「rate of deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent a drop of working rate, and a deposition of reaction by-products on a processing chamber and an exhaust passage, which become a reason of increasing of a maintenance cost in a film deposition apparatus.例文帳に追加

成膜装置において稼働率の低下とメンテナンス費用アップの原因となる処理室や排気経路への反応副生成物の堆積を防止する。 - 特許庁

It is shown that addition of small amounts of organic amines enhance the deposition rate of titanium nitride, while the presence of hydrocarbons, such as n-decane, retard the deposition rate of titanium nitride.例文帳に追加

少量の有機アミンの添加は窒化チタンの堆積速度を高めるが、一方、ｎ−デカンおよび類似の炭化水素のような炭化水素の存在は窒化チタンの堆積を阻害することが示される。 - 特許庁

To achieve short-term and long-term stability of film deposition rate while uniformizing film thickness.例文帳に追加

膜厚の均一化を図りつつも、成膜レートを短期的にも長期的にも安定させる。 - 特許庁

To provide a film deposition system where a film of high quality can be stably deposited at a high film deposition rate by plasma CVD.例文帳に追加

プラズマＣＶＤによって、高い成膜レートで高品質な膜を安定して成膜することができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

In succession, the substrate is heated to the temperature higher than the crystallization temperature and the deposition layer is deposited under the crystallization effected in the state of the crystallization rate R higher than the deposition rate S.例文帳に追加

続いて、結晶化温度より高い温度に基板を加熱し、結晶化速度Ｒが堆積速度Ｓより大きい状態で堆積層を折衝貸しながら成膜する。 - 特許庁

To improve the adhesion of the film to be deposited, to efficiently control film deposition conditions, and to improve a film deposition rate in an aerosol gas deposition process.例文帳に追加

エアロゾルガスデポジション法において、形成される膜の密着力の向上、及び成膜条件の効率的な制御、及び成膜レートの向上を目的とする。 - 特許庁

To provide a film deposition system by which the ionization rate of particles for film deposition can be efficiently increased by a simple method and also controllability at film deposition can be improved.例文帳に追加

成膜用の粒子のイオン化率を簡易な手法で効率よく高めることができ、成膜に際しての制御性に優れた成膜装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an epoch-making vapor deposition system which can stably control a vapor deposition rate for a long period of time and has extremely excellent practicality, and to provide a vapor deposition method.例文帳に追加

長時間安定して蒸着レート制御することができる極めて実用性に秀れた画期的な蒸着装置並びに蒸着方法を提供するものである。 - 特許庁

To reduce the number of macroparticles sticking on a substrate for film-deposition while maintaining a film deposition rate when a film is deposited by an FCA (Filtered Cathodic Arc) method, with respect to a film deposition apparatus and method.例文帳に追加

成膜装置及び成膜方法に関し、ＦＣＡ法により成膜する際に、成膜レートを維持しつつ、被成膜基板上に付着するマクロパーティクル数を低減する。 - 特許庁

To provide a method and a system for vacuum deposition by which the deposition rate of a vapor deposition material can be controlled with greater follow-up properties than heretofore.例文帳に追加

従来より蒸着物質の蒸着速度を追従性良く制御することができる真空蒸着方法及び真空蒸着装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a crucible capable of preventing blocking of an opening part by a vapor deposition material and film-depositing a film of high quality at a stable film-deposition rate.例文帳に追加

蒸着材料による開口部の閉塞を防止し、安定した成膜レートで高品質な膜を成膜することが可能な坩堝を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method for making service life of a quartz plate longer without degrading detection accuracy of a vapor deposition rate and thereby improving an operation rate.例文帳に追加

蒸着速度の検出精度を低下させることなく水晶板の長寿命化が可能で、これにより稼働率の向上を図ることが可能な蒸着方法を提供する。 - 特許庁

The method may introduce carrier gas at a flow rate of less than or equal to the flow rate of the organosilicon compound to facilitate deposition.例文帳に追加

