「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(78ページ目) - Weblio英語例文検索

A translucent mirror vapor-deposition face (HM) transmits/ reflects light, a PBS(Polarizing Beam Splitter) (RT) transmits through a linearly polarized light in a 1st direction but reflects a linearly polarized light in a 2nd direction orthogonal to the 1st direction.例文帳に追加

半透過鏡蒸着面(HM)は光の透過・反射を行い、ＰＢＳシート(RT)は第１振動方向の直線偏光を透過させ、それに直交する第２振動方向の直線偏光を反射させる。 - 特許庁

To provide a metallized film capacitor capable of improving the certainty of a fuse operation by making the vapor deposition metal of a fuse easy broken and scattered when an excess short-circuit current flows to the fuse.例文帳に追加

ヒューズ部に過大な短絡電流が流れたときに、ヒューズ部の蒸着金属が破壊、飛散し易くし、これによりヒューズ動作の確実性を向上することが可能な金属化フィルムコンデンサを提供する。 - 特許庁

This laminate includes a base material and the transfer layer, and the transfer layer comprises at least a release layer, a vapor deposition layer, a heat-resistant layer and the adhesive layer formed in that order on the base material.例文帳に追加

基材と転写層とを備え、前記転写層は前記基材上に少なくとも剥離層、蒸着層、耐熱層、接着層をこの順で備えていることを特徴とする積層体とする。 - 特許庁

To provide an inexpensive silicon oxide-based porous molding that can remarkably suppress generation of splash when used as a vapor deposition material, and to provide a manufacturing method of the same.例文帳に追加

本発明の目的は、蒸着材料として使用した場合に、スプラッシュの発生を顕著に抑制できる、安価な、珪素酸化物系多孔質成型体ならびにその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a solar cell module in which a photoelectric conversion element is formed by vapor deposition and achieves excellent battery performance and moisture resistance without impairing strength, and to provide a manufacturing method of the solar cell module.例文帳に追加

光電変換素子が蒸着により形成されており、強度を損なうことなく優れた電池性能及び防湿性を備える太陽電池モジュール及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for increasing the hardness of an Al coating film formed by vapor deposition on the surface of the object is characterized in that Cu and/or Mg is incorporated by 0.1 wt.% to 20 wt.%.例文帳に追加

本発明の被処理物の表面に蒸着形成されるＡｌ被膜の硬度を高める方法は、Ｃｕおよび／またはＭｇを０．１ｗｔ％〜２０ｗｔ％含ませることを特徴とする。 - 特許庁

The magnetic films 7, 8 are laminated to form a plurality of layers while separated by an insulating film 6b, by the physical vapor deposition method, although the magnetic film is film-formed of a single layer on the base material in the prior art.例文帳に追加

従来では基材上に磁性膜を単層で成膜したが、本実施形態では、磁性膜７，８を複数層に絶縁膜６ｂを介して分断して物理蒸着法にて積層した。 - 特許庁

A reflective film 19 is formed on the entire surface of a first insulating film 16a by, for example, spattering or vapor deposition, and a barrier metal film 23 having a predetermined pattern is formed on the reflective film 19 by a lift-off method.例文帳に追加

スパッタや蒸着などによって、第１絶縁膜１６ａの全面に反射膜１９を形成し、リフトオフ法によって反射膜１９上に所定のパターンのバリアメタル膜２３を形成する。 - 特許庁

The method for producing a carbon nanotube matrix by a chemical vapor deposition method whose grown length is uniform and controlled, which is not tied and which is easily dispersible comparing with conventional techniques is provided.例文帳に追加

従来の技術に比べて、本発明は化学気相成長法により、一種の生長の長さが均一で且つ制御され、結ばなく、分散し易い炭素ナノチューブのマトリックスの製造方法を提供する。 - 特許庁

There is also disclosed a method for producing the crystalline human Mnk-1 kinase preparations, wherein the Mnk-1 kinase is expressed as a fusion protein in Escherichia coli and the crystals are grown by using a vapor diffusion deposition process.例文帳に追加

前記Ｍｎｋ−１キナーゼが、大腸菌中の融合タンパク質として発現され、結晶が拡散蒸着によって成長される、前記結晶ヒトＭｎｋ−１キナーゼ調製物の製造方法。 - 特許庁

Therefore, it is not necessary to apply a reflection treatment such as aluminum vapor deposition to the surface of the light-transmitting member 30 in order that a light-reflecting function is given to a part of the light-transmitting member 30 as a reflector 24 as conventionally.例文帳に追加

