例文 (627件) |
defect correctionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 627件
An initial defect correction means 202 correct digital image information by using initial defective pixel position information previously known at the time of shipment from a plant or the like.例文帳に追加
初期欠陥補正手段202は、工場出荷時等で予め分かっている初期欠陥画素位置情報を用いて画像情報を補正(修正)する。 - 特許庁
The selection of the correction procedures is preferably performed based on the information on the lower layer of the pixel including the critical defect 181.例文帳に追加
修正手順の選択は、第3検査工程の結果および致命欠陥181を含む画素の下層配線情報に基づいて行うことが好ましい。 - 特許庁
To stably perform tilt correction without being affected by a recording state and to avoid an influence of a defect or the like.例文帳に追加
記録状態に影響をされることなく傾き補正を安定して実行することができ、また、ディフェクトなどの影響も避けることができるようにする。 - 特許庁
To provide a proximity correction mask with high accuracy and no defect in a short period of time while keeping a process margin in a complicated LSI pattern.例文帳に追加
複雑なLSIパターンにおいて、プロセス余裕度を保ちながら欠陥の無い高精度な近接効果補正マスクを短時間で提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a pixel defect correction apparatus capable of more accurately discriminating a defective pixel without the need for storing positional information of the defective pixel in advance.例文帳に追加
欠陥画素の位置情報を予め保持する必要がなく、より正確に欠陥画素の判別が可能な画素欠陥補正装置を提供する。 - 特許庁
To provide an imaging device and a defect correction method which can correct void defects highly precisely without increasing storage means in comparison with conventional ones.例文帳に追加
従来と比較して記憶手段を増大させずに精度よく白点欠陥を補正することができる撮像装置及び欠陥補正方法を提供する。 - 特許庁
The undercoat of the light shielding layer is subjected to a third etching process by using the light shielding layer and the resist pattern for correction as a mask to correct the excess defect.例文帳に追加
遮光層及び修正用レジストパターンをマスクにして遮光層の下層に対して第3のエッチング処理を施し余剰欠陥箇所を修正する。 - 特許庁
The defect correction part 45 refers to colors, densities and the like of peripheral pixels and corrects the pixel (region) decided as a defective region into proper image.例文帳に追加
欠陥修正部45は、欠陥領域と判定された画素(領域)を周辺の画素の色、濃度等を参照して適正な画像に修正する。 - 特許庁
The defect net is electrically isolated from an electric correction structure by the use of laser, and a post-burning circuit is formed on and in the substrate.例文帳に追加
レーザを使用して、電気的修正構造から欠陥ネットを電気的に分離し、これに続いて、基板上および基板内に後焼成回路を形成する。 - 特許庁
In the fail safe mode, when a defect is detected in verify-operation after data is written in the flash memory, error correction is performed and use of the flash memory is continued.例文帳に追加
フェイルセーフモードでは、フラッシュメモリにデータを書き込んだ後のベリファイ動作において不良を検出すると、エラー訂正してフラッシュメモリの使用は継続される。 - 特許庁
To obtain a cosmetic having an excellent feel in use especially during application and an excellent correction effect on a color defect.例文帳に追加
本発明の目的は、特に塗布時の使用感触に優れ、さらには肌の色彩的な欠点を補正する効果に優れた化粧料を提供することにある。 - 特許庁
To provide a defect correction method for satisfactorily correcting a defective part existing in a color layer of a color filter.例文帳に追加
本発明は、カラーフィルタの着色層に存在する欠陥部分を良好に修正するための欠陥修正方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁
Subsequently, the correction signal strength of scattered light for the EUV light is computed for every mesh when there is no defect on the EUV mask (step S03).例文帳に追加
その後、EUVマスク上に欠陥が無い場合におけるEUV光に対する散乱光の補正信号強度を、メッシュごとに算出する(ステップS03)。 - 特許庁
To achieve a process without overetching or insufficient etching and a process with high accuracy in surplus defect correction of a photomask by using atomic force microscope techniques.例文帳に追加