場合により、堆積処理を容易にするために、有機シリコン化合物の流量以下の流量でキャリヤガスを導入してもよい。 - 特許庁

To provide a film deposition device and a film deposition method where the control of a film deposition rate can be performed at high precision, and a film is deposited with high reproducibility allowing a mass-production of elements.例文帳に追加

成膜速度の制御を精度良く行うことが可能であると共に、素子の量産が可能な高い再現性の成膜を可能とする成膜装置および成膜方法を実現する。 - 特許庁

Here, the deposition rate of the CeO_2 thin film in the deposition step is ≥30 nm/min, and the temperature of the oriented metal substrate in the deposition step is 750-1,100°C.例文帳に追加

そして、成膜工程におけるＣｅＯ_２膜の成膜速度は３０ｎｍ／分以上であり、成膜工程における、配向性金属基板の温度は７５０℃以上１１００℃以下である。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus to deposit a film on a vapor deposition surface of a substrate by vaporizing a vapor deposition material by a vapor deposition source has a shutter to regulate the vapor deposition rate in a vicinity of an aperture of the vapor deposition source, and very small irregularities are formed on a surface of the shutter on the vapor deposition source side.例文帳に追加

本発明の蒸着装置は、蒸着源により蒸着材料を気化させて、基板の蒸着面に膜形成を行う蒸着装置において、前記蒸着源の開口部の近傍に、蒸着レートを調整するためのシャッターを備え、前記シャッターの前記蒸着源側の面に、微細な凹凸を形成したものである。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system where the control of a vapor deposition rate to the body to be vapor-deposited can be swiftly and correctly performed.例文帳に追加

被蒸着体への蒸着速度の制御を迅速に且つ正確に行なうことができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method where the thickness distribution of a thin film deposited on a substrate can be improved without reducing a film deposition rate.例文帳に追加

成膜レートを低下させることなく、基板上に形成される薄膜の厚み分布を改善できる成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a source gas feeding device where, upon thin film deposition by a chemical vapor deposition process, the flow rate of a source gas can be regulated.例文帳に追加

化学蒸着法による薄膜蒸着時に、ソースガスの流量を調節することができるソースガス供給装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition system where a film of high quality having no unevenness in film thickness can be deposited at a high film deposition rate by plasma CVD.例文帳に追加

プラズマＣＶＤによって、高い成膜レートで、かつ、膜厚ムラの無い、高品質な膜を成膜できる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a carbon film deposition method capable of increasing the film deposition rate when depositing a carbon film by a plasma CVD process.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法による炭素膜の形成における成膜速度の向上を可能とする炭素膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To achieve faster deposition rate of a magnetic material film as well as long-term deposition stability in a facing target type sputtering apparatus.例文帳に追加

対向ターゲット式スパッタ装置において、磁性体膜の成膜速度を高速化するとともに、長時間の成膜安定性を実現する。 - 特許庁

To provide a plasma film deposition system capable of depositing an electrically conductive film with a uniform film thickness without reducing a film deposition rate.例文帳に追加

成膜速度を低下させることなく、膜厚が均一な導電膜を成膜することができるプラズマ成膜装置を提供する。 - 特許庁

To improve the utilizing efficiency of a target, the sputtering rate and the precision of film deposition thickness in a sputtering system.例文帳に追加

スパッタリング装置における、ターゲット利用効率及びスパッタ速度と、成膜厚の精度を向上する。 - 特許庁

To obtain an electroless plating method which is capable of making a deposition rate of plating films uniform in necessary positions.例文帳に追加

必要な位置におけるメッキ膜の成膜速度を均一にすることができる無電解メッキ方法を得る。 - 特許庁

Consequently, the improvement in the deposition rate and the prevention of the contamination of the microwave introducing window are made possible.例文帳に追加

その結果、成膜速度の向上およびマイクロ波導入窓の汚染防止を図ることができる。 - 特許庁

To realize the gas phase synthesis of diamond at a high film deposition rate with a film thickness distribution and a resistivity distribution reduced.例文帳に追加

