「rate of deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process by which, if deposited by electron-beam deposition process, optimization of relation between splash intensity and deposition (evaporation) rate is achieved while achieving reduction of material cost and productivity improvement.例文帳に追加

電子ビーム蒸着法にて蒸着しても、スプラッシュ程度と成膜（蒸発）速度との最適化を図ることができ、同時に、材料コストの低減と生産性向上とを図る。 - 特許庁

In deposition of a silicon carbide film on a substrate by a CVD method, the deposition rate is controlled to control volume resistivity of the silicon carbide film.例文帳に追加

基体上に化学的気相成長法によって炭化珪素膜を成膜するのに際して、炭化珪素膜の成膜速度を制御することによって炭化珪素膜の体積抵抗率を制御する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a base material for film formation, which can increase a deposition rate while preventing lowering of adhesion of a polyimide coating film in vapor-deposition polymerization.例文帳に追加

蒸着重合において、ポリイミド被膜の密着力が低くなることを防止しつつ成膜速度を大きくすることができる成膜基材の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a flow rate control device, a thin film deposition device, and a flow rate control method, which can exactly control gas flow at a set flow rate even in environment of large pressure difference, especially, remarkably improve process accuracy in a process of thin film deposition.例文帳に追加

圧力差が大きい環境であっても設定した流量となるようにガスの流れを的確に制御することができ、とりわけ、薄膜堆積のプロセスにおいてプロセス精度を飛躍的に向上できる流量制御装置、薄膜堆積装置および流量制御方法を提供すること。 - 特許庁

The method for calculating a stationary erosion rate distribution in the designated cross-section in the magnetic field structural model based on the erosion rate of the erosion central line segment, a rotary erosion rate distribution accompanying the rotation of the magnets, and further, a film deposition rate distribution on an object using the rotary erosion rate distribution, is disclosed.例文帳に追加

エロージョン中心線分のエロージョンレートに基づいた磁場構造モデルの指定断面での静止エロージョンレート分布、磁石の回転に伴う回転エロージョンレート分布、更に上記回転エロージョンレート分布を用いた対象物上の成膜レート分布の計算方法。 - 特許庁

Volume resistivity of the silicon carbide film can be easily controlled over a 104 times wider range than the conventional one depending on the deposition rate.例文帳に追加

炭化珪素膜の体積抵抗率は、成膜速度に応じて１０^4 倍もの広い範囲で容易に制御できる。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus which extends the usable life of a film thickness monitor and makes the tact time, the product yield rate, and the manufacturing cost appropriate.例文帳に追加

膜厚モニターの使用寿命をより長くして、タクトタイム、製品歩留率、製造コストを適正なものとする。 - 特許庁

The a droplet-shaped nanoparticles 1 have reduced recoil in the surface of the substrate 2, and can be deposited at a high deposition rate.例文帳に追加

液滴状のナノ粒子１は基板２表面での反跳が少なく高い堆積率で堆積することができる。 - 特許庁

To provide a method for depositing a crystalline silicon film of favorable quality at a high film deposition rate by a plasma CVD method.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法により良質な結晶性珪素膜を高い成膜レートで成膜する方法を提供する。 - 特許庁

At the electroless nickel plating step, such an electroless nickel plating condition that the deposition rate of nickel is low is adopted.例文帳に追加

そして、無電解ニッケルめっき工程では、ニッケルの沈着速度が遅い無電解ニッケルめっき条件を採用する。 - 特許庁

Since a raw material gas contains more iodine of halogen compounds, corrosion of components of a carbon film deposition apparatus 1 can be reduced, and the film deposition rate is further increased.例文帳に追加

また原料ガスがハロゲン化合物のヨウ素をさらに含むことにより、炭素膜形成装置１の部品が腐食されることを低減できるとともに、成膜速度をさらに高めることが可能となる。 - 特許庁

To provide a catalytic chemical vapor deposition method and a catalytic chemical vapor deposition device in which the control of a substrate temperature can easily be performed without the limitation of substrate materials, the efficiency of energy is high while increasing a thin film deposition rate, and the stabilization of film performance is possible.例文帳に追加

