例文 (999件) |
contact regionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3198件
The source region and the drain region are each formed with a microcrystalline semiconductor layer with impurities for imparting one conductivity type added thereto, and, in the semiconductor layer, regions in contact with the source region and the drain region are formed with crystalline regions.例文帳に追加
さらに、ソース領域及びドレイン領域は、一導電型を付与する不純物が添加された微結晶半導体層で形成され、半導体層において、ソース領域及びドレイン領域と接する領域は結晶領域で形成されている。 - 特許庁
This paper for a Z-fold postcard includes a Z-fold postcard region with a contact-bonding paste applied to both sides; and a cut-off region to be separated from the postcard region, wherein a cover coat is applied to only one side of the cut-off region.例文帳に追加
両面に圧着糊が塗布され、Z状に折り畳まれるハガキ領域と、前記ハガキ領域とは切り離されるカット領域と、を有するZ折ハガキ用の用紙において、前記カット領域の一方の面にのみカバーコーティングが施す。 - 特許庁
Thereupon, the phosphorus having the higher diffusion coefficient diffuses to the collector region 13 from the collector contact region 12, whereby a first collector region 13a containing the diffusing phosphorus and a second collector region 13b not substantially containing the phosphorus are formed.例文帳に追加
このとき、コレクタコンタクト領域12からは、拡散係数の高いリンがコレクタ領域13に拡散し、これにより、拡散したリンを含む第1のコレクタ領域13aと、リンを実質的に含まない第2のコレクタ領域13bと、が形成される。 - 特許庁
A second drain region 23B is provided between a gate electrode 26 and a drain electrode 29 and is provided in contact with a first drain region 23A and a third drain region 23C between the first drain region 23A and the third 23C.例文帳に追加
第2ドレイン領域22Bが、ゲート電極25とドレイン電極29との間であって、かつ第1ドレイン領域23Aと第3ドレイン領域23Cとの間に、第1ドレイン領域23Aおよび第3ドレイン領域23Cに接して形成されている。 - 特許庁
In an SOI layer 30, an n^+-type source diffusion region 9 is formed adjacent to the p-type body region 3, and also, a p^+-type body contact diffusion region 7B(7A) is formed adjacent to the p-type body region protrusion 3a.例文帳に追加
SOI層30内において、P型ボディ領域3に隣接してソース側にN^+型ソース拡散領域9が形成されるとともに、P型ボディ領域突出部3aに隣接してP^+型ボディコンタクト拡散領域7B(7A)が形成される。 - 特許庁
The substrate potential contact region 9b has a dimension L that allows a PN junction between the substrate potential region 11b and the drain region 11d to obtain an intended PN junction withstanding voltage and is arranged at a distance from the drain region 11d.例文帳に追加
基板電位用コンタクト領域9bは、基板電位用領域11bとドレイン領域11dのPN接合が所望のPN接合耐圧を得ることができる寸法Lでドレイン領域11dとは間隔をもって配置されている。 - 特許庁
A second contact part 76 electrically connecting the common electrode 72 and the side wiring 22 is positioned in a second end region 28 distinguished from a region on the pixel region 12 side with a second straight lone L_2 passing the outside of the pixel region 12.例文帳に追加
共通電極72とサイド配線22を電気的に接続する第2のコンタクト部76は、画素領域12の外側を通る第2の直線L_2によって画素領域12側の領域から区別された第2の端部領域28に位置してなる。 - 特許庁
To attain the miniaturization of a pixel and to improve an image pick-up property by reducing an arranging area of a contact when forming a contact for a shield electrode and a contact for a p-type well region in the same pixel.例文帳に追加
同一画素内のシールド電極用のコンタクト部とP型ウェル領域用のコンタクト部を形成する場合にコンタクト部の配置面積を縮小して、画素の微細化や撮像特性の向上を図る。 - 特許庁
In this NPN-type bipolar transistor equipped with an operation region, a collector contact part (10), a base contact part (11) and an emitter contact part (12) are disposed on the surface of an epitaxial layer (2) formed on a semiconductor substrate (1).例文帳に追加
動作領域を備えたNPN型のバイポーラトランジスタにおいて、半導体基板(1)上に形成したエピタキシャル層(2)の表面に、コレクタコンタクト部(10)、ベースコンタクト部(11)、エミッタコンタクト部(12)を設ける。 - 特許庁
The mating latch element 12 is latched with a latch element 13 formed in the central region 10, irrespective of the structure of the pressure contact end 8 and the contact end 9, when the contact 2 is positioned in the insertion position.例文帳に追加
相手ラッチ要素12は、コンタクト2が挿入位置に位置する際に、圧接端8及び接触端9の構造とは無関係に中央領域10に形成されたラッチ要素13とラッチ係合する。 - 特許庁
A contact electrode 120 is formed on the contact layer 110 of post structure P, and a pad electrode 130 connected electrically with the contact electrode 120 is formed in the pad forming region Q.例文帳に追加
