「reaction substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

This method for producing lactic acid comprises performing an enzyme reaction process of hydrolyzing papermaking sludge and a fermentation process of using glucose produced by the enzyme reaction process as a substrate and converting it to lactic acid at the same time.例文帳に追加

乳酸を生産する方法は、製紙スラッジを加水分解する酵素反応工程と、酵素反応工程で生成されたグルコースを基質に使用して乳酸に変換させる発酵工程とを同時に行なうことに関するものである。 - 特許庁

A wafer boat 14 is loaded to the reaction pipe 11 or unloaded from it, while exhausting with the sub-bypass pipe 65 by opening the sub-valve SSV, thereby sublime gas or particles of a reaction by-product is or are prevented from being adsorbed to a semiconductor substrate 15.例文帳に追加

このサブバルブＳＳＶを開いて、サブバイパス管６５で排気しながら、ウエハボート１４を反応管１１にロード又はアンロードし、反応副生成物の昇華ガスやパーティクルの半導体基板１５への吸着を防止する。 - 特許庁

In short, the reaction by the drive of substrate stage device has no effect on the mask stage device and projection optical system as well as reference structure body.例文帳に追加

すなわち、基板ステージ装置の駆動による反力が、基準構造体は勿論、マスクステージ装置や投影光学系に何らの影響も及ぼさない。 - 特許庁

Thus, a reaction product 5 is deposited on the region of the substrate 1 to be irradiated with the corpuscular beam 2 by an interaction between the gas 4 and the corpuscular beam 2.例文帳に追加

すると、基板１の粒子線２が照射される領域には、気体４と粒子線２との相互作用により、反応生成物５が付着する。 - 特許庁

The reaction layer provided on an electrode surface is limited into the sample liquid supply path so that no regions are sandwiched between a cover member and the substrate.例文帳に追加

電極表面に設ける反応層は、カバー部材と基板の間に挟み込まれる領域がないように、試料液供給路内に限定する。 - 特許庁

To manufacture an Si cantilever without damaging an Si substrate having membrane structure provided with a cavity in its lower part, even when an inside of a reaction chamber is evacuated.例文帳に追加

反応室内を真空排気しても下部にキャビティを備えたメンブレン構造を有するＳｉ基板を破損させることなくＳｉカンチレバーを製造可能とする。 - 特許庁

A first reactant containing an element to deposit a thin film and a ligand is poured into a reaction chamber containing a substrate and is purged, and next, a second reactant is poured and purged.例文帳に追加

基板を含む反応チャンバに薄膜をなす元素とリガンドを含む第１反応物を注入かつパージし、次に第２反応物を注入且つパージする。 - 特許庁

To perform surface treatment of the second surface of a treated substrate on the reverse side of the first surface with reaction gas while limiting or preventing surface treatment of the first surface.例文帳に追加

被処理基板の第１面の表面処理を抑制又は防止しながら、第１面とは反対側の第２面を反応ガスにて表面処理する。 - 特許庁

To provide a method of improving productivity of a substrate by forcibly removing cracks and film peeling and preventing a reaction tube from generating any particles.例文帳に追加

クラックや膜剥がれを強制除去し、反応管をパーティクルが発生しない状態にすることで基板の生産性を向上できる手法を提供する。 - 特許庁

To grow a thin film single crystal having good quality by enabling heating of only a colored substrate, improving reaction efficiency and also enabling uniform heating, in the production.例文帳に追加

着色基板のみの加熱を可能とし、反応効率を向上させ、また、均質加熱を可能として良質な薄膜単結晶を育成する。 - 特許庁

To provide an exothermic substrate easy to position and weld to a micro-reactor, and a highly reliable micro-reactor capable of highly efficient catalytic reaction.例文帳に追加

マイクロリアクターへの位置決めと溶接が容易な発熱基板と、高効率の触媒反応を可能とする信頼性の高いマイクロリアクターを提供する。 - 特許庁

The etching of the n+a-Si:H layer 5 of a substrate 100 progresses by a chemical reaction by the radical species 24 introduced into the chamber 20.例文帳に追加

チャンバ２０内に導入されたラジカル種２４による化学的反応によって、基板１００のｎ＋ａ−Ｓｉ：Ｈ層５のエッチングが進行する。 - 特許庁

Such semiconductor substrate as a gate oxide film 104a formed is moved into a reaction chamber by a vacuum transfer system, so that a polysilicon layer 106 is formed on the gate oxide film.例文帳に追加

ゲート酸化膜が形成された半導体基板を真空搬送システムによって反応室に移し、ゲート酸化膜上にポリシリコン層を形成する。 - 特許庁

A puncture instrument 14 is attached to at least one of a spacer layer 13 and a substrate 12b so as to make a hollow reaction section 16 smaller.例文帳に追加

穿刺用器具１４をスペーサ層１３と基板１２ｂの少なくとも一方に取り付けるようにしたので、中空反応部１６を小さくすることができる。 - 特許庁

When the removing liquid is supplied to the surface of the substrate W to remove the reaction product, exhaustion is weakened by an exhaust amount regulating valve 60.例文帳に追加

