例文 (627件) |
defect correctionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 627件
DEFECT CORRECTION METHOD FOR OPTICAL ELEMENT, OPTICAL ELEMENT, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE WITH OPTICAL ELEMENT INCORPORATED THEREIN例文帳に追加
光学素子の欠陥修正方法、光学素子、および、光学素子を組み込んだ液晶表示装置 - 特許庁
Thus, the overflow of the correction ink 7 applied to the white defect 6a to the circumference can be suppressed.例文帳に追加
したがって、白欠陥6aに塗布した修正インク7の周囲へのはみ出しを抑えることができる。 - 特許庁
To simply and exactly detect a defect, etc. of an inspection object without using a thick correction jig.例文帳に追加
肉厚補正治具を使用することなく簡易かつ正確に検査対象物の欠陥等を検出する。 - 特許庁
To securely correct a defect of a pattern formed on a substrate surface and to shorten the correction time.例文帳に追加
基板面に形成されたパターンの欠陥修正を確実に行なうと共に修正時間を短縮する。 - 特許庁
To provide an image processing apparatus capable of obtaining a high-quality image by appropriate defect correction.例文帳に追加
適切なキズ補正により高品質な画像を得ることを可能とする画像処理装置を提供すること。 - 特許庁
METHOD FOR PHOTOMASK DEFECT CORRECTION USING COMPOSITE APPARATUS OF CONVERGENCE ELECTRON BEAM DEVICE AND ATOMIC FORCE MICROSCOPE例文帳に追加
集束電子ビーム装置と原子間力顕微鏡との複合装置を用いたフォトマスク欠陥修正方法 - 特許庁
To provide a pixel defect correction method by which even a digital camera adopting the pixel shift method can accurately correct defective pixels.例文帳に追加
画素ずらし方式のデジタルカメラにおいても、欠陥画素の補正を正確に行うことができる。 - 特許庁
The method for correcting the pattern comprises the steps of: applying correction ink 8 to the central part of a white defect 7; and jetting air from just above the white defect 7 through an injection plate 23 formed from a porous material to uniformize the thickness of the applied correction ink 8 in the white defect 7.例文帳に追加
このパターン修正方法では、白欠陥7の中央部に修正インク8を塗布した後、多孔質材料で形成された噴射板23を介して白欠陥7の真上からエアーを噴射し、白欠陥7における修正インク8の厚みを均一化する。 - 特許庁
A remaining defect detecting section 22 acquires height information relating to the height of the glass substrate 2 in the area of the defect, deciding presence/absence of the remaining defect to be further corrected after the correction of the defect on the basis of the height information.例文帳に追加
残存欠陥検出部22は、欠陥の範囲におけるガラス基板2の高さに関する高さ情報を取得し、欠陥の修正後にさらに修正すべき残存欠陥が存在するか否かを、高さ情報に基づいて判断する。 - 特許庁
To provide a shading correction method for improving precision for removing shading in a display defect detection step of a display device and detecting display defects precisely, and to provide a defect detection method, a defect detector, and a control method program of the defect detector.例文帳に追加
表示デバイスの表示欠陥検出工程においてシェーディング除去の精度を高め、表示欠陥を高精度に検出できるシェーディング補正方法、欠陥検出方法、欠陥検出装置、その制御方法プログラムを提供すること。 - 特許庁
Defects in repetitive patterns in a multilayer substrate are detected by a defect detection part provided in the defect correcting device, and when the defects detected by the defect detection part overlap with a region where an occurrence of the interlayer short-circuit defect is assumed, a control part 301 provided in the defect correcting device generates an object corresponding to a defect correction technique for the interlayer short-circuit defect.例文帳に追加
欠陥修正装置が備える欠陥検出部により多層基板における繰り返しパターン内の欠陥を検出し、欠陥検出部で検出された欠陥が層間ショート欠陥の発生が想定される領域に重なる場合、欠陥修正装置が備える制御部301により層間ショート欠陥用の欠陥修正手法に対応するオブジェクトを生成する。 - 特許庁
To solve the problem that a lost flag can not be obtained when the state of no error apparently occurs in a 2nd error correction code in the occurrence of media defect, in the case the loss correction of a 1st error correction code is made by using the correction positional information of the 2nd error correction code.例文帳に追加
第2のエラー訂正符号の訂正位置情報を用いて第1のエラー訂正符号の消失訂正を行う場合、メディアデフェクト発生時に第2のエラー訂正符号に見かけ上エラーがない状態が発生すると消失フラグを得ることができない。 - 特許庁
In the correction data generating process, luminance data of the point defect pixel is eliminated (S7) from the luminance data by use of the position data before the correction data is generated.例文帳に追加
