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「contact region」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索
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contact regionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3198



例文

When the obstacle state of its own vehicle is shifted from the region where the possibility of the contact is high to the region where it is low, the operation reaction command value and repulsive force based on the contact risk potential are preferentially selected.例文帳に追加

障害物状態が接触の可能性が高い領域から低い領域へ移行する場合は、接触リスクポテンシャルによる操作反力指令値および反発力を優先的に選択する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for forming a mechanically strong contact region capable of being reliably electrically soldered, and to provide a solar cell in which the contact region is formed by using the manufacturing method.例文帳に追加

機械的に丈夫で、電気的に確実にはんだ付け可能なコンタクト領域を形成する製造方法、および、この製造方法を用いてコンタクト領域を形成したソーラーセルを提供する。 - 特許庁

A contact trace is made generated on a peripheral surface of a secondary transfer roller 4 (a peripheral surface between positions P3 and P4) contacting a region ARon of a holding region GA by controlling contact timing of a cleaning blade 451.例文帳に追加

クリーニングブレード451の当接タイミングを制御して当接痕を把持領域GAの領域ARonと当接する二次転写ローラー4の周面(位置P3〜P4間の周面)に発生させている。 - 特許庁

The bit line backing region S1 comprises bit line contact regions 9a including a part of the bit line diffusion layers 2 and having contacts 6, and a bit line contact isolation region 9b of the same conductive type as the substrate 1 interposed between the bit line contact regions 9a.例文帳に追加

ビット線裏打ち領域S1は、ビット線拡散層2の一部を含みコンタクト6を設けるビット線コンタクト領域9aと、ビット線コンタクト領域9aに挟まれ基板1と同一導電型のビット線コンタクト分離領域9bとを備える。 - 特許庁

例文

A contact is provided on the electrode to which the second contact is connected, and a blank region is formed between predetermined adjacent two contacts whose spacing size is larger than that of the other two contacts, and the first contact is provided on this blank region.例文帳に追加

電極には第2のコンタクトが接続されるコンタクト部を設け、所定の隣接した2つのコンタクト部間には他の2つのコンタクト部間の間隔寸法より広幅としたブランク領域を形成し、このブランク領域上に第1のコンタクトを設ける。 - 特許庁


例文

An N-type electric field moderation region 7 having an impurity concentration lower than the average impurity concentration of the N-type drift region 5 is formed so as to contact the side and the bottom of an N-type source region 13 side of the trench offset region 2.例文帳に追加

トレンチオフセット領域2のN型ソース領域13側の側面及び底面に接するように、N型ドリフト領域5の平均不純物濃度よりも低い不純物濃度を持つN型電界緩和領域7が設けられている。 - 特許庁

A second electrode 11 is provided on the first n-type region 1 such that it is spaced apart from the p-type region 2 by the first n-type region 1 and at least a part thereof is in contact with the first n-type region 1.例文帳に追加

第2の電極11は、第1のn型領域1によってp型領域2と隔てられかつ少なくとも一部が第1のn型領域1に接するように第1のn型領域1上に設けられている。 - 特許庁

A first electrode 2 for Schottky contact is connected with the N-type semiconductor region 5 and the P^+-type guard ring region 6, and a second electrode 3 is connected with the N^+-type semiconductor region 7 and the P^+-type semiconductor region 8.例文帳に追加

ショットキ接触用の第1の電極2がN型半導体領域5とP^+型ガードリング領域6とに接続され、第2の電極3がN^+型半導体領域7とP^+型半導体領域8とに接続されている。 - 特許庁

Further, this problem is solved by disposing a bonding region in a hanging region as seen in a direction perpendicular to the torsion axis and parallel to the principal plane and/or disposing the bonding region in direct contact with the hanging region.例文帳に追加

また、結合領域がトーション軸に対して垂直かつ主平面に対して平行な方向で見て吊り下げ領域に配置されているか、および/または、吊り下げ領域に直接に接して配置されていることにより解決される。 - 特許庁

例文

The detecting element (the p-n junction diode) D_j,_i which is composed of an anode region 51, a cathode region 52 and a cathode contact region 53 is housed at the inside of the diaphragm 1 which is used as the lid or the roof of a very small cavity region C_j,_i.例文帳に追加

アノード領域51,カソード領域52及びカソードコンタクト領域53からなる検出素子(pn接合ダイオード)D_j,iが、微小空洞領域C_i,jの蓋若しくは屋根となるダイアフラム部1の内部に収納されている。 - 特許庁