基板Ｗの表面に除去液を供給して反応生成物を除去する際には、排気量調整弁６０により、排気が弱められる。 - 特許庁

A deposition chamber 61 is provided for forming a thin film on a substrate by force of reaction out of the source gas obtained and introduced from the raw material vessel 13.例文帳に追加

原料容器１３から取り出し導入された上記原料ガスから反応により薄膜を基板上に形成するための成膜室６１を設ける。 - 特許庁

In the resin pattern 8 part, the rays of light irradiated to the back face of the substrate are absorbed or shielded so that any optical CVD reaction can be prevented from being generated.例文帳に追加

樹脂パターン８部においては、基板背面から照射された光が吸収または遮光されるので、光ＣＶＤ反応は起こらない。 - 特許庁

The gas including these radicals and the SiH_4 gas are supplied to the film forming chamber 4 and a silicon oxide film is formed on the glass substrate 13 with chemical reaction.例文帳に追加

これらのラジカルを含むガスとＳｉＨ_４ガスとは成膜室４内に供給され、化学反応により、ガラス基板１３上に酸化シリコン膜が成膜される。 - 特許庁

For this purpose, during a sputtering process carried out in a vacuum chamber (18), reaction products (14) are incorporated at least virtually exclusively in the transition layer (12) on the substrate.例文帳に追加

真空チャンバ（１８）内でのスパッタリングプロセス中に、反応生成物（１４）は、少なくとも事実上独占的に遷移層（１２）内に組み込まれる。 - 特許庁

The CVD apparatus 1 is used for forming the metallic thin film on the surface of a substrate by irradiating the surface with a laser and reacting the surface with the CVD gas in the reaction cell 5.例文帳に追加

ＣＶＤ装置１は、反応槽５内においてレーザー照射によりＣＶＤガスを反応させて基板表面に金属薄膜を形成する。 - 特許庁

To provide a substrate for a reaction chip comprising an aromatic polycarbonate resin excellent in transparency, mechanical strength, transfer properties, low water absorbability and the adhesion with a reflecting film.例文帳に追加

透明性、機械強度、転写性、低吸水性、反射膜との密着性に優れる芳香族ポリカーボネート樹脂からなる反応チップ用基板を提供する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus includes a reaction tube 203 having an inner space sectioned by a barrier wall 236 into a film forming space and a plasma generating space 237.例文帳に追加

基板処理装置は、内部空間が隔壁２３６により成膜空間とプラズマ生成空間２３７とに区画される反応管２０３を有している。 - 特許庁

The reaction tube adopts a structure where a periphery of a susceptor arranging a substrate at least therein is formed with sapphire.例文帳に追加

発明１の反応管は、この目的を達成するために、少なくとも前記サセプタ周辺をサファイアにて形成してあることを特徴とする構成を採用した。 - 特許庁

The method of forming a tantalum nitride film comprises a step of sequentially bringing alternating pulses of a tantalum source substance, a plasma-excited species of hydrogen and a nitrogen source substance into contact with a substrate in a reaction space.例文帳に追加

タンタルソース物質、水素のプラズマ励起種、及び窒素ソース物質の交互的パルスを順に、反応空間内で基板と接触させるステップを含む。 - 特許庁

To provide a biosensor in which a reaction layer containing an enzyme is rendered to a thin film in order to measure the concentration of a specific substrate in a biological component accurately in a short time.例文帳に追加

生体成分中の特定基質濃度を短時間で正確に測定するため、酵素を含む反応層を薄膜にしたバイオセンサを提供する。 - 特許庁

In the film formation process, film formation gas is supplied into a reaction chamber 1 to form an amorphous thin film including the Hf-based oxide film on a substrate 4.例文帳に追加

成膜工程では、成膜ガスを反応室１内に供給して、回転する基板４上にＨｆ系酸化膜を含むアモルファス薄膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method for processing a substrate which realizes the formation of a desired resist pattern by suppressing the reaction of a chemical amplification type resist film and a conductive film.例文帳に追加

化学増幅型レジスト膜と導電性膜との反応を抑制して、所望のレジストパターンの形成を実現する基板処理方法を提供する。 - 特許庁

A specimen solution containing a nucleic acid is supplied to a specimen holding section on a substrate and the reaction and detection of the nucleic acid are carried out in the section.例文帳に追加

基板上に設けられた試料保持区画に核酸含有試料溶液を供給し、その区画内で当該核酸の反応及び検出を行う。 - 特許庁

To provide a process chamber and coating installation which each ensure simple transport as well as secure and reliable contacting with the substrate carriers in a reaction chamber.例文帳に追加

反応チャンバ内で基板キャリアと確実で信頼性ある接触と同様、簡単な搬送を確実ならしめるプロセスチャンバ及びコーティング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a treatment method for planarizing the surface of an SiC substrate which gives a smooth surface, under the condition in a reaction chamber with the supply of carbon being suppressed.例文帳に追加