原子間力顕微鏡技術を用いたフォトマスクの余剰欠陥修正でオーバーエッチや削り残しのない加工や高精度な加工を実現する。 - 特許庁
Then, on the basis of distance signals from the exciting coils 18, flaw detection signals from the respective detecting coils 20 are corrected, and a defect is judged on the basis of their correction signals.例文帳に追加
そして、励磁コイル18からの距離信号を基に、各検知コイル20からの探傷信号を補正した後、その補正信号を基に欠陥判定する。 - 特許庁
When the target pixel is not a defective pixel, a defect correction section 144 outputs the pixel value of the target pixel received from the memory section 141 as it is.例文帳に追加
注目画素が欠陥画素でないと、欠陥補正部144はメモリ部141から入力された注目画素の画素値をそのまま出力する。 - 特許庁
To provide a positioning method of a color filter substrate for positioning a color filter substrate in a short time with good accuracy when a defect of the color filter substrate inspected by a defect inspection device is corrected by a color filter correction system.例文帳に追加
欠陥検査装置で検査されたカラーフィルタ基板の欠陥をカラーフィルタ修正装置にて修正する際、カラーフィルタ基板を精度良く、短時間に位置決めするためのカラーフィルタ基板の位置決め方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
A value obtained by subtracting a density of a center pixel from a defect surrounding density, which is a density obtained by applying a filter arithmetic operation to the center pixel affected by the defect, is used as a correction amount (S7e).例文帳に追加
傷による影響を受けている画素を中心画素としたフィルタ演算により得られる濃度を傷周辺濃度として、上記傷周辺濃度から上記中心画素の濃度を減算して得られる値を補正量とする(S7e)。 - 特許庁
To provide a technique capable of preventing a conductive material for defect correction from spreading up to an unnecessary part when a defect caused by breaking of a wiring line is corrected using a printing method which can be processed at low temperature.例文帳に追加
低温で処理できる印刷法を用いて、配線の断線による欠陥を修正する場合に、欠陥修正用の導電性材料が不要な部分まで広がることを防止することができる技術を提供する。 - 特許庁
A signal pattern is discriminated from a center of gravity pixel and surrounding pixels in real-time processing, during photographing of video and a pixel having an extremely large or small level, as compared with surrounding pixels, is regarded as a defect, and pixel defect correction is performed.例文帳に追加
映像撮影中にリアルタイムの処理で重心画素とその周囲の画素から信号のパターンを判別し、周囲と比較して1画素だけ極端の大きいレベルや小さいレベルの画素を欠陥とみなし画素欠陥補正を行なう。 - 特許庁
To provide a defect correction method and a defect correcting device for correcting a disconnected defective portion in a wiring line thinner than 10 μm by an easy method without contaminating a TFT substrate nor damaging the nearby area of the defective portion.例文帳に追加
TFT基板を汚染することなく、欠陥部の近傍にダメージを与えることなく、簡単な方法で10μmよりも細い配線の断線欠陥部を修正することが可能な欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁
To provide an imaging apparatus for detecting a linear defect of bright and dark lines and correcting a pixel signal of the detected linear defect when the operating temperature of a solid-state image sensor is high, and to provide a correction method of the pixel signal.例文帳に追加
固体撮像素子の動作温度が高い場合、明線および暗線の線状欠陥を検出し、検出された線状欠陥の画素信号を補正する撮像装置および画素信号の補正方法を提供するにある。 - 特許庁
Based on the amount of detected movement and the pixel value of one of the phase difference detection pixels in the first pixel data, the defect correction unit 330 corrects the pixel value of the defect pixel in the second image data.例文帳に追加
そして、欠陥補正部330は、前記検出された移動量および前記第1の画像データにおける一方の位相差検出画素の画素値に基づいて、前記第2の画像データにおける前記欠陥画素の画素値を補正する。 - 特許庁
A defect correction apparatus 100 having a function of a substrate observation apparatus moves the relative position of an optical system 104 to a substrate 10 on the basis of first positional information which specifies the position of a defect on the substrate 10.例文帳に追加