例文

The body contact region 30 is exposed on a surface of the body region 40, its impurity concentration is higher than that of the p-type body region 40, and its deepest portion L1 is deeper than the deepest portion L2 of the source region 20.例文帳に追加

ボディコンタクト領域30は、ボディ領域40の表面に露出しており、その不純物濃度がp型ボディ領域40の不純物濃度よりも濃く、その最深部L1がソース領域20の最深部L2よりも深い。 - 特許庁

An objective lens 15 is divided into an effective region R1 functioning as a lens and a non-effective region R2 other than the effective region and a part of the non-effective region R2 comes in contact with a lens setting table 16 to be mounted on the lens setting table 16.例文帳に追加

対物レンズ15は、レンズとして機能する有効領域R1とそれ以外の非有効領域R2とに分けられ、非有効領域R2のうちの一部がレンズ設置台16に接してレンズ設置台16に搭載される。 - 特許庁

Both ends R11 and R13 (R21 and R23) of the first region in the direction along the outer edge of the film are in contact with the second region, and a gap (maximum value: 2R) is provided between the first region and the second region at a portion between the both ends R11 and R13 (R21 and R23).例文帳に追加

この第1領域のフィルム外縁に沿った方向の両端部R11,R13(R21,R23)は、第2領域に接触し、且つ、両端部R11,R13(R21,R23)間において、第1領域と第2領域との間には隙間(最大値2R)がある。 - 特許庁

The semiconductor device includes: a conductive pad 15a having a transistor connection region 15b which overlaps a vertical transistor T in plan view and a contact region 15c which does not overlap the vertical transistor T in plan view and electrically connected to the vertical transistor T; and a contact 10 provided on a region including the contact region 15c and electrically connected to the contact pad 15a.例文帳に追加

縦型トランジスタTと平面視で重なり合うトランジスタ接続領域15bと、縦型トランジスタTと平面視で重なり合わないコンタクト領域15cとを有し、縦型トランジスタTに電気的に接続された導電体パッド15aと、コンタクト領域15cを含む領域上に設けられ、導電体パッド15aに電気的に接続されたコンタクト10とを備えている半導体装置とする。 - 特許庁

The semiconductor device also has a first n-type main electrode region 3 formed in the base region 1, a second main electrode region 20 formed coming in contact with the bottom of the drift region 21, a gate insulation film 23 formed coming in contact with the surface of the base region 1, and a control electrode 24 formed on the upper side of the gate insulation film 23.例文帳に追加

さらに、ベース領域1の内部に配置されたn型の第1主電極領域3と、ドリフト領域21の底面に接して設けられた第2主電極領域20と、ベース領域1の表面に接して設けられたゲート絶縁膜23と、ゲート絶縁膜23の上部に配置された制御電極24とを有している。 - 特許庁

A semiconductor substrate 11 comprises an n^+-type semiconductor region 13 for composing a source region, a p-type semiconductor region 12 for composing a base region surrounding the source region, and a source electrode 21 that is arranged in the source region and comes into contact with the p- and n^+-type semiconductor regions 12, 13.例文帳に追加

半導体基板11は、ソース領域を構成するn+型半導体領域13と、ソース領域を囲繞するベース領域を構成するp型半導体領域12と、当該ソース領域に配置されp型半導体領域12とn+型半導体領域13とに接触するソース電極21と、を備える。 - 特許庁

For example, an h-line stepper exposing machine is used, and the region for the contact hole 12 is exposed to 400 mg/cm2 irradiation while the rugged pattern in the pixel region is exposed to 160 mg/cm2 irradiation.例文帳に追加

例えば、ここではh線のステッパー露光機を用い、コンタクトホール12部を400mj/cm^2 で、画素領域内の凹凸を160mj/cm^2 で露光した。 - 特許庁

A part corresponding to a region for forming a via hole contact of the constrained layer 2 is cut off in a circle to be a non-printing region 31.例文帳に追加

拘束層2のビアコンタクトの形成領域に対応する部分は直径約250μmの円形状に削除されて非印刷領域31となっている。 - 特許庁

The memory of the non-contact communication medium is partitioned into a data region 32 storing data segmented into a plurality of items, and an index region 31.例文帳に追加