カーボンの供給を抑えた反応室内条件での平滑な表面を与えるＳｉＣ基板表面の平坦化処理方法を提供する。 - 特許庁

To inhibit a reaction product from being deposited in a gap between a wafer stage and a focus ring when treating a substrate to be treated utilizing plasma discharge.例文帳に追加

プラズマ放電を利用した被処理基板の処理に際して、反応生成物がウエハステージとフォーカスリングとの間の隙間に付着することを抑制する。 - 特許庁

To reduce a concentration of an oxygen to be mixed in a film formed on a substrate to be treated by decreasing an adhesion of a moisture to the surface of a wall of a reaction chamber.例文帳に追加

反応室壁面への水分付着を低減することにより、被処理基板に形成される成膜中に混入する酸素濃度を低減する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus, in which the gas mixture ratio of a reaction gas will not change, even if the gas is introduced from the central side of a rotation and which obtains the desired film quality and desired film formation rate.例文帳に追加

回転中心側からガスを導入しても、反応ガスのガス混合比率が変ることがなく、所望の膜質、成膜速度を得る。 - 特許庁

The substrate and the monomolecular film are heat-treated to effect dehydrative condensation reaction of both components and form a firmly bonded highly slippery surface material.例文帳に追加

次いで、前記基材及び前記単分子膜に熱処理を施して、両者が脱水縮合反応よって強固な結合した高潤滑性表面部材を得る。 - 特許庁

(1) The specific nitrilase activity in the initial reaction is ≥30 g-ammonium acrylate/g-dry biocatalyst/Hr when acrylonitrile is used as a substrate and (2) the maximum accumulation concentration of the ammonium acrylate exceeds 30 wt.% when the ammonium acrylate is produced by using the acrylonitrile and water.例文帳に追加

２）アクリロニトリルと水を用いてアクリル酸アンモニウムを製造する場合、アクリル酸アンモニウム最高蓄積濃度が30重量%を越えること。 - 特許庁

To make the configuration of a reaction chamber axially symmetric, to make uniform the flow of gas, to improve the in-face uniformity of the temperature of a substrate, and to simplify the mechanism.例文帳に追加

反応室の構成を軸対称とし、ガスの流れを均一化し、基板の温度の面内均一性を向上させると共に機構を簡単にする。 - 特許庁

A reaction chamber 104, a medicine chamber 106, an inspection chamber 108 and a pump chamber 110 are provided in a substrate 102 and connected together by a passage.例文帳に追加

基板１０２内に、反応チャンバ１０４、薬剤チャンバ１０６、検査チャンバ１０８、及びポンプチャンバ１１０が設けられ、それらは流路で接続される。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for treating a substrate, capable of removing treatment of reaction products at high removal efficiency.例文帳に追加

高い除去効率をもって反応生成物の除去処理を実行することができる基板処理方法および基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The reflector 10 locally changes a calorific value conducted from the inside to the outside of the reaction chamber 3 when the substrate 4 is heated by the heater 6.例文帳に追加

リフレクタ１０は、ヒータ６により基板４を加熱するときに反応室３の内部から外部へ伝導する熱量を局所的に変更する。 - 特許庁

To cause enzyme reaction in a cell by uptaking a substrate of enzyme into Escherichia coli without using cells treated by a surfactant or an organic solvent, etc.例文帳に追加

界面活性剤や有機溶媒等で細胞を用いることなく大腸菌内に酵素の基質を取り込ませて該細胞内で酵素反応を生じさせる。 - 特許庁

The steam accelerates a reaction between silicon in the HMDS hydrophobic treatment gas and oxygen on the substrate surface, by which high hydrophobicity is stably achieved.例文帳に追加

前記水蒸気により、ＨＭＤＳ疎水化処理ガスのケイ素と、基板表面の酸素との反応が促進され、安定して高い疎水性が得られる。 - 特許庁

A first reactant gas of a Group VB element is injected into the reaction chamber, where it is chemisorbed as an atomic layer on the substrate surface.例文帳に追加

第ＶＢ族元素の第１の反応物ガスが反応チャンバへ注入され、そこで、その元素は基板表面上に原子層として化学吸着される。 - 特許庁

The amylomaltase of which the reactivity to the substrate is increased and/or the hydrolysis reaction is decreased or eliminated is provided by the modification.例文帳に追加

この改変により、基質に対する反応性が増加し、および／または加水分解反応が低減もしくは消失したアミロマルターゼが提供された。 - 特許庁

The Fresnel lens 3 condenses the fluorescence, and is formed on each reaction tank 2 at a place of the outer peripheral surface of the substrate 1A through which the fluorescence passes.例文帳に追加

フレネルレンズ３は、蛍光を集光するものであり、蛍光が透過する基板１Ａの外周面の箇所に反応槽２毎に形成されている。 - 特許庁

The resulting metabolite(s) serves as a substrate of the bioluminescent enzyme, e.g., luciferase, in a second light generating reaction.例文帳に追加

その結果生じる代謝産物（単数または複数）は、光を生成する二次反応において、生物発光酵素、例えばルシフェラーゼの基質としての役割を果たす。 - 特許庁