基板材料の制約がなく、基板温度の制御が容易にでき、薄膜形成速度を増大させながらエネルギー効率がよく、皮膜性能の安定化が可能な触媒化学気相成長方法および触媒化学気相成長装置を提供する。 - 特許庁

The scan film deposition is carried out while the gas flow rate of the first gas with a low sputtering rate is always increased, and the gas flow rate of the second gas with a high sputtering rate is always reduced correspondingly to the secular change of the target shape caused by the erosion of the target 5, thus a film thickness change is prevented.例文帳に追加

ターゲット５のエロージョンに起因するターゲット形状の経時変化に対応させて、スパッタレートの小さい第１のガスのガス流量を常に増加させ、スパッタレートの大きい第２のガスのガス流量を常に減少させながらスキャン成膜を行うことで、膜厚変化を防ぐ。 - 特許庁

To provide an ECR sputtering system capable of improving a deposition rate and of preventing the contamination of a microwave introducing window by sputter particles.例文帳に追加

成膜速度が向上し、かつ、スパッタ粒子によるマイクロ波導入窓の汚染を防止することができるＥＣＲスパッタリング装置の提供。 - 特許庁

In the shielding body 4, a plurality of holes 6 passing from the side of the cylindrical heating element 2 to the side of the film deposition rate detector 3 are formed.例文帳に追加

前記遮蔽体４には筒状加熱体２側から成膜速度検出器３側へ貫通する複数の孔６が形成されている。 - 特許庁

The operation rate of the apparatus is improved by carrying out the release and the discharge of the particles during the cycle of the film deposition process.例文帳に追加

成膜プロセスのサイクルの間にパーティクル１１１の離脱および排出を行うことにより、装置の稼働率向上を図ることができる。 - 特許庁

In this way, the formation of contaminated particles at the inside of the shower head and the reaction chamber 100 is suppressed, and the vapor deposition rate is increased.例文帳に追加

これによりシャワーヘッド及び反応チャンバ１００の内部における汚染粒子の生成を抑え、蒸着速度を増大させる。 - 特許庁

To enhance the reliability of a coil by reducing the pattern width dependency of an upward deposition rate regarding a thin-film coil and its manufacturing method.例文帳に追加

薄膜コイル及びその製造方法に関し、上方向成膜レートのパターン幅依存性を低減して、コイルの信頼性を高める。 - 特許庁

To provide a method of depositing a hard carbon film by which a deposition rate is made higher while maintaining the hardness of the film.例文帳に追加

膜の硬さを維持しつつ成膜速度を速くすることが可能な硬質炭素膜の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A material layer near the interface of an a-Si layer is deposited at a low deposition rate, so as to be extremely high in quality, and a material layer distant from the interface is deposited at a high deposition rate to be somewhat lower in quality than the former material layer but sufficiently high in quality.例文帳に追加

ａ−Ｓｉの界面近傍の材料層は極高品質の膜を実現する低堆積速度で堆積され、界面から離れた材料層は多少劣るが高品質膜を形成する高堆積速度で堆積される。 - 特許庁

The treatment gases comprise fluorine rich polymer-forming etching gas that promotes a high etching rate, carbon rich polymer-forming etching gas that promotes a high polymerization deposition rate, polymer control gas (such as oxygen or nitrogen) that delays polymerization deposition rate, and inactive dilution gas that alleviates tapering-off of etching profile.例文帳に追加

処理ガスは、高エッチング速度を促進するフッ素リッチ重合エッチングガス、高重合体堆積速度を促進する炭素リッチ重合エッチングガス、重合体堆積速度を遅延させる重合体管理ガス（例えば、酸素又は窒素）、エッチングプロファイルの先細りを軽減する不活性希釈ガスを含む。 - 特許庁

To provide a method for depositing a Cu film having a realistic film deposition temperature and a realistic film deposition rate and preventing the phenomenon that the reduction of migration on the surface of a Cu film occurs during film deposition, and Cu is flocculated and is grown to an island shape.例文帳に追加

