「rate of deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

A plurality of guide passages 4a, 4b, 4c are provided, and the film thickness distribution on the film deposition surface 9 of a substrate is improved by controlling the flow rate of the molecular vapor and the directionality of molecular vapor.例文帳に追加

複数の案内路４ａ、４ｂ、４ｃを設け、この案内路４ａ、４ｂ、４ｃにより分子蒸気の流量と分子蒸気の方向性を制御することで基板８の成膜面９上の膜厚分布を改善するものである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film solar cell capable of increasing the input of high-frequency power to enhance a film deposition rate of a photoelectric conversion layer, and increasing photoelectric conversion efficiency of the thin film solar cell up to a high value.例文帳に追加

高周波電力の入力を上げて光電変換層の成膜速度を増加させ、かつ薄膜太陽電池の光電変換効率を高い値にすることができる薄膜太陽電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the metal vapor deposition film manufacturing method, when conductive metal is continuously vapor-deposited on a base film with a predetermined wetting tension, at least a part of a margin formed on a metal vapor deposition film is formed by a print roll with a margin pattern engraved thereon, and the conductive metal is vapor-deposited at a predetermined vapor deposition rate.例文帳に追加

所定の濡れ張力を有するフィルム基材に導電性金属を連続蒸着する際に、金属蒸着フィルムに形成されたマージンのうち少なくとも一部をマージンパターンが彫刻された印刷ロールによって形成し、かつ、所定の蒸着速度により導電性金属が蒸着されることを特徴とする金属蒸着フィルムの製造方法。 - 特許庁

To obtain rainwater permeation facilities capable of preventing deposition of sediment into the rainwater permeation facilities to prevent lowering of permeable capacity extending over a long period of time, and installing a mud accumulating tank facilitating maintenance and having a high acquisition rate of sediment.例文帳に追加

雨水浸透施設内への土砂の堆積を防止し、長期に渡って浸透能力の低下を防止することができ、且つ保守管理が容易な土砂の捕捉率の高い泥溜め槽を設置することで、雨水浸透性に優れた浸透施設を得る - 特許庁

In the two-stage cleaning steps, the etching rate of the first-stage cleaning step is made higher than the etching rate of the second-stage cleaning step, and the step is changed from the first-stage cleaning step to the second-stage cleaning step while a deposition film deposited in the vacuum chamber remains.例文帳に追加

二段階のクリーニング工程において、第１段階のクリーニング工程のエッチングレートを第２段階のクリーニング工程のエッチングレートよりも高速とし、真空チャンバ内に堆積する堆積膜が残存する間に第１段階のクリーニング工程から第２段階のクリーニング工程に変更する。 - 特許庁

To suppress the variation of effective magnetic flux, to increase the uniformity of a film, and increase the film deposition rate so as to improve the productivity by reducing the generation of eddy current caused by the rotation of a magnet and suppressing the variation in the speed of the revolution of the magnet.例文帳に追加

マグネットの回転によって生ずる渦電流の発生をできるだけ減少させ、マグネットの回転数の変動を抑制することによって、実効磁束の変動を抑制し、膜の均一性を高め、かつ成膜速度を上げ生産性を向上させる。 - 特許庁

Then, while reducing the flow rate of the inert gas to be supplied to the reaction chamber 2, a raw material gas is supplied into the reaction chamber 2 while increasing the flow rate, and the film is formed on the substrate 10 to be processed while maintaining the pressure inside the reaction chamber 2 at the deposition pressure.例文帳に追加

次に、反応室２に供給される不活性ガスの流量を減少させつつ、反応室２内に流量を増加させながら原料ガスを供給して、反応室２内の圧力を成膜圧力に維持しつつ被処理基板１０に膜を形成する。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering device high in a vapor deposition rate, film-forming a multi-element thin film at a high speed, flexible in the compositional control of the film, easily covering a dense multi-element thin film at a high speed and furthermore easily capable of the maintenance.例文帳に追加

蒸着速度が早く、多元素薄膜を高速で成膜し、膜の組成制御がフレキシブルで、緻密な多元素薄膜を高速で容易に被覆し、さらにはメンテナンスの容易なマグネトロンスパッタ装置を提供。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for forming a thin film, which can lower voltage of a plasma display panel and enhance the luminous efficiency, by forming a protective coating of high quality with a high deposition rate in low cost.例文帳に追加