基板観察装置の機能を有する欠陥修正装置100は、基板10上の欠陥の位置を指定する第1の位置情報に基づいて、基板10に対する光学系104の相対的な位置を移動させる。 - 特許庁
To detect pixel defects of a solid state imaging element in real time and to enable a correction of the defect in a method for detecting the pixel defect of the element for outputting a video signal by imaging a plurality of spectral lights obtained by spectrally separating an imaged light.例文帳に追加
撮像光を分光して得られた複数分光光をそれぞれ撮像して映像信号を出力する固体撮像素子の画素欠陥検出方法において、画素欠陥を実時間で検出し、補正できるようにする。 - 特許庁
To provide a highly accurate drift correction method with which a photomask is scarcely damaged, by solving problems associated with the conventional photomask correction method using a one-point-drift correction such as occurrence of a scan damage on a place other than a place with a defect on the photomask, inability to open any pin hole in the case of a fine pattern, and so on.例文帳に追加
ワンポイントドリフト補正を用いた従来のフォトマスク修正方法の抱えるフォトマスク上の欠陥以外の箇所にスキャンダメージが生じる、微細パターンの場合にピンホールを開けることができないといった問題を解決し、ダメージの少ない、精度のよいドリフト補正方法を提供する。 - 特許庁
For example, after a correction film 8 is formed in the region including a white defect, the correction film 8 is partially removed according to the form and/or arrangement which produces the gray tone effect equivalent to the normal pattern to form a correction pattern 3a', 3b' having mutually different widths and position from the normal pattern 3a, 3b.例文帳に追加
例えば、白欠陥を含む領域に修正膜8を形成した後、正常パターンと同等のグレートーン効果を奏する形状及び/又は配列にて前記修正膜8を部分的に除去して、正常パターン3a、3bとは幅や位置が異なる修正パターン3a’、3b’を形成する。 - 特許庁
To provide a method for correcting a semiconductive belt which flattens a shape defect part more than a conventional correction method by heating process so as to perform correction with no practical problem and which can improve manufacturing yield more than the correction method by heating process.例文帳に追加
従来の加熱処理による修正方法よりも形状的な欠陥部分を平坦化して、実使用上問題の無い状態に修正でき、加熱処理による修正方法よりも製造の歩留まりを向上することができる半導電性ベルトの修正方法を提供することにある。 - 特許庁
In response to the inquiry, the DB server 4 refers to a database 41 which has version information about the firmware in association with defect correction information showing the corrected defect in the version and specifies whether or not there is any firmware whose defect can be resolved, or specifies the version of the firmware when such firmware exists.例文帳に追加
DBサーバ4は、それに対応し、ファームウェアのバージョン情報とそのバージョンで改修された不具合を示す不具合改修情報とを関連づけて有するデータベース41を参照して、不具合を解決可能なファームウェアの有無および不具合を解決可能なファームウェアがある場合にはそのファームウェアのバージョンを特定する。 - 特許庁
Using a defect detection sensitivity correction standard substrate including a pattern 8 and pseudo-defective sections 7 that are cone defects differing in size and are randomly formed on a silicon substrate 1, defect detection sensitivity is used in product management as an indicator for judging sensitivity adjustment after a lamp 21a in a lighting section 21 of a defect detecting device is replaced.例文帳に追加
パターン8と、サイズの異なるコーン欠陥であり、シリコン基板1上にランダムに形成された擬似欠陥部7とを備えた欠陥検出感度校正標準基板を用いて、欠陥検査装置の照明部21におけるランプ21aの交換後の感度調整を判断する指標として製造管理に利用する。 - 特許庁
The method of correcting the recessed defects on the overcoat layer 4 formed on the colored layer 3 of the color filter 5 includes a defect correction ink applying process to apply defect correction ink 7 to the recessed defects 6 found on the overcoat layer in the defect check carried out in advance and to correct them.例文帳に追加