前記補正データ生成工程において、補正データを生成する前に輝度データの中から位置データを利用して点欠陥画素の輝度データを除く(S7)。 - 特許庁
That is, the video camera is constituted without providing a block for performing signal processings such as the defect correction of the pixel of the CCD, γ correction and color matrix transformation.例文帳に追加
即ち、ビデオカメラは、CCDの画素の欠陥補正や、γ補正、色マトリクス変換等の信号処理を行うブロックを設けずに構成することができる。 - 特許庁
To remove charges accumulated during the defect correction of a photomask by electron beams even in an electron beam defective correction device of which the test piece chamber is vacuum.例文帳に追加
試料室内が真空である電子ビーム欠陥修正装置においても、フォトマスクを電子ビームにて欠陥修正中に蓄積される電荷を除去する。 - 特許庁
The signal processing circuit 4 applies processing such as clamp processing, color signal processing, luminance signal processing, contour correction, defect compensation, and white balance correction.例文帳に追加
信号処理回路4では、画像信号に対してクランプ処理、色信号処理、輝度信号処理、輪郭補正、欠陥補償、ホワイトバランス補正などの処理が施される。 - 特許庁
To provide a pixel defect detection/correction device that detects pixel defects even if there is a large value of the pixel in the adjacent same color pixels, an image pickup device, a pixel defect detection/correction method, and program therefor.例文帳に追加
同色隣接画素に大きな値の画素が存在する場合であっても画素欠陥を検出することが可能な画素欠陥検出補正装置、撮像装置、画素欠陥検出補正方法、およびプログラムを提供する。 - 特許庁
As a defect of a reticle pattern can be corrected by the defect correction mechanism while in-situ observing a transferred image by the optical emulation system, the reticle pattern can be efficiently corrected while avoiding a problem such as excessive correction.例文帳に追加
光学エミュレーションシステムにより転写像をその場観察しながら、欠陥修正機構によりレチクルパターン欠陥を修正できるので、過修正などの問題を回避しつつ、効率的にレチクルパターンの修正ができる。 - 特許庁
Hence, the correction ink 14 applied to the white defect 6a absorbs the vapor of the solvent 18 for enhancing fluidity of the correction ink 14, and thickness of the correction ink 14 is uniformized.例文帳に追加
したがって、白欠陥6aに塗布された修正インク14に溶媒18の蒸気を吸引させて修正インク14の流動性を高め、修正インク14の厚みを均一化させることができる。 - 特許庁
To reduce processing time on an image correction method, an image correction device, and an image correction program which detect and correct a prescribed defect about eyes in an image based on image data indicating the image.例文帳に追加
画像を表す画像データに基づいて、画像中の目に関する特定の不具合を検出して修正する画像補正方法、画像補正装置、および画像補正プログラムにおいて処理時間を低減する。 - 特許庁
A defect image of a repeated pattern in a multilayer substrate and a reference image are obtained, difference images between the obtained defect image and the reference image are generated by a control unit included in a defect correction device.例文帳に追加
多層基板における繰り返しパターンの欠陥画像と参照画像を取得し、欠陥修正装置が備える制御部により、取得された前記欠陥画像と前記参照画像の差分画像を生成する。 - 特許庁
To provide a device and a method for mask correction which can quantitatively measure the shape of a defect formed on a photomask and correct the defect according to the defect shape.例文帳に追加
本発明は、フォトマスクに形成された欠陥の形状を定量的に測定し、該欠陥形状に基づいて欠陥を修正することができるマスク修正装置及びマスク修正方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
DEFECT CORRECTION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER FOR LCD USING THE METHOD, AND COLOR FILTER FOR LCD例文帳に追加
欠陥修正方法及びそれを用いたLCD用カラーフィルタの製造方法並びにLCD用カラーフィルタ - 特許庁
To improve reliability of wiring defect correction in a method of correcting disconnection of wiring for a picture display device.例文帳に追加
画像表示装置の配線の断線修正方法に関し、配線欠陥修正の信頼性を向上すること。 - 特許庁
In the defect correction device 1, a pair of substrate end supporting tables 3 is arranged on which a glass substrate 99 is placed.例文帳に追加
欠陥修正装置1では、ガラス基板99が載置される1対の基板端支持台3が配設されている。 - 特許庁
To suppress the influence of some accidental abnormalities such as an optical disk defect on the correction of a spherical aberration.例文帳に追加
光ディスクの欠陥等や、何らかの突発的な異常などによる球面収差の補正への影響を抑える。 - 特許庁