成膜速度が速く低コストで良質の保護膜を形成することによって、プラズマディスプレイパネルの低電圧化と発光効率向上を図ることができる薄膜形成方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film formation method which can make an etching rate in cleaning to be relatively small by increasing concentration of a carbon contained even in deposition at a relatively low temperature thereby improving controllability of a film thickness in cleaning.例文帳に追加

比較的低温で成膜しても含有する炭素濃度を多くさせてクリーニング時のエッチングレートを比較的小さくでき、もってクリーニング時の膜厚の制御性を向上させることができる成膜方法を提供する。 - 特許庁

In the fixing device 25, the deposition rate of the toner depositing on the cleaning roller 256 or 257 in the figure is made ≤20%, or 30 mg per 1000 pieces of image charts in an image area ratio.例文帳に追加

本発明の定着装置２５では、図１のクリーニングローラ２５６または２５７に付着するトナーの付着速度を２０％画像面積率の画像チャート１０００枚あたり３０ｍｇ以下とするものである。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus capable of preventing degradation of the film deposition rate even when a target is continuously used, a PDP (plasma display panel) manufacturing device using the sputtering apparatus, a sputtering method, and a method for manufacturing a plasma display panel.例文帳に追加

ターゲットを継続して使用しても、成膜速度が低下することがないスパッタリング装置、このスパッタリング装置を利用したＰＤＰの製造装置、スパッタリング方法及びＰＤＰの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the outside vapor deposition (OVD) method performed by supplying a glass gaseous starting material, gaseous hydrogen and gaseous oxygen to a large number of the burners, the gas flow rate to each burner is uniformized by a pressure equalizer provided at the tip of a gas supply source.例文帳に追加

ガラス原料ガス、Ｈ_２ガス、Ｏ_２ガスを多本数バーナーに供給するＯＶＤ法において、ガス供給源の先に設けた圧力平均化装置によって、各バーナーへのガス流量が均一になるようにする。 - 特許庁

To provide a detergent composition having excellent detergency, which has a fast deposition rate of a polymer in the composition, does not cause a scratch to a hard surface, and does not give skin a feeling of stimulation.例文帳に追加

洗浄剤組成物中の高分子の析出速度が早く、硬表面に対しては傷をつけることがなく、また、肌に対しては刺激感がない優れた洗浄力を有する洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system where sufficient degassing can be performed, the perfect stop of the feed in the vapor of an evaporation material can be performed, and the evaporation material can be controlled to a desired vapor flow rate at high precision.例文帳に追加

十分な脱ガスができ、蒸発材料の蒸気の供給の完全停止を行うことができ、蒸発材料を所望の蒸気流量に高精度で制御できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide the viewport of a chemical vapor deposition device for manufacturing semiconductors that can prevent heat loss in a chamber, can minimize polymer adhesion to a silhouette window for facilitating the management, and can reduce the fail rate of products.例文帳に追加

チャンバー内の熱損失を防止し、透視窓へのポリマー凝着を極小化させてその管理を容易にし、製品不良率を低減することができる半導体製造用化学蒸着装置のビューポートを提供する。 - 特許庁

Thus, even bringing a substrate W close to the shield plates 18, the etching on the surface of the substrate by ions can be prevented, and the film deposition rate can be enhanced by increasing the amount of radicals reaching the substrate W.例文帳に追加

これにより、基板Ｗを遮蔽板１８に近づけてもイオンによる基板表面のエッチングを防ぐことができ、基板Ｗへ到達するラジカル量を増加させて成膜レートの向上を図ることが可能となる。 - 特許庁

To provide a method, an apparatus and a program for manufacturing an optical fiber preform by which the optical fiber preform small in the change of deposition in the longitudinal direction is manufactured only by the rate control of a heating source.例文帳に追加

熱源の速度制御のみにより長手方向における堆積量の変動が少ない光ファイバー母材を製造することができる光ファイバー母材の製造方法、製造装置および製造プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a waste straws-binding apparatus of a combine harvester capable of carrying out good binding by exhibiting sure and smooth conveying function without deposition stay and entrainment to a packer driving part in conveyance of waste straws at high flow rate.例文帳に追加