ポスト構造Pのコンタクト層110上にコンタクト電極120が形成され、パッド形成領域Qにコンタクト電極120と電気的に接続されるパッド電極130が形成されている。 - 特許庁
A drain region of the N-type MOS transistor for protection against ESD is electrically connected to a drain contact region formed of an impurity diffusion region identical in conductivity with the drain region via a drain extension region formed of an impurity diffusion region identical in conductivity with the drain region disposed on a side face and a lower face of a trench isolation region.例文帳に追加
ESD保護用のN型MOSトランジスタのドレイン領域は、トレンチ分離領域の側面および下面に設置されたドレイン領域と同一の導電型の不純物拡散領域によって形成されたドレイン延設領域を介して、ドレイン領域と同一の導電型の不純物拡散領域によって形成されたドレインコンタクト領域と電気的に接続している半導体装置とした。 - 特許庁
A contact pattern for defining a contact hole 66 including a contact spacer 64 formed at the sidewall of the contact pattern 62 and penetrating the first insulating layer and exposing a lower region of the first insulating layer while being in contact with the outer circumferential surface of a third insulating layer pattern 60a is formed on each wire.例文帳に追加
その側壁に形成されたコンタクトスペーサ64を含み、第3絶縁層パターン60aの外周面に接しながら前記第1絶縁層を貫通して前記第1絶縁層の下部領域を露出させるコンタクトホール66を限定するコンタクトパターンがそれぞれ配線の上に形成される。 - 特許庁
Thus, since the sidewall can be utilized as the source region, the contact area as the source electrode is increased.例文帳に追加
これによりサイドウォール部もソース領域として活用できるので、ソース電極とのコンタクト面積が増大する。 - 特許庁
A dummy wiring pattern 16d is formed as corresponding to a non-display region and in contact with a sealing material 16s.例文帳に追加
非表示領域に対応しシール材16sに接するようにダミー配線パターン16dが形成されている。 - 特許庁
A region of contact is formed for the passage of a recording medium by the fixing belt 13 and the pressurizing member.例文帳に追加
定着ベルト13及び加圧部材によって、記録媒体を通過させるための接触領域が形成される。 - 特許庁
SiN liners used as DSLs are successively deposited in the shared contact region and are left as a laminate.例文帳に追加
DSLで使用するSiNライナをシェアードコンタクト領域において順次に堆積させて積層体として残す。 - 特許庁
A spring force of the bending region 32b is made larger than the spring forces of the first and the second contact piece parts 34, 35.例文帳に追加
曲り領域32bのばね力を1及び第2の接片部34,35のばね力よりも大きくする。 - 特許庁
The well 3 and the substrate contact 6 are electrically connected with a resistance region 19 formed between them.例文帳に追加
ウェル3と基板コンタクト6は、それらの間に形成される抵抗領域19により電気的に接続される。 - 特許庁
A second trench 8 is formed to be in contact with the n^+-type source region 7, and reach the n^--type drift layer 3.例文帳に追加
第2トレンチ8は、n^+型ソース領域7に接し、n^-型ドリフト層3に達するように設けられている。 - 特許庁
Thereafter, a capping control section controls the cap to be brought into contact with the first region, and temporary capping is performed (S6).例文帳に追加
この後、キャッピング制御部が、キャップと第1領域とが当接するように制御し、仮キャッピングを行う(S6)。 - 特許庁
The first FP electrode 17a comes into contact with a surface of the inside (p) partition region 12c, or is floated.例文帳に追加
第一FP電極17aは、内側のp仕切り領域12c表面に接触させ、或いは浮遊させる。 - 特許庁
The insulating member 18 is formed in the region corresponding to the upper electrode layer 15 wherewith the bump 20 comes into contact.例文帳に追加
絶縁部材18は、バンプ20が当接する上電極層15に対応する領域に設けられている。 - 特許庁
Further, a fifth line HS5 and a second contact part CN2 are formed in the periphery of the display pixel region HG.例文帳に追加
また表示画素領域HGの周辺には、第5の配線HS5と第2のコンタクトCN2を設ける。 - 特許庁
To provide a semiconductor device in which an area of contact between a source region and source wiring can be enlarged.例文帳に追加
ソース領域とソース配線との接触面積の増大を図ることができる、半導体装置を提供すること。 - 特許庁
The slipper seal makes contact with the inner peripheral surface of the cylinder at a belt-like region to make one round of its inner peripheral surface.例文帳に追加
スリッパシールは、シリンダの内周面に、その内周面を一周する帯状の領域において接触する。 - 特許庁
A source electrode 6 is so formed as to contact it with both the source regions 12 and the channel region 11.例文帳に追加
ソース電極6は、ソース領域12およびチャネル領域11の双方に接触するように形成される。 - 特許庁
In the method, first contact plugs 105a and 105b connect between the bit line 102b and the semiconductor region 109b.例文帳に追加
ビット線102bと半導体領域109bは第1のコンタクトプラグ105a、105bで接続される。 - 特許庁
The first p-type semiconductor anode region 204 is electrically connected to an anode contact area 218.例文帳に追加
