「rate of deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for forming a vapor-deposited film at a superior deposition rate, by applying an electron beam onto a vaporizing point of a vapor deposition material at a high incidence angle and optimizing a beam profile, when forming the vapor-deposited film on the surface of a substrate by using an electron-beam vapor deposition apparatus with the use of a piercing type electron gun.例文帳に追加

ピアス式電子銃を用いた電子ビーム蒸着装置を使用して基板の表面に蒸着被膜を形成するに際し、電子ビームを蒸着材料の蒸発ポイントに高い入射角で照射してビーム形状を最適化し、蒸着被膜を優れた成膜速度で形成する方法を提供すること。 - 特許庁

Further, a temperature elevation rate is made low before brought into the second crystallization starting temperature, when conducting the heat treatment concerned in the deposition of the nano-crystal phase.例文帳に追加

更に、ナノ結晶相の析出に係る熱処理を行う際に、第２結晶化開始温度に至る前に昇温速度を下げることとする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that reduces the difference in plating deposition rate between a central region and a outer region of a wafer to be reduced, and to provide a manufacturing method for the semiconductor device.例文帳に追加

ウェハの中心部と外周部でのメッキの析出速度の差を小さくできる半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electroplating device where the film deposition rate in the center of a substrate is increased, and the uniformity in a film thickness can be secured.例文帳に追加

本発明は、基板中心の成膜レートを上げての膜厚の均一性を確保することができる電解メッキ装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, in which a film having a high dielectric constant is formed at a high film deposition rate, and to provide a substrate processing apparatus.例文帳に追加

高誘電率膜を高い成膜レートをもって形成することができる半導体装置の製造方法及び基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a raw material having a high film deposition rate and a composite film that is made from the material and composed of carbon-containing silicon oxide having a superb gas-barrier property.例文帳に追加

成膜速度が大きい原料と、その原料を用いたガスバリア性能が大きい炭素含有酸化ケイ素からなる組成膜を提供する。 - 特許庁

Sputtering particles are made to fly from a helicon sputtering source 52 by setting a film deposition rate of a gold thin film 12 to the range from 0.01 nm/s to 0.6 nm/s.例文帳に追加

金薄膜１２の成膜速度を０．０１ｎｍ／ｓ以上、０．６ｎｍ／ｓ以下の範囲に設定し、ヘリコンスパッタ源５２からスパッタ粒子を飛翔させる。 - 特許庁

To provide a method of depositing a SiNx layer and an a-Si layer on a thin film transistor(TFT) substrate at a sufficient deposition rate keeping high film quality.例文帳に追加

ＴＦＴ基板上にＳｉＮ_Ｘ層及びａ−Ｓｉ層を充分な堆積速度で堆積し、膜品質を極高く維持する方法を提供する。 - 特許庁

In this way, it is possible to stabilize the blowout flow rate, blowout speed and blowout direction of a vapor deposition substance 118 vaporized at random inside the crucible.例文帳に追加

これにより、坩堝内部にてランダムに蒸発した蒸着物質１１８の噴出流量、噴出速度及び噴出方向を安定させることができる。 - 特許庁

To provide a method for providing films having improved characteristics such as an etching rate, the concentration of hydrogen, and stress as compared to the films by thermal chemical vapor deposition.例文帳に追加

熱化学気相堆積の膜に比較してエッチング速度、水素濃度、およびストレスなどの改善された特性を有する膜を与える方法の提供。 - 特許庁

Another method for forming layers having tapered edges includes the deposition of a layer in which the upper portion is etchable at a faster rate than the lower portion.例文帳に追加

テーパ縁を有する層を形成するための別の一方法は、上方部分が下方部分よりも速い速度でエッチング可能な層を堆積することを含む。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for manufacturing a cold mirror having excellent illuminance, heat resistance and durability and facilitating the control of vapor deposition rate and film thickness.例文帳に追加

照度、耐熱性及び耐久性に優れ、蒸着レート及び膜厚の制御が容易なコールドミラー製造方法及びその製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a hard carbon film, which method can improve the hardness and adhesion properties of the film and can make a deposition rate higher.例文帳に追加

膜の硬度と密着性を向上させた上に、成膜速度を速くすることが可能な硬質炭素膜の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

As the CVD method is used, a deposition rate of the viscoelastic buffer layer 2 is fast, and consequently the film with a practicable thickness is efficiently formed.例文帳に追加

