「defect correction」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOMASK DEFECT CORRECTION METHOD USING ATOMIC FORCE MICROSCOPE PROCESSING DEVICE例文帳に追加

原子間力顕微鏡加工装置を用いたフォトマスク欠陥修正方法 - 特許庁

The correction film 4 for the semitransmitting film is deposited inside the white defect.例文帳に追加

前記白欠陥の内側に半透過膜の修正膜４を堆積する。 - 特許庁

To provide a liquid container attaching and detaching apparatus which facilitates the secure attachment and detachment of a liquid container to and from a defect correction apparatus and a defect correction apparatus.例文帳に追加

液体容器の欠陥修正装置への確実な着脱を容易にする液体容器着脱装置および欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁

The signal processing section 34 identifies a position of a defect caused at an exposure start position of the received image data by using a defect correction pulse 186a and applies defect correction processing to the pixel data at this position to output a normal image without a defect.例文帳に追加

信号処理部34では、供給される画像データの露出開始位置に生じる傷の位置を欠陥補正パルス186aで特定してこの位置の画素データに欠陥補正処理を施して欠陥のない正常な画像を出力する。 - 特許庁

A defect detection unit included in a defect correction device generates a defect region image being a difference image between a defect image of a repeated pattern in a multilayer substrate and a reference image.例文帳に追加

欠陥修正装置が備える欠陥検出部が、多層基板における繰り返しパターンの欠陥画像と参照画像との差画像である欠陥領域画像を生成する。 - 特許庁

To provide an infrared ray image correction apparatus detecting a blinking defect with high accuracy without being affected by lens shading correction deviation, offset correction deviation and sensitivity correction deviation.例文帳に追加

レンズシェーディング補正ずれ、オフセット補正ずれ、及び感度補正ずれによる影響を受けずに精度よく点滅欠陥を検出できる赤外線画像補正装置を得る。 - 特許庁

To provide a defect correction method capable of easily correcting a fine white defect part without damaging and contaminating the neighborhood of a defect part.例文帳に追加

欠陥部の近傍にダメージを与えたり、汚染することなく、微細な白欠陥部を容易に修正することが可能な欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To propose a defect correction technique of excellent memory efficiency, for performing small scale correction of an execution program.例文帳に追加

実行プログラムの小規模な修正を行うためのメモリ効率の良い欠陥修正手法を提案すること。 - 特許庁

To perform erasure correction by detecting a medium defect in an early stage in a reproducing device performing error correction.例文帳に追加

誤り訂正を行う再生装置において、媒体欠陥を早期に検出して、消失訂正を行う。 - 特許庁

To provide an image defect correction system of an imaging device using direction detection.例文帳に追加

方向検出を用いた撮像デバイスの画像欠陥補正システムを提供する。 - 特許庁

DEFECT CORRECTION METHOD FOR PHOTOMASK BY USING TRANSFER OR LIGHT INTENSITY SIMULATION例文帳に追加

転写もしくは光強度シミュレーションを用いたフォトマスクの欠陥修正方法 - 特許庁

DEFECT CORRECTION METHOD OF METALLIC THIN PLATE HAVING MINUTE SLIT-LIKE OPENING例文帳に追加

微細なスリット状開口部を有する金属製薄板の欠陥修正方法 - 特許庁

DEFECT CORRECTION METHOD FOR THIN METAL SHEET WITH VERY NARROW SLIT TYPE APERTURE例文帳に追加

微細なスリット状開口部を有する金属製薄板の欠陥修正方法 - 特許庁

Also, the detection can be performed in the prestage of error correction decoding, The defect can be detected in the early stage and the erasure correction can be performed in the early stage during the error correction.例文帳に追加

又、誤り訂正復号の前段で検出できるため、早期に検出でき、誤り訂正時に、消失訂正を早期にできる。 - 特許庁

To detect a minute real defect on an optical proximity effect correction mask while suppressing the occurrence of a pseudo-defect.例文帳に追加

擬似欠陥の発生を最大限抑えながら、光学近接効果補正マスク上の微細な実欠陥を検出する。 - 特許庁

DEFECT INSPECTION METHOD OF ELECTROLUMINESCENT DISPLAY, DEFECT CORRECTION METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTROLUMINESCENT DISPLAY例文帳に追加

エレクトロルミネッセンス表示装置の欠陥検査方法及び欠陥修正方法及びエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法 - 特許庁