高流量の排ワラ搬送においてもパッカー駆動部への付着滞留や巻き込みなく確実かつ円滑な搬送機能を発揮して良好な結束を行うことができるコンバインの排ワラ結束装置を提供する。 - 特許庁

The device for manufacturing multilayered film optical filters which vapor-deposits a plurality of dielectric multilayered films is so constituted that the evaporation rate profile of a raw material is fed back to control an electron gun of a vapor-deposition source.例文帳に追加

複数の誘電体多層膜を蒸着する多層膜光学フィルターの形成装置であって、原料の蒸着速度分布をフィードバックし、蒸着源の電子銃を制御するように、多層膜光学フィルター形成装置を構成する。 - 特許庁

To provide a method for producing a multilayer thin film capable of easily making its quality to the high one by stabilizing the flow rate of 2nd gas in a chemical vapor deposition method in which the 2nd gas is intermittently mixed at the time of film formation by a 1st gas.例文帳に追加

第１ガスによる成膜時に第２ガスを間欠的に混合する化学蒸着法において、第２ガスの流量を安定化させて容易に高品質化できる多層薄膜の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electronic component for executing Cu plating of high film deposition rate even when a Cu-plated film is formed on the surface of an electrode of the electronic component without using any power source or without performing any catalyst treatment.例文帳に追加

電子部品の電極表面に対し、電源を用いず、かつ触媒処理も行わずＣｕめっき皮膜を形成する場合においても、成膜速度の高いＣｕめっきを可能とする電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method for controlling scan is characterized by inputting waveform data for making the molten surface flat to MPU 11, based on the molten surface of the vapor deposition material obtained by scanning of the electron beam by the use of a generally used triangular wave having a constant scan rate.例文帳に追加

一般的に用いられているスキャン速度が一定の三角波により電子ビームをスキャンして得られる蒸着材料の溶融面を基にした、溶融面が平坦となる波形データをＭＰＵ１１に入力する。 - 特許庁

To provide a method for forming a deposition film, which can form a reaction film in a satisfactory bottom-coverage rate even on a substrate with a groove of a high aspect ratio and a hole and even on a substrate with a low heat-resistance such as a resin substrate, regardless of material of the substrate.例文帳に追加

アスペクト比の高い溝、及びホールを有する基板に基板の材質を問わず、例えば樹脂基板のような耐熱性の低い基板にボトムカバレッジ率よく反応膜を成膜できる堆積膜形成法を提供すること。 - 特許庁

To provide a particulate-dispersed thin film in which the dispersing precision of the particles is high, the deposition rate is high, the fine adjustment of the compositional control is possible, and the latitude of design increases, and to provide a thin film production method.例文帳に追加

微小粒子を分散させた薄膜形成において、その薄膜中の微小粒子の分散精度がよく、堆積速度が速く、組成コントロールの微調整が可能で設計自由度が増加する薄膜及び薄膜製造方法。 - 特許庁

This vapor deposition apparatus has a flow-rate control device 6 for individually controlling amounts of a spouted gas to a plurality of sectioned regions by which a plurality of gas-spouting holes in a shower head 14 are concentrically sectioned from the center part toward the outer perimeter.例文帳に追加

シャワーヘッド１４における複数のガス噴出孔を中心部から外周に向かって同心に区画した複数の領域に対して、ガスの噴出量を個別に制御する流量制御装置６が設けられている。 - 特許庁

In the heating vessel of an organic thin film deposition device including a body in which a space part stored with an organic material is formed at the inside, and at least one or more discharge holes are formed at a closed upper part, and a heater provided to the outer circumferential face of the body, the size of the discharge hole is set by the volume of the body and a vapor deposition rate.例文帳に追加

内部に有機材料が収容される空間部が形成されて密閉された上部に少なくとも一つ以上の吐出孔が形成される本体と、上記本体の外周面に設けられるヒータを含む有機薄膜形成装置の加熱容器において、吐出孔の大きさが本体の容積、蒸着レートによって設定される。 - 特許庁

To provide a film deposition method capable of feeding a large amount of raw material gas in a processing vessel while maintaining the safety when intermittently feeding the raw material gas, not only enhancing the film deposition rate but also controlling the concentration of the element contained in the raw material gas in a film as a result, and increasing, for example, the concentration of the element.例文帳に追加