半導体プロセスとして現実的な成膜温度と成膜レートを有し、成膜中にＣｕ膜表面マイグレーションの減少が生じてＣｕが凝集し、島状に成長することを防止したＣｕ膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition material feeding device where a vacuum deposition system can be continuously operated without requiring the replenishment of a film deposition material over a long period, and in the meanwhile, the film deposition material can be stably fed to a ring hearth at an always fixed feeding rate.例文帳に追加

長期に亘って成膜材料の補給を必要とせずに真空蒸着装置を連続運転することが可能であり、かつその間、成膜材料を常に一定の供給速度でリングハースへ安定して供給することができる成膜材料供給装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a surface inspection apparatus for an electrolytically refined metal deposition plate which photographs the surface of the metal deposition plate and automatically determines the grade of the metal deposition plate according to the sizes of nodules on the photographed surface and their distribution rate per surface.例文帳に追加

金属析出板の表面を撮影し、撮影された表面の小塊の大きさと面当たりの分布比率に応じて自動で金属析出板の等級を判定できる電解精錬された金属析出板の表面検査装置を提供する。 - 特許庁

Firstly, in the preliminary heating stage before starting the film deposition work, the output of the power supply 51 is controlled so as to be consistent at a desired film deposition rate by using a crystal oscillation type film thickness meter 6.例文帳に追加

まず、成膜作業開始前の予備加熱段階は、水晶発振式膜厚計6を用いて、所望の成膜速度で安定するように電源51の出力を制御する。 - 特許庁

To solve such a problem in vapor deposition that a vapor deposited film is hardly stabilized because of an unstable deposition rate (vapor generation quantity) caused by temperature change or a material to be deposited.例文帳に追加

蒸着において温度変化や蒸着材料の変動によって蒸着速度(蒸気の発生量)が一定にならないために蒸着膜の安定化が困難である。 - 特許庁

A donor substrate 3 with an organic donor layer 13 formed at a deposition rate of 1 nm/sec or more by vacuum deposition, and a film-formed substrate 5 with a first electrode 17 formed are prepared.例文帳に追加

真空蒸着により有機ドナー層１３が蒸着レート１ｎｍ／ｓｅｃ以上で形成されたドナー基板３と、第一電極１７が形成された被成膜基板５とを用意する。 - 特許庁

To solve such a problem in vapor deposition that a vapor deposited film is hardly stabilized because of an unstable deposition rate (vapor generation quantity) caused by a temperature change or a material to be deposited.例文帳に追加

蒸着において温度変化や蒸着材料の変動によって蒸着速度（蒸気の発生量）が一定にならないために蒸着膜の安定化が困難である。 - 特許庁

Moreover, by using a filmy substance for a substrate and rotating the cylindrical electrode, the film deposition rate of the carbon film is improved.例文帳に追加

また、基体にフィルム状の物質を用い、円筒状の電極を回転させることで、炭素膜の成膜速度が向上する。 - 特許庁

To provide an optical information recording medium having a more heightened film-deposition rate of a low refractive index dielectric layer and excellent productivity.例文帳に追加

低屈折率誘電体層の成膜レートがより高められた、生産性に優れる光情報記録媒体を提供する。 - 特許庁

As a result, the grain growth of the catalytic metal can be avoided and the metal catalyst having high activity and the high deposition rate can be obtained.例文帳に追加

これにより、金属触媒の粒成長を避けることができ、活性、担持率ともに高い触媒を得ることができる。 - 特許庁

By this method aluminum nitride having preferred crystal orientation can be obtained at high deposition rate, and the characteristics of the layers can be improved.例文帳に追加

本発明により、好ましい結晶配向を有する窒化アルミニウムが高い蒸着速度で得られ、層の特性が改善される。 - 特許庁

In this way, the supply amount and supply rate of the raw material gas are risen, and film deposition treatment is efficiently and swiftly performed.例文帳に追加

これにより、原料ガスの供給量及び供給速度を向上させて効率的に且つ迅速に成膜処理を行う。 - 特許庁

To improve a deposition rate of a microcrystalline semiconductor layer formed by a deposition method, and to improve productivity in a display device composed by a TFT of a microcrystalline semiconductor.例文帳に追加