カラーフィルタ5の着色層3上に形成されたオーバーコート層4に存在する凹部欠陥を修正するカラーフィルタの修正方法であって、予め実施された欠陥検出検査において検出された、上記オーバーコート層に存在する上記凹部欠陥6に欠陥修正用インキ7を塗布し、上記凹部欠陥を修正する欠陥修正用インキ塗布工程を有することを特徴とするカラーフィルタの修正方法。 - 特許庁
To provide an image correcting method for making an accurate image correction of a part requiring image correction by accurately detecting streak-like density unevenness that appears adjacent to a line defect of a photographed image, and a radiation imaging apparatus.例文帳に追加
撮影した画像の線欠陥に隣接して現れるスジ状の濃度むらを精度良く検出し、画像補正が必要な箇所に正確に画像補正することができる画像補正方法および放射線画像撮影装置を提供する。 - 特許庁
Using the positioning mark as reference, an image by the image quality evaluation device and an image by the correction device are overlapped, and thereby the positional information of the defect required to be corrected by the correction device can be accurately obtained.例文帳に追加
位置合わせ用マークを基準として像質評価装置による画像と修正装置による画像とを重ね合わせることによって、修正装置において修正すべき欠陥の位置情報を正確に把握することができる。 - 特許庁
To prevent operation time necessary for correction of a defective pixel from increasing and to securely perform correction such as cutting or short circuiting of a wiring pattern, by avoiding emission of a laser beam to a defect source such as a foreign matter.例文帳に追加
異物などの欠陥源にレーザ光を照射することを回避することによって、欠陥画素の修正に要する作業時間の増大を防止するとともに、配線パターンの切断または短絡などの修正を確実に実行する。 - 特許庁
Thus, error correction performance can be improved by monitoring the gain variations of the VGA 310 to correctly find a position where a defect has occurred, and executing error correction by RSC using this.例文帳に追加
本発明によれば、VGA310の利得変動量をモニタリングして欠陥が発生した位置を正確に探し、それを利用してRSCによるエラー訂正を実行することによって、エラー訂正性能を向上させることができる。 - 特許庁
Furthermore, it is characterized that the application frequency is reduced in the case of defect correction in accordance with increase of an amount of adhesion of the correction fluid by a single application.例文帳に追加
さらに1回の塗布での修正液付着量増加に伴い、欠陥修正に際して塗布回数を減少させることが可能となることを特徴とする修正液塗布針、およびそれを用いた修正方法を提供する。 - 特許庁
That is to say, the work RAM 18 is not only utilized as the memory, to develop the data for correcting defect pixels stored in an EEPROM 11 in a compressed state, but is also utilized as a recording memory, when the defect pixel correction is not executed.例文帳に追加
つまり、ワークRAM18は、EEPROM11に圧縮した状態で格納されている欠陥画素補正用データを展開するメモリとして活用されるだけでなく、欠陥画素補正を行わない場合には記録用メモリとして活用される。 - 特許庁
A controller 20 of the defect correction device 1 has a recipe database, wherein the data of a pattern of the next process is stored, and determines the defect which will become a problem later, in accordance with an actual image taken in by the CCD camera 6 and the pattern of the next process.例文帳に追加
欠陥修正装置1の制御装置20には、次工程のパターンのデータが格納されたレシピデータベースを有し、CCDカメラ6で取り込んだ実際の画像と、次工程のパターンとから後に問題となる欠陥を判定する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a mask by which processes of inspection and correction in the mask manufacturing processes can be omitted and a mask can be manufactured at low cost keeping an ensured delivery time without requiring an expensive defect inspection apparatus or a defect correcting apparatus.例文帳に追加
マスク製造工程における検査、修正プロセスを省略することができ、高価な欠陥検査装置や欠陥修正装置を必要とせず、確実な納期で安価にマスク製作することが可能となるマスク製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a correcting method for a color filter, which corrects a white defect in a colored layer of the color filter, applying a correction liquid without being pressed out of a white defect part, so that the occurrence of new color mixture and projection can be prevented.例文帳に追加