原料ガスを間欠的に供給する際に、安全性を維持しつつ多量の原料ガスを処理容器内へ供給することができ、この結果、成膜レートを向上できるのみならず、膜中における原料ガスに含まれる元素の濃度をコントロールして、例えばこの元素濃度を高くすることが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide an interest rate linked type credit server that activates an electronic commerce by allocating a calculated interest rate in the new balance, on the basis of an interest rate to preset transaction balance and credit balance or average credit balance at the same time with deposition of a transaction amount, in a credit server of a store side in the electronic commerce and giving incentive to a transaction activation to the store side.例文帳に追加

電子商取引における店舗側の預金サーバーに取引金額が入金されると同時に、事前に設定された取引高や預金残高又は預金平均残高に対する金利の利率にもとづき、新残高に算定した金利の計上を行い、取引発生に関するインセンティブを、店舗側に与え電子商取引の活性化を促せる金利連動型預金サーバーである。 - 特許庁

Further, the manufacturing method of the semiconductor circuit device includes a step of forming a second film by depsositing a TiN film by the chemical vapor phase deposition method (CVD) with a flow rate of tetrakis dimethylamino titanium (TDMAT) of 2 to 5 mg per minute.例文帳に追加

更に半導体回路装置の製造方法は、第１膜の上に、テトラキスジメチルアミノチタン（ＴＤＭＡＴ）の流量を毎分２〜５ｍｇとして化学気相蒸着法（ＣＶＤ）にてＴｉＮ膜を成膜して第２膜を形成するステップとを備えている。 - 特許庁

During deposition of lubricants, by heating and holding the substrate at 80 to 140°C, compared with the case of no heating, a coupled lubricant layer is made thicker, i.e., a rate of the coupled lubricant layer with respect to the total film thickness of the lubricant layer is set higher.例文帳に追加

潤滑剤の蒸着時に、基板を８０〜１４０℃に加熱保持することによって、加熱なしと比べて結合潤滑層を厚く、すなわち潤滑層の総膜厚に対する結合潤滑層の割合を高くすることができる。 - 特許庁

To provide a film deposition method in which the film deposition rate by the sputtering is reduced, a metal thin film with excellent coatability is formed on an inner wall surface and an inner bottom surface of a hole or a groove with the aspect ratio being ≥3 formed in a surface of a workpiece, and the self-hold discharge in a target is generated even with small power.例文帳に追加

スパッタリングによる成膜レートを低くし、被処理体の表面に形成されたアスペクト比が３以上の孔または溝の内壁面および内底面に被覆性が良好な金属薄膜を形成し、少ない電力でも、ターゲットにおける自己保持放電を発生させる成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a CeO_2 thin film, capable of securing excellent orientation and surface smoothness and increasing deposition rate, the CeO_2 thin film, and an apparatus for forming the CeO_2 thin film.例文帳に追加

優れた配向性および表面平坦性を確保しつつ、成膜速度を上昇させることが可能なＣｅＯ_２薄膜の製造方法、ＣｅＯ_２薄膜およびＣｅＯ_２薄膜の製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for the Diels-Alder reaction in which stable operation can be carried out over a long period and the effective conversion rate of ethylene can be improved to prevent a side reaction and deposition such as polymers.例文帳に追加

ディールス−アルダー反応において、長期にわたる安定運転を可能とし、エチレン有効収率を向上させ、かつポリマーなどの付着物の発生を防止し得る製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electroless gold plating liquid which exhibits a sufficient deposition rate even at a low liquid temperature of about 60 to 80°C, enables a satisfactory film appearance, and particularly has excellent stability.例文帳に追加

液温６０〜８０℃程度の低温であっても充分な析出速度を発揮し、皮膜外観が良好であり、且つ、めっき液の安定性が特に優れた無電解金めっき液を提供すること。 - 特許庁

To provide vacuum processing method and apparatus in which the SiH_2/SiH ratio does not rise even if the film deposition rate is increased, and high productivity can be attained by preventing aggravation of film quality.例文帳に追加

製膜速度を増加させてもＳｉＨ_２／ＳｉＨ比が高くならず、膜質の悪化を防いで高い生産性を得ることができる真空処理方法及び真空処理装置を提供すること。 - 特許庁

This method includes a step in which a high frequency pulse power source used for generating TEOS oxide plasma is fed to control the deposition rate of silicon dioxide on a substrate.例文帳に追加