To provide a defect correction method of a color filter which prevents ultraviolet burn at a normal portion upon correction by ultraviolet curing ink for correction for a defect portion of the color filter and that stably hardens a portion where the ink for correction is overlapped with a normal area around the defect portion.例文帳に追加

カラーフィルタの欠陥部の紫外線硬化性修正用インクによる修正時における正常な部分の紫外線焼けを防ぐとともに、該欠陥部周辺の正常な領域と該修正用インクの重なり部分も安定的に硬化させるカラーフィルタの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

Among defect correction processing portions 42a to 42c set in each of noise elimination processing portions 30a to 30c, the defect correction processing portion 42c set corresponding to the outline processing portion 38 sets a defect correction level at a low level and maintains an outline information.例文帳に追加

ノイズ除去処理部３０ａ〜３０ｃそれぞれに設ける欠陥補正処理部４２ａ〜４２ｃのうち、輪郭処理部３８に対応して設けられた欠陥補正処理部４２ｃは、欠陥補正レベルを低く設定され、輪郭情報を維持する。 - 特許庁

A correction object selection function section 182 selects an image pickup element of a correction object with priority imparted to a defect in an area near the middle of an image while taking a correction number into account and stores defect information to a defect address memory 38b.例文帳に追加

補正対象選択機能部182 は、欠陥アドレスメモリ38a からの画像データ180cのうち、画面中央近傍領域の欠陥を優先させて、補正数を考慮して補正対象の撮像素子を選択して欠陥情報を欠陥アドレスメモリ38b に記憶させる。 - 特許庁

By a defect correction processing unit 31R which corrects the defect of an image signal DRa corresponding to red component light, a correction signal generator 311 generates correction signals DHR by defective pixels according to offsets of the defective pixels indicated with the defect information RPR.例文帳に追加

赤成分光に応じた画像信号ＤRaの欠陥補正を行う欠陥補正処理部３１Rで、補正信号生成部３１１は、欠陥情報ＲＰRで示された欠陥画素のオフセットに応じて、補正信号ＤＨRを欠陥画素毎に生成する。 - 特許庁

To provide a phase defect correction method of reflection type mask which allows for accurate phase defect correction of a reflection type mask without causing any damage thereon.例文帳に追加

反射型マスクがダメージを受けることなく、精度よく、位相欠陥が修正されることを可能とする、反射型マスクの位相欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active matrix substrate in which correction of a defect is easy and yield decrease caused by a conductive piece prepared for defect correction is suppressed.例文帳に追加

画素欠陥の修正が容易で、かつ、欠陥修正用に設けられた導電片に起因した歩留まりの低下が抑制されたアクティブマトリクス基板を提供する。 - 特許庁

INK FOR CORRECTING DEFECT OF FINE COLORED PATTERN, ITS CORRECTION METHOD, AND COLOR FILTER例文帳に追加

微小着色パターン欠陥修正用インキ、その修正方法、及び、カラーフィルター - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR PHOTOMASK DEFECT CORRECTION USING CHARGED PARTICLE BEAM例文帳に追加

荷電粒子ビームを用いたフォトマスクの欠陥修正方法及び欠陥修正装置 - 特許庁

To provide a method for applying defect correction substantially independent from calibration.例文帳に追加

較正から実質的に独立した欠陥修正を適用する方法を提供する。 - 特許庁

Then defect correction is applied to pixel values of color components of the center pixel by adding the correction amount to the pixel values (S7f).例文帳に追加

そして、上記中心画素の各色成分の画素値に、上記補正量を加算する傷補正を行う（Ｓ７ｆ）。 - 特許庁

To provide a substrate holding device that can cope with defect inspection or defect correction for eighth or tenth generation glass substrate.例文帳に追加

第８世代や第１０世代のガラス基板に対する欠陥検査や欠陥修正に対応できる基板保持装置を実現する。 - 特許庁

To provide a method for correcting defect that prevents the width of a correction layer formed in a disconnection defect part from widening.例文帳に追加

断線欠陥部に形成した修正層の幅が広がるのを防止することが可能な欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

The defect correction method consists of template information 73, representing the characteristics of the defect and object information 74 representing actual correction method and defect location, and information on the detected defect, matching with the specified conditions of the template information 73 and the object information 74, is output as the defect correction method.例文帳に追加

上記欠陥修正手法は欠陥の特徴を示すテンプレート情報７３と、実際の修正方法及び欠陥の位置を示すオブジェクト情報７４から構成されており、検出された欠陥の情報がテンプレート情報７３及びオブジェクト情報７４の特定の条件に一致しているものを欠陥修正手法として出力する。 - 特許庁