第1のp型半導体陽極領域204は陽極接触領域218に電気的に接続される。 - 特許庁
An inter-layer insulating layer 9 is formed which has a contact hole 9a reaching the n-type source/drain region 4.例文帳に追加
このn型ソース/ドレイン領域4に達するコンタクトホール9aを有する層間絶縁層9が形成される。 - 特許庁
A recessed portion 23a is also formed at the end of a contact region of the metal wiring 23 with the insulating resin layer 26.例文帳に追加
金属配線23の絶縁樹脂層26との接触領域の端部にも凹部23aが形成されている。 - 特許庁
The phosphor layer is disposed between and in contact with the active region and an exterior medium.例文帳に追加
蛍光体層は、アクティブ領域と外部媒体との間にあってその双方に接触するように配置される。 - 特許庁
The source/drain forming processing of a p channel MOS transistor is used to form a base contact region 92.例文帳に追加
PチャンネルMOS型トランジスタのソース・ドレイン形成処理を流用してベースコンタクト領域92を形成する。 - 特許庁
A central absorption region 11 with a fixed area is provided in a range which is surrounded by a contact bonded part 9.例文帳に追加
圧着部9で囲まれた範囲に所定面積の中央吸収領域11が設けられている。 - 特許庁
The insulated gate electrode portion 10a faces the surface of the contact region 18 with a gate insulating film 4 interposed therebetween.例文帳に追加
絶縁ゲート電極部10aは、ゲート絶縁膜4を介してコンタクト領域18の表面に対向している。 - 特許庁
Consequently, a diffusion layer contact pattern is not required, and the active region can be reduced in size.例文帳に追加
これにより、拡散層コンタクトパターンが不必要となるとともに、活性領域を縮小することが可能となる。 - 特許庁
A seal securing member 36 is positioned within the inner region of the housing and secured into contact with the cable socket body.例文帳に追加
シール固定部材をハウジングの内部領域内に配置し、ケーブル・ソケット本体に接触するように固定する。 - 特許庁
Alternatively, the discharge regulating member is disposed in the upstream side of the discharge region in contact with the photoreceptor.例文帳に追加
また、放電規制部材は、感光体に接触し、放電領域の上流側に配置することを特徴とする。 - 特許庁
Then, the semiconductor device further includes a conductive layer 8 embedded in the opening groove and electrically connected with the contact region 4.例文帳に追加
そして、開口溝内に埋設され、コンタクト領域4と電気接続された導電層8をさらに備える。 - 特許庁
The second grounding portion 11b is brought into contact with the grounding region 15a present on the front surface of the printed board 13.例文帳に追加
前記第2の接地部位11bは、前記プリント基板13の表面の接地領域15aに接する。 - 特許庁
The heating member 32 is arranged so as to be in contact with the liquid crystal cell 16 outside the display region S.例文帳に追加
加熱部材32は、表示領域Sよりも外側で液晶セル16に当接するように設けられる。 - 特許庁
Thereafter, a nitride etch barrier layer 20 is formed, a contact region 21 is opened and filled with a polysilicon layer 22.例文帳に追加
全面を窒化物エツチ・バリア層20を付着させ、コンタクト領域21を開口してポリシリコン層22を充填する。 - 特許庁
A source/drain electrode is positioned on the region exposed in the source/drain contact hole of the semiconductor layer.例文帳に追加
前記半導体層の前記ソース/ドレインコンタクトホール内に露出した領域上にソース/ドレイン電極が位置する。 - 特許庁
A magnetic head non-contact region 18 of the protective layer 13 is selectively hardened in an adequate hardness.例文帳に追加
また、保護層13における磁気ヘッド非接触領域18を、適切な硬度で選択的に硬質化する。 - 特許庁
A contact region, i.e., a diffusion layer 13, is formed beneath an interlayer insulation film 12 formed on a substrate 11.例文帳に追加
基板11上の層間絶縁膜12下層にコンタクト領域である拡散層13が形成されている。 - 特許庁
(3) The dispersion of the thickness of the separator in the contact region 40 of the MEA is preferably made 0.07 mm or less.例文帳に追加
(3)MEA当接領域40でのセパレータの厚さのばらつきを好ましくは0.07mm以下とした。 - 特許庁
An electric charge built up in the channel region 7 is drawn out from a contact 10 through the p^+ diffusion area 14.例文帳に追加
チャネル領域7に蓄積した電荷はP^+拡散領域14を介してコンタクト10から引き抜かれる。 - 特許庁
The width A of the contact part is set larger than the width B of the reflection suppressing region in the optical axis direction.例文帳に追加
光軸方向において、接触部の幅Aを反射抑制領域の幅Bよりも大きく設定する。 - 特許庁
The third electrically conductive film 273 is made to be in contact with the second electrically conductive film 272 in the pad formation region.例文帳に追加
第3導電膜273は、当該パッド形成領域内において第2導電膜272と接触する。 - 特許庁
The periphery of the base part of the nozzle member 11 attached to the loading end of a heating cylinder 1 is set as the contact region with the mold 2.例文帳に追加
加熱筒1の先端に取付けたノズル部材11の基部周囲を金型2との当接部位とする。 - 特許庁
例文 (999件) |
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|