該方法には、ＴＥＯＳ酸化物プラズマを生成するために用いられる高周波パルス電源を供給することにより、基板上の二酸化ケイ素の堆積速度を制御するステップが含まれる。 - 特許庁

To provide an electroless conversion gold-plating method which can form a uniformly gold-plated film at a constant deposition rate for a long term and greatly prolong the renewal time of a gold-plating solution.例文帳に追加

長期間に亘って安定な析出速度で均一な金めっき皮膜を形成でき、金めっき液の更新期間を大きく延長することが可能な置換型無電解金めっき方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the contained carbon density is made high, even if the film deposition is carried out at a comparatively low temperature, the etching rate during the cleaning can be made comparatively low, and the controllability of film thickness during the cleaning can be improved.例文帳に追加

これにより、比較的低温で成膜しても含有する炭素濃度を多くさせてクリーニング時のエッチングレートを比較的小さくでき、もってクリーニング時の膜厚の制御性を向上させる。 - 特許庁

To provide a target structure which enables sputtering of gallium or gallium-containing material in a molten state even when the film deposition rate is increased by increasing the input electric power and a sputtering apparatus including such a target structure.例文帳に追加

投入電力を増大させて成膜速度を高めても、溶融状態のガリウムあるいはガリウムを含む材料のスパッタリングを可能にするターゲット構造とこれを備えたスパッタリング装置。 - 特許庁

The precision of the film thickness control is improved by correcting the measured date by the film thickness sensor 20 for control based on the correction value obtained by the film thickness sensor 40 for correction which measures the vapor deposition rate discontinuously.例文帳に追加

不連続的に蒸着レートを計測する補正用膜厚センサー４０による補正値に基づいて、制御用膜厚センサー２０の計測データを補正することで、膜厚制御の精度を向上させる。 - 特許庁

To provide an epitaxial wafer manufacturing apparatus and manufacturing method with high productivity by improving film deposition rate, gas utilization efficiency, and gas replacement efficiency by suppressing backflow of reaction gas.例文帳に追加

反応後ガスの逆流を抑制することで、成膜速度とガス利用効率を向上し、ガスの置換効率を向上する、高生産性のエピタキシャルウェーハの製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁

To avoid erroneous determination as a failure of a thermal suction air flow rate detection device by the deposition of water on a heat regeneration resistance body and a temperature-sensing resistance body of the thermal suction air flow rate detection device, and to accurately detect an air amount sucked to an internal combustion engine even if suction pulsation is generated.例文帳に追加

熱式吸入空気流量検出装置の発熱抵抗体や感温抵抗体への水の付着により、熱式吸入空気流量検出装置の故障と誤判定してしまうことを回避し、且つ吸気脈動が発生している場合でも内燃機関に吸入される空気量を精度よく検出すること。 - 特許庁

A setting of an optical system as an optimum way of scanning charged particle beam, a beam staying period, and a scanning distance are found against an intended irradiation area for film formation and selective etching, depending on a deposition rate stored in advance or a scanning cycle dependent etching rate, and the result of judgment is displayed.例文帳に追加

成膜又は選択エッチングをするための所望の照射領域に対して，あらかじめ記憶したデポレート又はエッチングレートの走査周期依存性から，荷電粒子線の最適走査方法となる光学系の設定とビーム滞在時間と走査間隔を見つけ出し，その判断結果を表示する。 - 特許庁

The method for producing the silver-histidine polynuclear complex comprises dissolving the silver compound and histidine in water in a rate of 1 to 5 pts.mol of the histidine per pt.mol of the silver ions, heating the aqueous solution at 30 to 70°C to obtain the deposition mixture solution, separating the deposition mixture solution into the solid phase and the liquid phase, and then drying the solid phase.例文帳に追加

銀化合物とヒスチジンとを、銀イオン１モル部に対してヒスチジン１〜５モル部の割合で、水に溶解させて水溶液を得、 該水溶液を３０℃〜７０℃に加熱して析出混合液を得、 該析出混合液を固相と液相とに分離し、 次いで該固相を乾燥させることを含む製造方法によって銀−ヒスチジン多核錯体を得る。 - 特許庁