高い成膜速度で、膜厚分布、抵抗率分布を小さくし、ダイヤモンドを気相合成する。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus to deposit a film on a vapor deposition surface of a substrate by vaporizing a vapor deposition material by a vapor deposition source has a shutter to regulate the vapor deposition rate between the vapor deposition source and the substrate, and very small irregularities are formed on a surface of the shutter on the vapor deposition source side in order to prevent separation of the deposited vapor deposition material.例文帳に追加

蒸着源により蒸着材料を気化させて、基板の蒸着面に膜形成を行う蒸着装置において、前記蒸着源と前記基板との間に、蒸着レートを調整するためのシャッターを備え、前記シャッターの前記蒸着源側の面に、付着する蒸着材料の剥離を防止するために、微細な凹凸を形成したものである。 - 特許庁

Thus, deposition of dust is hardly caused in the opening wall, and inhibition of favorable operation of the gas flow rate adjusting lever 26 due to deposition of dust can be prevented.例文帳に追加

これにより、前記開口壁での塵埃の堆積を発生し難くし、塵埃の堆積に伴う風量調整レバー２６の良好な動作の阻害を、防止することができる。 - 特許庁

To increase the deposition rate of a film reduced in macroparticles and to maintain stable vacuum arc discharge for a long period of time even in the case of deposition of an insulating film.例文帳に追加

マクロパーティクルの少ない皮膜の成膜速度を高めるとともに、絶縁性皮膜の成膜においても安定した真空アーク放電を長時間持続させる。 - 特許庁

Although a deviation of the film thickness is large when the deposition is executed at a high deposition rate, the film of the organic EL emission element is formed at a film thickness having a small deviation from the targeted film thickness by depositing the deposition material at a low deposition rate.例文帳に追加

そして高蒸発レートで蒸着を行なうと膜厚のずれが大きいが、高蒸発レートで蒸着した膜厚を測定し、測定値と目標とする膜厚との差を、低蒸発レートで蒸着することによって、目標とする膜厚とずれの小さい膜厚で成膜することができる。 - 特許庁

A ZnO sintered compact containing 0.1 to 15 mass% rare earth elements is used for a vapor deposition material, and film deposition is performed by a reactive vapor deposition process in an oxygen gas flow rate of 0 to 500 sccm and at a film deposition rate of 0.5 to 5.0 nm/s, so as to deposit a ZnO film having high moisture resistance.例文帳に追加

希土類元素を０．１〜１５質量％含むＺｎＯ焼結体を蒸着材に用い、反応性プラズマ蒸着法により酸素ガス流量０〜５００ｓｃｃｍ、成膜速度０．５〜５．０ｎｍ／秒で成膜を行い、高耐湿性のＺｎＯ膜を成膜する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition apparatus which can perform vapor deposition at an always high vapor deposition rate, and nevertheless does not give damage to a semiconductor substrate to be subjected to vapor deposition, and does not give rise to curing of a photoresist, and an electron beam irradiation method of the vacuum vapor deposition apparatus.例文帳に追加

常に高い蒸着レートにより蒸着を行うことができ、しかも蒸着を行う半導体基板に損傷を与えたり、フォトレジストの硬化を引き起こすことのない、真空蒸着装置及びこの装置の電子ビーム照射方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method capable of enhancing the cooling efficiency of a body to be processed, and increasing the film deposition rate even in the vacuum where the heat is hardly transferred.例文帳に追加

熱が伝わりにくい真空中においても、被処理体の冷却効率を向上させ、成膜速度を向上させた成膜方法を提供する。 - 特許庁

On the top surface of a g-SiN_x film 72 of average quality deposited at a high rate of deposition, a high-quality g-SiN_x film 74 is deposited at a low rate of deposition, and after that the amorphous silicon layer is deposited.例文帳に追加