カラーフィルタの着色層における白欠陥を修正する方法において、修正液を白欠陥部の外へはみ出すことなく塗ることができ、従って新たな混色や突起を発生させることの無い修正方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for repairing peeling of antireflection coating of mask which repairs the peeling of antireflection coating of chromium oxide in the region irradiated with ion beam when the defect is corrected by a defect correcting device by means of ion beam and enables high quality correction for a mask having chromium oxide antireflection coating too.例文帳に追加
イオンビームによる欠陥修正装置で欠陥を修正するときにイオンビームの照射領域の酸化クロム反射防止膜のはがれを修復し、酸化クロム反射防止膜を有するマスクに対しても高品位な修正を可能にする。 - 特許庁
By the detected result, the pixel defect of the present signals is corrected in a pixel defect correction device 13.例文帳に追加
レベル判定器14ではデジタル信号の信号レベルを判定し、フレーム差分判定器17の出力とにより、画素欠陥検出器18で画素欠陥を検出する、この検出結果によって、画素欠陥補正器13において現信号の画素欠陥を補正する。 - 特許庁
The imaging device 1 includes a solid-state imaging element 3, a defect information memory 7 which stores, in advance, information relating to the types of defects of defective pixels and information relating to the defective levels of defective pixels, and a defect correction circuit 6 for correcting image data of defective pixels.例文帳に追加
撮像装置1は、固体撮像素子3と、予め欠陥画素の欠陥種類情報及び欠陥レベル情報を記憶する欠陥情報メモリ7と、欠陥画素の画像データに関する補正を行う欠陥補正回路6とを有する。 - 特許庁
When a defect is incurred on the TFT 1, the picture element defect is corrected by irradiating an intersectional part of a current-carrying part 6 for correction and a picture element electrode 4 with laser light for destroying a lying gate insulating film and short-circuiting the picture element electrode 4 and the reference potential line 3.例文帳に追加
TFT1の不良時、レーザ光を修正用導電部6の画素電極4と交差する部位に照射することで、介在するゲート絶縁膜を破壊し、画素電極4と基準電位線3とを短絡させ、画素欠陥を修正する。 - 特許庁
To obtain a color filter substrate which facilitates correction of a defect in a color filter portion, which does not require a plurality of times of inspection steps in the manufacturing process and which shows no display failure even when used for a liquid crystal display device after correcting a defect.例文帳に追加
カラーフィルタ部分の欠陥修正を容易に実現できるとともに、製造過程で複数回の検査工程を必要とせず、欠陥修正後に液晶表示装置に用いても表示が不良とならないカラーフィルタ基板の実現を課題とする。 - 特許庁
The camera detects the presence/absence of mount of the conversion lens and applies correction for reducing a defect caused by the mounting (e.g., a defect caused by misalignment between optical axes of the conversion lens and a photographing lens) to image data when the conversion lens is mounted.例文帳に追加
カメラは、コンバージョンレンズの装着の有無を検知し、装着されている場合には、その装着によって生ずる不具合(例えば、コンバージョンレンズと撮影レンズとの光軸のずれに起因する不具合)を軽減するための補正を画像データに施す。 - 特許庁
To provide a metal strip surface defect preventive method and surface defect preventive equipment capable of using a metal strip after performing the shape correction by a roller type leveler device, and efficiently removing foreign matters on the surface of the metal strip.例文帳に追加
ローラ式レベラー装置により形状矯正を行って、その後金属帯を使用する金属帯表面上の異物を効率的に除去することができる金属帯の表面欠陥防止方法および表面欠陥防止設備を提供する。 - 特許庁
Based on a relationship between the predetermined time T and a defect ratio and a relationship between the defect ratio and a sensitivity normal-error difference to the normal sensor, a correction value for correcting the response current value measured in a measurement mode is computed.例文帳に追加
また、予め定めた時間Tと欠陥割合との関係、及び欠陥割合と正常センサに対する感度正誤差との関係に基づいて、測定モードにおいて測定される応答電流値を補正するための補正値を算出する。 - 特許庁
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