これにより、従来のように、透光部材３０の一部にリフレクタ２４としての光反射機能を持たせるために、その表面にアルミ蒸着等の反射処理を施す必要をなくす。 - 特許庁

The mask for vapor deposition 10 has a structure wherein a plurality of chips 20 are attached to the rectangular supporting substrate 30 composing a base substrate, provided that irregularities 28a are formed on bonded surfaces 28 of the chip side.例文帳に追加

蒸着用マスク１０は、ベース基板をなす矩形の支持基板３０に、複数のチップ２０を複数、取り付けた構成を有しており、チップ側接合面２８に凹凸２８ａが形成されている。 - 特許庁

In the dispersion type EL element of the present invention, a film thickness of the light-emitting layer 3 is 80 to 100 μm, and the back electrode 5 is formed on the dielectric layer 4 by pressure bonding, vapor deposition, or sputtering.例文帳に追加

本発明の分散型ＥＬ素子では、発光層３の膜厚は８０〜１００μｍであり、背面電極５は誘電体層４上に圧着、蒸着もしくはスパッタリングにより形成される。 - 特許庁

To provide a vapor deposition system which has high availability efficiency for a material gas and can inhibit the introduction of defects into a grown film, a compound semiconductor film which has only a few defects, and its growth method.例文帳に追加

原料ガスの利用効率が高く、成長膜への欠陥導入を抑えることができる気相成長装置、欠陥の少ない化合物半導体膜及びその成長方法を提供する。 - 特許庁

At this time, since the stable vapor beam is emitted from the surface of the hearth liner 63a, the metal can easily be buried in the surface of the substrate WA, so that the deposition of the wiring film is made easy.例文帳に追加

この際、ハースライナー６３ａの表面から安定した蒸気ビームが出射するので、基板ＷＡ上に金属を簡易に埋め込むことができ、かかる配線膜の成膜が容易になる。 - 特許庁

The raw material film 12 is adhered to the can-roller 14 by applying a bias voltage between an auxiliary roller 18 for guiding the raw material film 12 and the can-roller 14 after the vapor deposition of the metal film.例文帳に追加

金属膜の蒸着後においては、原料フィルム１２をガイドする補助ローラ１８とキャンローラ１４との間にバイアス電圧を印加することにより原料フィルム１２をキャンローラ１４へ密着させる。 - 特許庁

The mirror 1 includes synthetic resin material composed of plate-like transparent acrylic resin, a reflecting layer on a back face formed by vapor deposition of aluminum, and magnet material adhering to a back face of the reflecting layer.例文帳に追加

鏡１は、平板状の透明なアクリル樹脂からなる合成樹脂材と、その裏面にアルミニウムを蒸着させた反射層と、この反射層の裏面に貼着したマグネット材とから構成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method by which carbon nanotube is synthesized at a low temperature by a chemical vapor deposition method, a manufacturing apparatus for the same, a catalyst used for the same and a method of manufacturing the catalyst.例文帳に追加

カーボンナノチューブを化学気相成長法において低温で合成可能な製造方法、製造装置、及び、これらに使用される触媒及び当該触媒の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the first film-forming step, a first film 103 with the thickness of ≥3 nm is formed on a particle irradiation surface of the substrate 101 after the pre-irradiation step by an ion assisted vapor deposition method using ion beams.例文帳に追加

第１の成膜工程では、前照射工程後の基板１０１の粒子照射面にイオンビームを用いたイオンアシスト蒸着法によって第１の膜１０３を３ｎｍ以上の厚みで成膜する。 - 特許庁

The oxide vapor deposition material is characteristically configured by a sintered body containing gadolinium with a Gd/In atomic ratio of 0.001 to 0.070 and indium oxide as a chief ingredient, and has an L* value of 60 to 94 in CIE1976 color system.例文帳に追加

この酸化物蒸着材は、酸化インジウムを主成分とし、Gd／In原子数比で0.001〜0.070のガドリニウムを含む焼結体により構成され、かつ、CIE1976表色系におけるＬ^＊値が60〜94であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical fiber preform, by which the glass particulates formed by a vapor-phase axial deposition method can be efficiently deposited at a high speed, and a porous preform can be stably grown.例文帳に追加

気相軸付け法により生じたガラス微粒子を高速度で効率良く堆積させ、多孔質母材を安定して成長させることのできる光ファイバ母材の製造方法を提供する。 - 特許庁

The formation of the translucent thin film by physical vapor deposition includes ionizing a first gas containing at least one included in a first compound group containing any one of carbon, silicon and germanium.例文帳に追加

透光性薄膜を物理的蒸着により形成することは、炭素、ケイ素、ゲルマニウムのいずれかを含む第１の化合物群に含まれる少なくとも１種を含む第１の気体をイオン化することを含む。 - 特許庁

By forming the incomplete alumina film in the windup vacuum vapor deposition apparatus 1 with the configuration, a period of treatment time in a later aging treatment step can be shortened compared to the conventional method.例文帳に追加