堆積法で形成される微結晶半導体層の成膜速度を向上させ、微結晶半導体ＴＦＴにより構成される表示装置の生産性を向上させることを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of fabricating an optical fiber preform, capable of depositing glass particles with high deposition rate without reducing deposition efficiency and fabricating an optical fiber preform having little bubbles.例文帳に追加

ガラス微粒子の堆積効率を低下させることなくガラス微粒子の堆積速度を向上させることができるとともに、気泡の少ない光ファイバ用母材を製造可能な製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solution serving as a raw material for organometallic chemical vapor deposition with which uniform, stable vaporization can be performed and a desired titanium-containing thin film of high purity can be obtained at a high film deposition rate, and to provide a titanium-containing thin film which has excellent barrier properties as the base of a copper thin film.例文帳に追加

均一で安定した気化が行われ、高い成膜速度で高純度の所望のチタン含有薄膜が得られる有機金属化学蒸着用の溶液原料を提供する。 - 特許庁

To prevent functional trouble as well as an operational defect of an air flow rate adjusting lever due to deposition by eliminating the deposition of dust entering through an auxiliary air duct in a suction implement for a vacuum cleaner.例文帳に追加

電気掃除機用の吸込具において、補助空気ダクトより侵入する塵埃の堆積をなくし、堆積に伴う風量調整レバーの操作不良の防止等、機能障害も防止すること。 - 特許庁

To provide a dry etching method capable of suppressing deterioration in an etching rate caused by the coexistence of an etching gas and a reaction gas for protective film formation, and improving the film deposition rate of the protective film.例文帳に追加

エッチングガスと保護膜形成用の反応ガスとの共存を原因とするエッチングレートの低下を抑制でき、かつ、保護膜の成膜レートを向上させることができるドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

As a result, while the growth deposition rate of the BPSG film is maintained to the wafer W having a high aspect ratio of the recessed parts, the embedding properties of the recessed parts can be raised.例文帳に追加

よって、アスペクト比が大きな凹部を有するウェハＷに対し、ＰＳＧ膜の成長堆積速度を維持しつつ、凹部の埋め込み性を向上できる。 - 特許庁

Preferably, the gas flow rate of hexamethyl-disiloxane acid to be introduced in a chamber of a vacuum vapor deposition apparatus is changed according to the gradation of the requested smoke color.例文帳に追加

好ましくは、要求されるスモーク色の濃淡に応じて、真空蒸着装置のチャンバー内に導入されるヘキサメチルジシロキ酸のガス流量を変化させる。 - 特許庁

The metal layer increases the deposition rate of a protective film 4 to be formed on the outside of the metal magnetic layer and to improve the productivity of the recording medium.例文帳に追加

この金属層は金属磁性層の外側に形成される保護膜４の成膜速度を増大させて記録媒体の生産性を向上させる。 - 特許庁

To prevent generation of processing defect in a substrate due to an increase of leak flow rate of He gas in a processing device for carrying out dry etching and plasma CVD film deposition.例文帳に追加

ドライエッチングやプラズマＣＶＤ膜堆積する処理装置において、Ｈｅガスのリーク流量増大による基板の処理不良が発生するのを防止する。 - 特許庁

Output ports of the controller of a film deposition system are commonly used so that control signals can be output to control the flow rate of all gases A to F that can be used in deposition chambers 1 to 3.例文帳に追加

成膜装置のコントローラの出力ポートは、成膜室１〜３で使用される可能性のある全てのガスＡ〜Ｆの流量を制御する制御信号を出力することができるように、共通のポートを有する。 - 特許庁

To provide a DC or DC-pulse sputtering system capable of increasing the film deposition rate and enhancing the uniformity of the film thickness distribution.例文帳に追加

成膜速度を上げ、かつ、膜厚分布の均一性を向上させることができるＤＣ又はＤＣパルススパッタリング装置を提供すること。 - 特許庁

To meet the needs of thin film and to achieve a high deposition rate by improving the shortcomings of conventional CVD method and ALD method.例文帳に追加

従来のＣＶＤ法の欠点とＡＬＤ法の欠点を改善し、薄膜化の要求に応えるとともに、高い成膜速度を実現する。 - 特許庁