高い堆積速度で堆積された平均的な品質のｇ−ＳｉＮ_X膜７２の頂面の上に低い堆積速度で高品質のｇ−ＳｉＮ_X膜７４を堆積し、次いで、アモルファスシリコン層を堆積する。 - 特許庁

To provide a system and a method for generating a high-frequency plasma, in which an amorphous silicon film, for example, can be deposition at a high rate, while conducting the distribution of film deposition rate very stably.例文帳に追加

例えばアモルファスシリコン等の製膜において、製膜速度分布を極めて安定して行うと共に、高速製膜が可能な高周波プラズマ発生装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide an organic vapor deposition method and a system therefor by which a film deposition rate can be controlled accurately by preventing the variation in an evaporation rate caused by the position of an evaporation source.例文帳に追加

蒸発源の位置に起因する蒸発レートの変動を防止することによって精確な成膜速度の制御を達成可能な有機蒸着方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an atomic layer deposition device which can improve the uniformity in the film quality and film deposition rate of a film formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成される膜の膜質および成膜レートの均一性を向上させることができる原子層成長装置を提供する。 - 特許庁

To provide a deposition method capable of forming a silicon nitride film having an excellent film quality with high insulating property and low etching rate while suppressing generation of particles, and having a high deposition rate.例文帳に追加

パーティクルの発生を抑制しつつ絶縁性が高くてエッチングレートが低い等のように膜質が良好で、しかも成膜レートも高いシリコン窒化膜を形成することが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

Then, the flow rate of the gaseous helium to be fed to the film deposition chamber 2 is controlled by a mass flow controller 7B, so that the film deposition rate of the DLC film to be deposited on a substrate 1 can be controlled.例文帳に追加

そして、成膜室２に供給されるヘリウムガスの流量をマスフローコントローラ７Ｂにより制御することによって、基板１上に成膜されるＤＬＣ膜の成膜レートを制御することができる。 - 特許庁

To decrease the ratio of raw materials discharged without contributing film deposition when performing plasma film deposition, while increasing film deposition rate and further avoiding inclusion of microparticles in the film.例文帳に追加

プラズマ成膜を行う際、成膜に寄与することなく排出される原材料の割合を低減するとともに成膜速度を大きくし、さらに、皮膜に微細粒子が含まれることを回避する。 - 特許庁

To provide a deposition apparatus where the structure of deposition arrangement for depositing a thin film on a wafer 24 with high uniformity is simplified, and the failure rate of the deposition arrangement is reduced, and its repair is facilitated.例文帳に追加

基板２４上に薄膜を高度に均一に形成するための蒸着装備の構造を簡単にして蒸着装備の故障率を減らして修理が容易な蒸着装置を提供する。 - 特許庁

In the method and system for vacuum deposition by which the vapor deposition material is evaporated in a vacuum chamber 10 to form a deposit film of the vapor deposition material on a substrate 40 for vapor deposition, pressure in the vacuum chamber 10 is controlled to control the deposition rate of the vapor deposition material.例文帳に追加

真空槽１０内部において蒸着物質を蒸発させて被蒸着物４０に蒸着物質の蒸着膜を成膜する真空蒸着法及び真空蒸着装置において、真空槽１０内部の圧力を制御することによって、蒸着物質の蒸着速度を制御することを特徴とする。 - 特許庁

As a result, the fall off of an average free stroke due to the rise of the internal pressure of the chamber is suppressed and the improving in the vapor deposition efficiency and the deposition rate is made possible.例文帳に追加

これにより、チャンバ内圧力の上昇による平均自由行程の低下を抑えられ、蒸着効率及び成膜レートの向上を図ることができる。 - 特許庁

To provide a method for producing a porous optical fiber preform, wherein the rate of deposition of fine glass particles and efficiency of deposition are improved.例文帳に追加

光ファイバ用多孔質母材の製造において、ガラス微粒子の堆積速度および堆積効率を向上する光ファイバ用多孔質母材の製造方法を提供する。 - 特許庁