To suitably correct image deterioration due to a pixel defect of an imaging element even when performing electronic shake correction.例文帳に追加
電子手ぶれ補正を行う場合にも、撮像素子の画素欠陥に起因する画像劣化を適切に補正すること。 - 特許庁
The shutter 31 is closed after a proper amount of correction liquid 20a spreads all over the whose white voice defect part 13a.例文帳に追加
白抜け欠陥部13a全体に適切な量の修正液20aが行きわたったら、シャッタ31を閉じる。 - 特許庁
To improve assemability of a convergence correction device by resolving the defect due to integration of the coil winding member.例文帳に追加
コイル巻線用部材の一体化による不具合を克服してコンバージェンス補正装置の組立性を改善する。 - 特許庁
To realize working, without overetching or insufficient shaping in defect correction on a mask using atomic force microscope techniques.例文帳に追加
原子間力顕微鏡技術を用いたマスクの欠陥修正でオーバーエッチや削り残しのない加工を実現する。 - 特許庁
To provide a mask blank capable of suitably applying EB defect correction and also thinning a light-shielding film.例文帳に追加
EB欠陥修正を好適に適用でき、なお且つ遮光膜の薄膜化を可能とするマスクブランクを提供する。 - 特許庁
Consequently, a defect correction part 101 preferentially corrects the pixel values of defective pixels having high defective levels.例文帳に追加
これにより、欠陥補正部101では、欠陥レベルが高い欠陥画素の画素値の補正を、優先的に行う。 - 特許庁
After performing skew correction of the inspection image data, image collation is performed, and thereby a print defect is extracted (S204, S205).例文帳に追加
検査画像データをスキュー補正した後に、画像照合して印刷欠陥を抽出する(S204,S205)。 - 特許庁
The conductive film 4 is pressed and flattened later, and at this time the portion to which defect correction is performed is also flattened.例文帳に追加
導電膜4は後にプレスされて平坦化されるが、このとき、欠陥修正した部分も平坦化される。 - 特許庁
To provide a defect correction method of photomasks that efficiently corrects even huge black defect, and can suitably correct, in particular, a black defect occurring a transflective part of a gray-tone mask without damaging a transflective film in the defect part.例文帳に追加
巨大黒欠陥であっても効率的に修正することができ、特にグレートーンマスクの半透光部に発生した黒欠陥を欠陥部分の半透光膜にダメージを与えることなく好適に修正できるフォトマスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁
Referring to the defect information, pixel data supplied with correcting object pixel around the defect is corrected based on the pixel data to be supplied to the pixel around at least a correction object pixel and the defect data corresponding to the defect condition.例文帳に追加
前記欠点情報を参照して、前記欠点の周辺の補正対象画素に供給される画素データを、少なくとも前記補正対象画素の周辺の画素に供給される画素データと、前記欠点の状態に対応する欠点データとに基づいて補正する。 - 特許庁
To provide a method for correcting a defect of a color filter, which removes only a black defect on a color pixel without removing the color pixel by removing even high portions even when the black defect has an uneven thickness, without providing a correction opening when removing the black defect on the color pixel.例文帳に追加
着色画素42上の黒欠陥の除去を修正口Sを設けることなく、その厚さに高低があっても、高い部分も除去し、着色画素は除去せずに黒欠陥のみを除去するカラーフィルタの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern defect correcting method and a pattern defect correcting device capable of satisfactorily correcting pattern defects, and enhancing correction efficiency.例文帳に追加
パターン欠陥修正を良好に行なうとともに修正効率の向上を図ることが可能なパターン欠陥修正方法およびパターン欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁
To provide an image defect correction apparatus which makes a white vertical line invisible that is generated by a point defect of a vertical CCD while suppressing the deterioration of substantial resolution.例文帳に追加
垂直CCDの点欠陥により発生する白縦線を、実質的な解像度の低下を抑えつつ目立たなくすることができる画像欠陥補正装置を提供する。 - 特許庁
To provide a black defect correction method for correcting a black defect generated in a transparent conductive film without damaging a base and a peripheral region.例文帳に追加
透明導電膜に存在する黒欠陥を、下地や周辺部位へのダメージ無く修正することが可能な黒欠陥修正方法を提供することが課題である。 - 特許庁
To enable a highly accurate and high quality defect correction of an isolated fine pattern and an OPC pattern which is hardly observed by an ion beam defect correcting device because of charge-up.例文帳に追加