ＣＶＤ法を用いているので、粘弾性緩衝層２の成膜速度が速く、実用的な厚さの膜を効率よく作成することができる。 - 特許庁

To perform deposition without entailing the degradation in a working rate by exchanging evaporation materials and film forming substrates even in a process in which the amount of formed films is great.例文帳に追加

形成膜量が多いプロセスにおいても、また、蒸発材料および被膜形成基板の交換による稼働率低下を来さず成膜を行う。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing apparatus and a semiconductor manufacturing method reducing the rejection rate of process gas without reducing the property of a membrane in a film deposition step.例文帳に追加

成膜工程において、膜質を低下させることなく、プロセスガスの廃棄率を低減させることが可能な半導体製造装置及び半導体製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for depositing a silicon nitride layer and an amorphous silicon layer on a thin film transistor substrate in a sufficient rate of deposition and for maintaining a high level quality of the film.例文帳に追加

薄膜トランジスタ基板上へ窒化珪素層及びアモルファスシリコン層を充分な堆積速度で堆積し、なお膜の品質を非常に高く維持する方法を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacture of an air flow rate control device and molding die thereof which prevent the deposition of a throttle body and a throttle valve and promote their separation.例文帳に追加

スロットルボディおよびスロットルバルブの溶着を防止し、離脱を促進させることが可能な空気流量制御装置の製造方法およびその成形金型を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma CVD device of a structure wherein the system is simple in constitution and a film of a uniform thickness can be easily formed on a large substrate at a rapid film deposition rate, and a film-forming method.例文帳に追加

簡単な構成にて、厚さが均一な膜を速い成膜速度で大きな基板に容易に形成できるプラズマＣＶＤ装置及び膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation source having a contamination barrier for reducing a deposition rate of ions, atoms, molecules, granular debris and the like on a collector mirror of an EUV radiation source.例文帳に追加

ＥＵＶ放射源の集光ミラー上へのイオン、原子、分子及び粒状デブリなどの堆積率を減少させるための汚染バリアを有する放射源を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target for depositing an oxide film capable of enhancing the production efficiency of a metal oxide film and thus an optical thin film or the like by suppressing reduction of the film deposition rate of the metal oxide film when performing the sputtering film deposition of the metal oxide film suitable for the optical thin film.例文帳に追加

光学薄膜に好適な金属酸化膜をスパッタ成膜するにあたって、金属酸化膜の成膜速度の低下を抑制することによって、金属酸化膜ひいては光学薄膜等の生産効率を高めることを可能にした酸化膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

When it is determined that the total amount of deposition of the printing agent (depositing rate on one face DO) from the image data to be printed exceeds a specified threshold value (25%) in S103, the processing of decreasing the total amount of the deposition of the printing agent is executed by a controlling means in S106.例文帳に追加

印刷される画像データに基づく印刷剤の全体付着量（片面付着率ＤＯ）が、Ｓ１０３において、所定の閾値（２５％）を超えると判断される場合に、Ｓ１０６において、制御手段によって印刷剤の全体付着量を低減させる処理が実行される。 - 特許庁

To provide a method and equipment for evaporating and concentrating waste liquid which can inhibit the deposition of organic components in the waste liquid caused by evaporation and concentration of the waste liquid while setting the evaporation/concentration rate of the waste liquid at a high value.例文帳に追加

廃液の蒸発濃縮倍率を高い値に設定しつつ、廃液の蒸発濃縮に伴って廃液中の有機成分が析出してしまうのを抑制する。 - 特許庁

To provide a device for treating sewage whose deposition rate of sludge in an anaerobic tank equipped with an anaerobic filter bed is retarded, whose frequency of sampling the sludge is not changed, and in which the size of anaerobic tank is reduced.例文帳に追加

嫌気濾床を備えた嫌気槽内での汚泥の堆積速度を遅くして、汚泥の抜き取り頻度を変えず且つ嫌気槽を小さくした汚水処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system where the moving amount of a vaporizing material from an evaporation source to the body to be vapor-deposited can be correctly controlled, and the control of a vapor deposition rate can be easily performed without depending on radiation heat from a cylindrical body.例文帳に追加

蒸発源から被蒸着体への気化物質の移動量を正確に制御することができ、筒状体からの輻射熱に左右されることなく、蒸着速度の制御を容易に行なうことができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