この構成の巻取式真空蒸着装置１で不完全なアルミナ膜を成膜することにより後のエージング処理工程において処理時間を従来よりも大幅に短縮することができる。 - 特許庁

2. Metal-organic chemical vapor deposition reactors that grow compound semiconductor crystals by causing a chemical reaction among materials that fall under item (xx) or item (xxi) 例文帳に追加

（二）　有機金属化学的気相成長反応炉であって、第二十号又は第二十一号に該当する材料を化学的に反応させることにより化合物半導体の結晶を成長させるもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

The positive electrode 3 for the lithium battery includes a thin film by a vapor deposition method as the main constituting part, and the thin film includes a complex oxide containing lithium and manganese, and carbon.例文帳に追加

本発明のリチウム電池用正極３は、気相成長法による薄膜を主構成部とし、該薄膜が、リチウムおよびマンガンを含む複合酸化物と、カーボンとを備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a grid polarizer manufacturing method with which a large-sized grid polarizer having the grid shaped pattern of submicron order can be economically manufactured by precise fine processing and vapor deposition.例文帳に追加

サブミクロンオーダーの格子形状を有するグリッド偏光子を、精密微細加工及び蒸着により大面積で経済的に製造することができるグリッド偏光子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The plastic lens is manufactured by forming the antireflection film by a vapor deposition method after performing oxygen radical treatment to the surface of the base material of the plastic lens which has the hardening coating film containing the titanium oxide particulates.例文帳に追加

酸化チタン微粒子を含む硬化被膜を有するプラスチックレンズ基材表面に酸素ラジカル処理を施したのち、蒸着法により反射防止膜を形成させてプラスチックレンズを製造する。 - 特許庁

The vapor-deposition carbon fiber is produced by contacting a gas containing carbon monoxide with an amorphous metal containing one or more metals selected from iron, cobalt and nickel.例文帳に追加

鉄、コバルト及びニッケルからなる群より選ばれる１又は２以上を含有する非晶質金属と一酸化炭素を含有するガスとを加熱状態で接触させ、気相成長炭素繊維を生成させる。 - 特許庁

A metal vapor deposition electrode has effective electrodes overlapping in the opposite direction of the pair of metalization films, and ineffective electrodes which connect the effective electrodes electrically to the metallikon electrodes.例文帳に追加

金属蒸着電極は、一対の金属化フィルムの対向方向に重なり合う有効電極部と、該有効電極部をメタリコン電極に電気的に接続する非有効電極部とを有している。 - 特許庁

This material is used to form a conductive Ti-Zr based barrier film by chemical vapor deposition and contains a halogenated Ti-based compound (e.g. TiCl4) and a halognated Zr-based compound (ZrCl4).例文帳に追加

ケミカルベーパーデポジションにより導電性Ｔｉ−Ｚｒ系バリア膜を形成する為の材料であって、ハロゲン化Ｔｉ系化合物（ＴｉＣｌ_4 等）とハロゲン化Ｚｒ系化合物（ＺｒＣｌ_4 等）とを含む。 - 特許庁

The vacuum arc vapor deposition apparatus has an arc power source 30 to supply the arc current I_A of triangular waveform to a vacuum arc evaporation source 12 as the arc power source for the vacuum arc evaporation source 12.例文帳に追加

この真空アーク蒸着装置は、真空アーク蒸発源１２用のアーク電源として、真空アーク蒸発源１２に三角波状のアーク電流Ｉ_Ａ を供給するアーク電源３０を備えている。 - 特許庁

The method includes generating plasma by vacuum discharge between a cathode (first electrode) 102 and an anode (second electrode) 107, and performing on a substrate 109 a vapor deposition or the like utilizing the plasma.例文帳に追加

陰極（第一電極）１０２と陽極（第二電極）１０７との間の真空放電によりプラズマを発生させて、該プラズマを利用して基板１０９に対して蒸着等の加工をするプラズマ加工法。 - 特許庁

The precision of the film thickness control is improved by correcting the measured date by the film thickness sensor 20 for control based on the correction value obtained by the film thickness sensor 40 for correction which measures the vapor deposition rate discontinuously.例文帳に追加

不連続的に蒸着レートを計測する補正用膜厚センサー４０による補正値に基づいて、制御用膜厚センサー２０の計測データを補正することで、膜厚制御の精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a tritium sampler capable of avoiding the deposition of a tar like material to a sample water collecting device and suppressing an error when obtaining the density of water vapor of a sample gas.例文帳に追加

試料水捕集装置へのタール状物質の付着を回避することができると共に、サンプルガスの水蒸気密度を求める際の誤差を抑制することができるトリチウムサンプラを提供する。 - 特許庁