非接触通信媒体のメモリを、複数の項目に細分化されたデータを格納するデータ領域32とインデックス領域31とに区分する。 - 特許庁

A boundary between a black region and a white region provided on an original receiver glass 2 is detected by a contact image sensor 101, and it is used as a reference position.例文帳に追加

原稿台ガラス2上に設けた黒領域と白領域の境界をコンタクトイメージセンサ101で検出し、これを基準位置として用いる。 - 特許庁

A rubber member is brought into contact with a wiring board outside an element mounting region, and an unpolymerized component of a rubber member is transferred to outside the element mounting region.例文帳に追加

配線基板の素子搭載領域外に、ゴム部材を接触させ、前記ゴム部材の未重合成分を前記素子搭載領域外に転写させる。 - 特許庁

Thus, the end of the region 3 and that of the region 4, and the end of the electrode 7 and that of the contact hole are formed like self matching.例文帳に追加

これにより、p型ベース領域3の端部とn^+型ソース領域4の端部、ゲート電極7の端部とコンタクトホールの端部とが自己整合的に形成される。 - 特許庁

A width of a ridge 20 is constant in an oscillator direction, and a modulation structure 2 between a wide region 31 and a narrow region 32 is formed on a contact layer 19.例文帳に追加

リッジ部20の幅を共振器方向で一定とし、コンタクト層19に、広領域31と狭領域32との変調構造2を形成する。 - 特許庁

Moreover, a second diffused region 50 is extended to a cell region 60 at the part of a first LOCOS oxide film end 37 and contact a source electrode 35a.例文帳に追加

更に第1のLOCOS酸化膜端37の部分に第2の拡散領域50をセル領域60まで延ばし、ソース電極35aでコンタクトする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and the manufacturing method of the same which prevents the salicidation of a diffusion region simply, by increasing the contact area between a strap unit and the diffusion region.例文帳に追加

ストラップ部と拡散領域との接触面積を増やし、拡散領域のサリサイド化を簡易に防ぐ半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A light-shielding layer is selectively provided so as to overlap with a contact hole for electrical connection to a source region or a drain region of a thin film transistor.例文帳に追加

薄膜トランジスタのソース領域又はドレイン領域と電気的に接続するためのコンタクトホールと重なるように、遮光層を選択的に設ける。 - 特許庁

The heating roller 15a is in contact with the non-end part region 15i, while, a clearance G is formed between the heating roller 15a and the end part region 15h.例文帳に追加

加熱ローラ15aと非端部領域15iとは接触している一方、加熱ローラ15aと端部領域15hとの間は隙間Gになっている。 - 特許庁

The inner end 101e of a winding region and the leading-out wiring layer 10A are electrically coupled by a third connection part 9A in a contact region.例文帳に追加

巻き線領域の内側終端部101eと、引出配線層10Aとは、コンタクト領域において、第3接続部9Aにより電気的に連結されている。 - 特許庁

The CMOS circuits (7 to 11), resistor (13) and capacitor (12) are respectively provided in a semiconductor region 2 surrounded by the diffusion region 6 for contact.例文帳に追加

コンタクト用拡散領域6に囲まれた半導体領域2に、CMOS回路(7〜11など)、抵抗(13など)、容量(12など)が設けられている。 - 特許庁

Using this constitution, a prescribed potential can be surely and easily applied to the body region by using a first semiconductor layer 3 as a body contact region.例文帳に追加

上記構成によれば、第1の半導体層3をボディコンタクト領域として確実且つ容易にボディ領域に所定の電位を与えることができる。 - 特許庁

A P^+ type body contact part 72 is provided in a specific region outside of the source and drain regions 68, 69 through this power source path region 71.例文帳に追加

この電源経路領域71を介してソース・ドレイン領域68,69から外側に所定領域にP^+型のボディーコンタクト部72が設けられている。 - 特許庁

A source electrode 111 which enter the layer 104 and the region 105 to directly contact the region 105.例文帳に追加

また、蓄積チャネル層104及びコンタクト領域105内まで侵入して、コンタクト領域105に直接接触するソース電極111が設けられている。 - 特許庁

Further, a region which is smaller in contact angle than a circumference is provided in a portion in the light shield region to suppress the movement of the ink droplet in the drying stage.例文帳に追加