By thus detecting an end point based on the current integration value of the target, that is in proportion with the film thickness, the film thickness can be controlled in a high precision even when the deposition rate is varied during film deposition and the fluctuation of the film thickness between batches can be reduced.例文帳に追加

このように膜厚と比例関係にあるターゲット電流積算値により終点検知をすることにより、成膜中に成膜レートが変動しても高精度に膜厚を管理することができ、バッチ毎の膜厚バラツキを低減することができる。 - 特許庁

By performing film deposition in a state where the pressure in the discharge space is made higher than that in ordinary sputtering, while retaining a suitable film deposition rate, a porous film of high quality with the low refractive index which has been sufficiently reacted can be stably deposited.例文帳に追加

放電空間を通常のスパッタリングよりも高圧にして成膜を行うことで、適度な成膜レートを保ちながら、充分な反応を得た良質で屈折率の低い多孔質膜を安定して成膜することができる。 - 特許庁

To provide a device for fabricating an electrode by a roll-to-roll process and a method for fabricating an electrode, by which the process is made simple and the deposition rate and the deposition uniformity of lithium can be improved since lithium is vapor-deposited in a vacuum atmosphere.例文帳に追加

リチウムを真空雰囲気で蒸着するので工程が簡単になり、蒸着速度と蒸着の均一性を改善することのできる、ロールツーロール工程を用いた電極製造装置及び電極製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target capable of providing high moisture barrier properties and high flexibility to a sputtering film, ensuring the high film deposition rate in the sputtering, and reducing damages on an object for film deposition as much as possible.例文帳に追加

スパッタリング膜に高い水分バリア性と高い柔軟性を付与でき、合わせて、スパッタリングにおいて高い成膜レートを確保できると共に、成膜対象物へのダメージを可及的に軽減できるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a fuel cell system in which the efficiency of an entire system can be enhanced by increasing the boost pressure of an ejector while suppressing deterioration in carbon deposition or lowering of reform rate of a reformer.例文帳に追加

改質器の炭素析出劣化や改質率の低下を抑制しつつ、エゼクタの昇圧圧力を高めてシステム全体の効率を向上させることが可能な燃料電池システムを提供する。 - 特許庁

To prevent the generation of the scattering of an electrode binder manufacturing a non-aqueous electrolyte secondary in cell, for example to reduce the generation rate of inner short circuit (OCV) due to the deposition of metal lithium.例文帳に追加

非水電解質２次電池を製造する際に、電極合剤の飛散が起きてしまうのを防止し、これにより例えば金属リチウム析出による内部ショート（ＯＣＶ）の発生率を低減させる。 - 特許庁

The method may also include an increase of a ratio of the silicon-containing precursor to the oxidizing gas flowing into the chamber as time passes, to alter a rate of deposition of the dielectric material.例文帳に追加

また、この方法は、時間の経過と共に、チャンバ内に流されるシリコン含有前駆物質と酸化ガスの比を増加させて、誘電体材料の堆積速度を変更するステップを含んでもよい。 - 特許庁

A design method of the optical thin film obtains desired optical characteristics by introducing time parameters during designing the optical thin film and considering time change of the refractive index and dispersion of the material and rate change of the material during deposition.例文帳に追加

光学薄膜の設計時に時間のパラメータを導入し、成膜時における材料の屈折率及び分散の時間変化、及び材料のレート変化を考慮し、所望の光学特性を得ること。 - 特許庁

To provide a crucible for evaporation and a method of evaporation which deposit a sublimable material with a uniform film thickness by stabilizing the distribution of steam flow generated without accompanying fluctuation of deposition conditions such as a film-forming rate, in deposition of the sublimate material.例文帳に追加

本発明は、昇華性材料の蒸着において、成膜レートのような蒸着条件の変動を伴わず、発生された蒸気の蒸気流分布を安定化させ、昇華性材料を均一な膜厚で堆積できる蒸着用ルツボおよび方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The transparent gas barrier film is obtained by: heat-treating a plastic film to shrink to have a specific thermal shrinkage rate to prepare a plastic base film; forming a vapor deposition film on at least one side of the plastic base film to obtain a vapor deposition film; and additionally heat-treating the vapor deposition film to shrink to have a specific thermal shrinkage rate.例文帳に追加