The device for correcting a defect of a reticle pattern comprises: a lithography emulation system 48 having an optical emulation system 45; and a micromachining defect correction system 52 having a reticle defect correction mechanism 49 with a cantilever.例文帳に追加

レチクルパターン欠陥修正装置は光学エミュレーションシステム４５を有するリソグラフィエミュレーションシステム４８と、カンチレバーを備えたレチクル欠陥修正機構４９を有するマイクロマシニング欠陥修正システム５２から成る。 - 特許庁

A defect correction means 30 corrects fixed defect pixels and flicker defect pixels stored in the sensitivity coefficient defective information storage means 28A.例文帳に追加

欠陥補正手段３０による補正は、感度係数欠陥情報記憶手段２８Ａに記憶されている固定欠陥画素及び点滅欠陥画素を対象として行う。 - 特許庁

To improve quality of defect correction while remarkably improving work efficiency in a defect correcting process against an interlayer short-circuit defect between upper and lower parts of a multilayer structure.例文帳に追加

多層構造の上下間での層間ショート欠陥に対する欠陥修正工程の作業効率を著しく向上させつつ、欠陥修正の品質を向上させる。 - 特許庁

To prevent increase in manufacturing cost accompanying image defect testing beforehand in pixel defect correction, or inappropriate corrections for a pixel becoming a defect through aging or temperature variation.例文帳に追加

画素欠陥補正における、事前の有無試験に伴う製造コストの上昇や、あるいは、経年変化や温度変化で欠陥となる画素に対する不適切な補正を防止する。 - 特許庁

Phase defect can be corrected by laminating a multilayer film for correction, even for a protrusion defect directly above a substrate and a protrusion defect in the center of the multilayer film.例文帳に追加

基板真上の突起欠陥と多層膜中央の突起欠陥であっても、修正用多層膜を積層することでこれらの位相欠陥を修正することが可能である。 - 特許庁

The applying operation is performed a plurality of times so that the correction paste 13 is applied to the defect part 2a.例文帳に追加

塗布動作を複数回実行して修正ペースト１３を欠陥部２ａに塗布する。 - 特許庁

The defect net and the correction net are terminated at top vias 41 and 46 of the substrate.例文帳に追加

欠陥ネットと修正ネット各々は基板の表面ビア４１，４６で終端する。 - 特許庁

This result leads to proper correction of the V line defect in motion image photographing.例文帳に追加

その結果、動画撮影時においてＶライン傷の補正を適切に行えることとなる。 - 特許庁

REFLECTIVE MASK, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND REFLECTIVE MASK DEFECT CORRECTION DEVICE例文帳に追加

反射型マスク、反射型マスクの製造方法、および反射型マスク欠陥修正装置 - 特許庁

To provide a method of correcting defect in color filter which does not cause failure after correction.例文帳に追加

修正後に、不具合が生じることがないカラーフィルタ欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

A defect correction method corresponding to the detected defects is read from a database.例文帳に追加

次に、検出された欠陥に対応する欠陥修正手法をデータベースから読み出す。 - 特許庁

DEFECT CORRECTION METHOD FOR PHOTOMASK, MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

フォトマスクの欠陥修正方法及びフォトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁

PHASE DEFECT CORRECTION METHOD OF REFLECTION TYPE PHOTOMASK AND REFLECTION TYPE PHOTOMASK USING THE SAME例文帳に追加

反射型フォトマスクの位相欠陥修正方法およびそれを用いた反射型フォトマスク - 特許庁

The defect correction paste 5 includes the binder but does not include the conductive assistant and the active material.例文帳に追加

欠陥修正ペースト５はバインダを含むが、導電助剤、活物質は含まない。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND SYSTEM FOR JUDGING NECESSITY OF DEFECT CORRECTION例文帳に追加

露光用マスク、半導体装置の製造方法及び欠陥修正要否判定装置 - 特許庁

To provide a solid-state image pickup device, a pixel defect inspection device and a pixel defect correction method that can properly correct a defect of a remarkable area in an image screen and satisfy a requirement for effective utilization of a defect correction performance so as to obtain an excellent image.例文帳に追加

画面での目立つ領域の欠陥補正を的確に行い、かつ欠陥補正能力の有効利用という要求を満足させて良好な画像を得ることのできる固体撮像装置、画素欠陥検査装置および画素欠陥補正方法の提供。 - 特許庁