また、遮光領域内の一部に接触角が周囲よりも小さくなる領域を設けて乾燥工程においてインク液滴の移動を抑制する。 - 特許庁

On the other hand, in the diode region 20, the concentration of holes in a peripheral part of the second contact region 47 can be prevented, during reverse recovery of the diode device.例文帳に追加

一方、ダイオード領域20では、ダイオード素子の逆回復時に、第2コンタクト領域47の周辺にホールが集中しないようにすることができる。 - 特許庁

(2) The dispersion (2α) of the thickness in the contact region 40 of the MEA is made smaller than the dispersion (2α) of thickness of the separator in the adhesion region 41.例文帳に追加

(2)MEA当接領域40でのセパレータの厚さのばらつき(2α)を、接着領域41でのセパレータの厚さのばらつき(2α)より小さくした。 - 特許庁

The source electrode 4 is formed so as to contact the source region 16 and has an adhesion layer 41 in which the interface between the adhesion layer 41 and the source region 16 is silicided.例文帳に追加

ソース電極4は、ソース領域16に接するように形成され、ソース領域16との界面がシリサイド化された密着層41を有する。 - 特許庁

A region R1 of at least part of a seal surface R encompassing an introduction port 1b and directly in contact with a dash panel is a high strength region R1.例文帳に追加

導入口1bを囲うと共にダッシュパネルと直接当接するシール面Rの少なくとも一部の領域R1が高強度領域R1とされている。 - 特許庁

The bending gives a sufficient normal-force to ensure a sure connection at the region of contact.例文帳に追加

曲がりはまた十分な法線力を与えて接触領域での確実な接続を確保している。 - 特許庁

Additionally, a transistor whose collector contact region 150-3 is surrounded by the base 130 is provided.例文帳に追加

さらに、コレクタコンタクト領域(150−3)がベース(130)により取り囲まれているトランジスタが提供される。 - 特許庁

A recessed portion 21c is formed at the end of a contact region of the heat sink 21 with the insulating resin layer 26.例文帳に追加

ヒートシンク21の絶縁樹脂層26との接触領域の端部には、凹部21cが形成されている。 - 特許庁

A first conductivity type high concentration diffusion layer 111 is formed all over a contact region 120.例文帳に追加

コンタクト領域120の全域に第1導電型の高濃度拡散層111が形成されている。 - 特許庁

The secondary transfer belt 331 is in pressure contact with the intermediate transfer belt 311 in a secondary transfer region 92.例文帳に追加

二次転写ベルト331は、二次転写領域92において中間転写ベルト311に圧接する。 - 特許庁

Each of the selector gate lines 6 has a contact hole forming region 6a that protrudes toward the other selector gate line.例文帳に追加

それぞれ選択ゲート線6は、他方に向かって突出するコンタクトホール形成領域6aを有する。 - 特許庁

Then, a back contact with the TSV is formed through the window region formed in a buried oxide layer.例文帳に追加

そして、埋め込み酸化層に形成された窓領域を介して、TSVとのバックコンタクトを形成する。 - 特許庁

Through these contact holes, the above-mentioned source electrode is electrically connected to the source region 14.例文帳に追加

これらのコンタクト孔を介して、前記ソース電極が、ソース領域14に電気的に接続されている。 - 特許庁

The current diffusion layer (6) also functions as a region where an ohmic contact is carried out with respect to a primary electrode (7).例文帳に追加

電流分散層(6)は第1の電極(7)をオーミックコンタクトさせる領域としても機能する。 - 特許庁

In the transfer region, the respective waveguide cores 110 and 115 come into contact with a polymer clad 125.例文帳に追加

転送領域内で、第1及び第2の導波路は指定された距離だけ離れて、平行である。 - 特許庁

A specified region of the insulating film is opened to form a contact hole that reaches the second metal film.例文帳に追加

次に、絶縁膜の所定領域を開口して、第2の金属膜に到達するコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

Near the surface of the contact layer 12, the n-type carrier increases and an n+ region 12a is formed.例文帳に追加

n型コンタクト層12の表面近傍ではn型キャリアが増加してn^+ 領域12aが形成される。 - 特許庁

例文

PROTUBERANT SILICIDE SOURCE/DRAIN TYPE MOS TRANSISTOR WITH EXPANDED SOURCE/DRAIN CONTACT REGION AND METHOD例文帳に追加

拡張されたソース/ドレインコンタクト領域を有する隆起シリサイドソース/ドレイン型MOSトランジスタおよび方法 - 特許庁




  
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