プラスチックフィルムを加熱処理し、特定の熱収縮率となるように収縮させてプラスチック基材フィルムとし、該プラスチック基材フィルムの少なくとも一方の面に蒸着膜を設けて蒸着フィルムとし、さらに、該蒸着フィルムを加熱処理して、特定の熱収縮率となるように収縮させることを特徴とする透明ガスバリア性フィルムを提供する。 - 特許庁

To stabilize the channel and the flow rate of process gas by reducing the quantity of process gas flowing into a gap between the lower surface of a housing and the back surface of an injector shield section thereby preventing deposition of undesired productions.例文帳に追加

本発明の目的は、筐体の下面とインジェクタシールド部の背面との間の隙間に流れ込むプロセスガスを低減し、不所望な生成物が堆積することを防止しプロセスガスの流路及び流量を安定させる。 - 特許庁

A pressure loss factor k indicating an increase rate when the effective capacity of the filter is reduced due to the deposition of ash and accordingly a pressure difference across the filter is increased is set on the basis of the estimated value of the deposited amount of ash.例文帳に追加

アッシュの堆積によってフィルタ有効容量が減少し、これによってフィルタ前後差圧が増大するときの増大率を示す圧損倍率ｋを、アッシュ堆積量の推定値に基づいて設定する。 - 特許庁

For example, the stress distribution is uniformed using that internal stresses of films are changed when the mixing ratio of water or hydrogen gas is changed, since internal stress values of the films are changed by that a deposition rate on the rotating substrate is changed according to the scanning position of the substrate, during deposition of respective layers of Mo/Si multilayer films.例文帳に追加

例えば、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜の各層を成膜中に、回転する基板上の成膜速度が基板の走査位置によって変化することで膜の内部応力値が変わるため、水又は水素ガスの混合比を変化させると膜の内部応力が変化することを利用して応力分布を均一にする。 - 特許庁

To provide activated carbon which substantially avoids a dendrite formation phenomenon by the reductive deposition of heavy metals, hardly causes problems such as short-circuiting, and shows a good rate of self-discharge retention.例文帳に追加

重金属の還元析出によるデンドライト化現象を生じさせにくく、ショートなどの障害を起こし難く、また、良好な自己放電保持率を示す活性炭を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a hard carbon nitride film which makes the hardness of the film higher than the hardness of a DLC (Diamond-like Carbon) film and can make a deposition rate higher.例文帳に追加

膜の硬さをＤＬＣ膜以上の硬度に向上させた上に成膜速度を速くすることが可能な硬質窒化炭素膜の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the case the particles of a metallic material are generated, the release quantity of the particle from the arc evaporation source is large, thus an inexpensive thin film pigment can be deposited at a high film deposition rate.例文帳に追加

金属材料の粒子を発生させる場合、アーク蒸発源の粒子放出量が多いので、成膜速度が速く、安価な薄膜顔料を形成することができる。 - 特許庁

To provide a CVD method capable of improving productivity as well as improving the deposition rate of a material layer on a substrate, and a CVD system used for its implementation.例文帳に追加

基材に材料層が堆積する速度を向上させるとともに、生産性が向上する化学気相成長方法及びその実施に使用する化学気相成長装置を提供する。 - 特許庁

To reduce dilution of first and second reaction gases to avoid reduction in a deposition rate, wherein the dilution may be caused by a separation gas used to suppress mixing of the reaction gases.例文帳に追加

第１及び第２の反応ガスとの混合を抑制するために使用される分離ガスによって、これらの反応ガスが希釈されるのを低減して、成膜速度の低下を抑える。 - 特許庁

To provide a plasma-assisted sputter deposition system which provides the fixed sputtering rate of a target with the lapse of time, and also can make process conditions which are not varied.例文帳に追加

時間の経過に伴なってターゲット部材の一定のスパッタ速度を提供し、かつ変動しないプロセス条件を作ることのできるプラズマ支援スパッタ成膜装置を提供する。 - 特許庁

To put off a maintenance cycle of a gas supply nozzle to the same degree as other component members in a processing chamber by delaying the deposition rate of a reaction product in the gas supply nozzle.例文帳に追加

ガス供給ノズル内の反応生成物の堆積レートを遅くして、ガス供給ノズルのメンテナンスサイクルを、処理室内の他の構成部材と同程度に延ばすことができるようにする。 - 特許庁