
A capacitor film 11 is formed by providing both surfaces of an elastic dielectric film 12 with electrode layers 13 and 14 by vapor deposition or printing and folded up into concertinas.例文帳に追加
弾性誘電体フィルム12の両面に蒸着又は印刷により電極層13,14を設けてなるコンデンサフィルム11を、蛇腹状に折り畳む。 - 特許庁
Specifically, the methods relate to substantially preventing formation of unwanted materials on an isolation valve fixture within a chemical vapor deposition (CVD) reactor.例文帳に追加
具体的には、この方法は、化学気相成長(CVD)反応器内の隔離弁取付具上の不要な材料の形成を実質的に防止することに関する。 - 特許庁
After the member to be subjected to vapor deposition has been housed within the vacuum chamber, evacuation from an inside of the vacuum chamber is started and the inside of the vacuum chamber is made into a reduced pressure state.例文帳に追加
真空槽内に被蒸着物が収容された後に、真空槽内からの排気が開始され、真空槽内が減圧状態にされる。 - 特許庁
To provide a method of forming a film capable of assuring the uniformity of alignment without increasing a vapor deposition distance even when a substrate of a large area is used.例文帳に追加
大面積の基板を用いた場合でも、蒸着距離を大きくすることなく、配向の均一性を確保可能な膜の形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a carbon film depositing method by which a carbon film with which no contaminant is mixed can be deposited without sputtering the structure member of a CVD(chemical vapor deposition) device.例文帳に追加
CVD装置の構造部品をスパッタリングすることなく、汚染物の混入がないカーボン膜を形成できるカーボン膜形成方法を提供する。 - 特許庁
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