チャージアップのためにイオンビーム欠陥修正装置で観察しにくい微細化な孤立したパターンやOPCパターンの高精度かつ高品位な欠陥修正を可能にする。 - 特許庁
In a correction process S16, a position of the unit region including the defect in the second stage by position coordinate, is specified and the defect of the unit region is corrected.例文帳に追加
修正工程S16では、位置座標によって第2のステージにおける欠陥を含む単位領域の位置を特定し、単位領域の欠陥を修正する。 - 特許庁
To enable the correction of black defect in which also the riverbed is not generated in the practical throughput by combining a defect correcting device using an ion beam and an atomic force microscope(AFM).例文帳に追加
イオンビームを用いた欠陥修正装置と原子間力顕微鏡(AFM)を組み合わせることで、実用的なスル−プットでリバーベッドも無い黒欠陥修正を可能にする。 - 特許庁
Also, where the imaging apparatus uses live view image data successively acquired with an imaging element before main photographing to calculate AE/AWB correction value (control information), if a V line defect exists on the live view image, the imaging apparatus does not use pixel data equivalent to the V line defect from among the image data, but uses correction data by the V line defect correction.例文帳に追加
また、撮像装置では、本撮影前において撮像素子で順次に取得するライブビュー画像データを利用してAE・AWB補正値(制御情報)を算出するが、ライブビュー画像にVライン傷が存在する場合には、画像データのうちVライン傷に相当する画素データを用いず上記のVライン傷補正による補正データを利用する。 - 特許庁
A unit for controlling color panels (R, G, and B panel modules 31, 32, and 33), connected optically in series and a luminance panel (luminance panel module 50), includes a defect correction data storing part 103 for storing information specifying defective pixels of color panels and a defect correction circuit 102 for controlling the luminance panel according to the defects of defective pixels stored in the defect correction data storage part 103.例文帳に追加
光学的に直列につながれた色パネル(R、G、Bパネルモジュール31、32、33)と輝度パネル(輝度パネルモジュール50)を制御する装置であって、色パネルの欠陥画素を特定する情報を記憶する欠陥補正用データ記憶部103と、欠陥補正用データ記憶部103に記憶されている欠陥画素の欠陥に応じて輝度パネルを制御する欠陥補正回路102とを備えている。 - 特許庁
The application unit includes an application part 10 for applying a correction ink 14 to a white defect 6a of a liquid crystal color filter substrate 1, and a solvent vapor supply part 15 for supplying vapor of a solvent 18 of the correction ink 14 to the correction ink 14 applied to the white defect 6a.例文帳に追加
この塗布ユニットは、液晶カラーフィルタ基板1の白欠陥6aに修正インク14を塗布する塗布部10と、白欠陥6aに塗布された修正インク14に修正インク14の溶媒18の蒸気を供給する溶媒蒸気供給部15とを備える。 - 特許庁
To provide a method for correcting a defect of a color filter with which no new projection nor color mixing are produced on surrounding pixels even when a correction liquid is stuck to a correction opening produced by laser beam in correcting a pixel defect of the color filter.例文帳に追加
カラーフィルタの画素欠陥を修正する際に、レーザー光にて設けた修正口に修正液を被着させても、周囲の画素上に新たな突起や混色を発生させないカラーフィルタの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid container attaching and detaching apparatus capable of attaching and detaching a liquid container to and from an application mechanism located at an optional position inside a defect correction apparatus, and the defect correction apparatus equipped with the liquid container attaching and detaching apparatus.例文帳に追加
欠陥修正装置内の任意の位置にある塗布機構に対して液体容器を着脱することができる、液体容器着脱装置および当該液体容器着脱装置を備える欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁
In accordance with a defect type stored in the memory 15, a control section 14 reads a correction gain value or offset correction value and outputs it to the PGA 11 as a control signal.例文帳に追加
制御部14はメモリ15に格納されている欠陥の種類に応じて、補正ゲイン値又はオフセット補正値を読み出し、制御信号としてPGA11に出力する。 - 特許庁
Consequently, it is simply required to confirm the fact that a defect is not generated in the nominal image under a state where both correction processing A and correction processing B are performed.例文帳に追加
よって、補正処理Aと補正処理Bの双方を実施した状態のノミナル画像にディフェクトが発生していないことだけを事前に確認しておけば良い。 - 特許庁
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