To provide a polyester film for vapor deposition having high reflectance, excellent frictional properties with a methacrylic resin, allowing an easy winding operation, and being mainly used for a reflection film of a liquid crystal display screen.例文帳に追加

高い反射率を有し、メタクリル樹脂との摩擦特性に優れ、巻取作業性も良好な主に液晶表示板の反射フィルム用途に用いられる蒸着用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus which prevents a substrate from freely rotating in a recess for supporting the substrate, simultaneously prevents the substrate from being bent due to thermal expansion, and prevents a susceptor and a substrate holder from being damaged.例文帳に追加

基板支持用凹部内での基板の自由な回転を防止するとともに、熱膨張による基板の反りやサセプタ、基板ホルダの損傷も防止することができる気相成長装置を提供する。 - 特許庁

To stably manufacture a gas barrier film having a desired gas barrier property by depositing the gas barrier film by plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) using a roll-to-roll manufacturing apparatus.例文帳に追加

ロール・ツー・ロールの製造装置を用いてプラズマＣＶＤによってガスバリア膜を成膜するガスバリアフィルムの製造において、目的とするガスバリア性を有するガスバリアフィルムを安定して製造することを可能にする。 - 特許庁

The vacuum vapor-deposition apparatus 1 comprises: an evaporation section 4, a crucible-exchanging section 5, and a discal turret disc 14 which is rotatably arranged in between the evaporation section 4 and the crucible-exchanging section 5.例文帳に追加

真空蒸着装置１は、蒸発部４と、坩堝交換部５と、これらの蒸発部４と坩堝交換部５との間に回転可能に配設された円盤状のターレットディスク１４とから構成される。 - 特許庁

To obtain a porous glass body by a vapor phase deposition capable of manufacturing a fluorine-added synthetic quartz glass material where fluorine is uniformly added and distortion hardly remains.例文帳に追加

気相法で得られた多孔質ガラス体であって、均一なフッ素の添加ができ、かつ歪みがほとんど残ることがないフッ素添加合成石英ガラス材を製造できる多孔質ガラス体を得ることにある。 - 特許庁

The substrate 100 is set in a vessel of a heat CVD (chemical vapor deposition) apparatus and is heated in an atmosphere including a hydrocarbon gas as a raw material gas to grow the carbon nanotube on the non-catalyst metallic layer 2.例文帳に追加

基板１００を熱ＣＶＤ装置の容器内にセットし、炭化水素ガスを原料ガスとして含む雰囲気中で加熱することにより、触媒金属層２上にカーボンナノチューブを成長させる。 - 特許庁

To provide an SiC substrate which does not adhere to a susceptor, when the SiC substrate placed on the susceptor is grown by vapor phase deposition, and is not damaged when it is peeled.例文帳に追加

ＳｉＣ基板をサセプター上に載置し、気相成長する場合に、ＳｉＣ基板がサセプターに固着せず、剥がすときにＳｉＣ基板の損傷を防止することができるＳｉＣ基板を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the proton conductor 30 includes a process for forming the proton conductor formed of AB_2O_7 type electrolyte in which an A site contains Sn and a B site contains P by using a physical vapor deposition method.例文帳に追加

プロトン伝導体（３０）の製造方法は、物理蒸着法を用いて、ＡサイトがＳｎを含みかつＢサイトがＰであるＡＢ_２Ｏ_７型の電解質からなるプロトン伝導体を成膜する工程、を含む。 - 特許庁

To provide a method for producing a silicon nitride film or silicon oxynitride film having excellent film characteristics at a relatively low temperature by a chemical vapor deposition (CVD) method without being accompanied by formation of ammonium chloride.例文帳に追加

塩化アンモニウムの生成を伴うことなく、比較的低温で、優れた膜特性を有するシリコン窒化物膜もしくはシリコンオキシ窒化物膜をＣＶＤ法により製造するための方法を提供する。 - 特許庁

This painted wall/painted roof substrate sheet is constituted by laminating an aluminum vapor deposition film on one face of a foaming resin sheet and laminating a water absorbing nonwoven fabric on the other face.例文帳に追加

本発明は、発泡樹脂シートの一面にアルミ蒸着フィルムが積層されており、他面に吸水性不織布が積層されていることを特徴とする塗壁・塗屋根下地シートを提供する。 - 特許庁

In this method, a high fusing point metal film is stacked on a semiconductor wafer by chemical vapor deposition method, and then the ions of an inert gas are injected into the above high fusing point metallic film.例文帳に追加

本願の代表的な発明は、化学気相成長法により高融点金属膜を半導体ウエハ上に堆積した後、不活性ガスのイオンを前記高融点金属膜中に注入することである。 - 特許庁