「defect correction」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a correcting method and a correcting device for a pattern, capable of correcting a pattern defect with high accuracy and capable of suppressing deterioration of, in particular, a non-rectangular pattern shape, in the case of pattern correction of a photomask, a wafer, or the like, used in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

本発明は、半導体製造工程で使用されるフォトマスクやウエハ等のパターン修正処理において、パターン欠陥を高精度に修正することができるとともに、特に非矩形形状のパターン形状の劣化を抑制することができるパターンの修正方法及び修正装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

Prior to defect correction of the isolated pattern 4, a conductive coil spring 3 is formed at a tip of a conductive probe 1 by a focused ion beam-induced chemical vapor-grown metal film, and the probe is conducted with the isolated pattern 4 while reducing the contact pressure with a mask pattern by the coil spring 3 to prevent the charge-up.例文帳に追加

導電性プローブ1の先端に集束イオンビーム誘起化学気相成長金属膜で導電性のコイルバネ3を形成し、コイルバネ3によりマスクパターンとの接触圧を緩和して孤立したパターン4との導通を取り、チャージアップが起こらないようにしてから集束イオンビーム7で欠陥修正を行う。 - 特許庁

A defect correction circuit 5 specifies a defective pixel signal, corresponding to the temperature white flaw contained in a pixel signal Pix that is read out the device 3 in a photographing mode, based on the position data corresponding to the actual environmental temperature and shutter speed set in a photographing mode and then corrects the specified defective pixel signal.例文帳に追加

欠陥補正回路５が、撮影時にＣＣＤ撮像素子３から読み出される画素信号Ｐix中の温度白キズに該当する欠陥画素信号を、その撮影時の実際の環境温度とシャッター速度に対応する上記の位置データに基づいて特定し、その特定された欠陥画素信号について欠陥補正を行う。 - 特許庁

Article 34 (1) If a person lacks the capacity to sue or be sued, the authority of statutory representation or delegation of powers necessary for performing procedural acts, the court shall specify a period and order the correction of such defect. In this case, if there is a risk of causing damage due to delay, the court may have such person perform a procedural act on a temporary basis. 例文帳に追加

第三十四条　訴訟能力、法定代理権又は訴訟行為をするのに必要な授権を欠くときは、裁判所は、期間を定めて、その補正を命じなければならない。この場合において、遅滞のため損害を生ずるおそれがあるときは、裁判所は、一時訴訟行為をさせることができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

Also, output intensity from the projectors 18, 20 is controlled by a CPU such that amounts of illumination lights reaching observation sites by the optical receivers 22, 24 are constant, by which lack of a dynamic range of the optical receivers 22, 24 is compensated for and detection of the minute defect is achieved without signal correction by the optical receivers 22, 24.例文帳に追加

また、受光器２２、２４による観察部位に到達する照明光の光量が一定となるように、投光器１８、２０側の出力強度をＣＰＵによって制御することで、受光器２２、２４側のダイナミックレンジ不足を補い、受光器２２、２４側で信号補正を行うことなく、微細傷の検出を可能にした。 - 特許庁

To provide a visual inspection method which digitizes the position of a defect found in a visual inspection of a construction work on the spot to be specified and writes it on a conventional inspection sheet to enable implementation of correction work only by using the inspection sheet and promote conversion of inspection results into electronic data.例文帳に追加

本発明は、建築工事の目視検査で発見された不具合の位置をその場で数値として特定する目視検査方法であり、その数値を従来の検査シートに取り込もことにより、検査シートだけで是正工事の推進を可能とすると共に、検査結果の電子データ化を促進するものである。 - 特許庁

A microcomputer 240 is operated by a defective pixel selecting program stored in a program ROM 250 to execute processing of the defect detection circuit 211 several times while varying the detection level and narrows down detected pixels so that the number of detected pixels may be within the range of the preliminarily prepared maximum value of the number of pixels which can be subjected to correction processing.例文帳に追加

マイクロコンピュータ２４０では、プログラムＲＯＭ２５０内に格納された欠陥画素の選択プログラムによって動作し、検出レベルを変えながら欠陥検出回路２１１の処理を何度か実行させ、検出画素数が予め用意された処理可能補正画素数の最大値の範囲内に入るように検出画素の絞り込みを行う。 - 特許庁

To provide a cooling state inspection method and apparatus for a furnace body cooler which enables judgment of a defect part having a leakage of cooling water and a stagnation thereof and post correction of a furnace body cooler easily and accurately measuring a temperature distribution of the cooling water flowing into the furnace body cooler from outside.例文帳に追加

炉体冷却装置内を流れる冷却水の温度分布を外部から正確に測定して、冷却水漏れや淀みが発生した欠陥部位を容易かつ正確に判断でき、その後の炉体冷却装置の補修を容易かつ確実に行うことができる炉体冷却装置の冷却状態検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁

A pattern correcting device 1 is provided, which irradiates a foreign matter defect 22 generated in a pixel 19 formed on a glass substrate 23 with a laser beam α to open a rectangular hole 19a in the pixel 19, presses a cylindrical adhesive material 30 to remove a residue 25 around the hole 19a, and applies a correction ink 33 on the hole 19a.例文帳に追加

このパターン修正装置１では、ガラス基板２３上に形成された画素１９に発生した異物欠陥２２にレーザ光αを照射して画素１９に矩形状の孔１９ａを開け、円柱状の粘着材３０を押圧して孔１９ａの周辺に付着した残渣２５を除去し、孔１９ａに修正インク３３を塗布する。 - 特許庁

To provide an imaging device (a device according to an aberration correction device) for a charge particle beam device as an electron microscope or the like used for the inspection and measurement of a semiconductor, in which a small deviation beam with a high probe current is formed to improve the resolution and throughput in EDX analysis, WDX analysis, or defect inspection.例文帳に追加

半導体の検査および計測に使用される電子顕微鏡等の荷電粒子ビーム装置用の「撮像装置」（収差補正装置に準ずる装置）であって、ＥＤＸ分析、ＷＤＸ分析、欠陥検査等の分解能およびスループットを向上させるために高プローブ電流で分散の小さいビームを形成できるようにする。 - 特許庁

According to this invention, in a pixel defect correcting device provided with an inspection means by a CCD video camera 20, etc., and a correcting means by a laser oscillator 22 for a liquid crystal panel 1, a warm wind feeder 40 is arranged for the liquid crystal panel 1 which is a correction object installed on a X-Y stage.例文帳に追加

本発明では、液晶パネル１に対して、ＣＣＤビデオカメラ２０等による検査のための手段と、レーザ発振器２２等による修正のための手段を備えている画素欠陥修正装置において、ＸＹステージ２上に設置された被修正対象である液晶パネル１に対して、温風供給器４０が設けられている。 - 特許庁

A defect correction device includes: a stage for placing a substrate; and a local exhaust ventilation system that comprises a local ventilation region that serves as a processing part for processing the substrate, a gas supply part for jetting gas toward the stage so that the system rises from the stage, and an exhaust part for exhausting gas jetted toward the stage and gas supplied from the local ventilation region to the stage side.例文帳に追加

基板を載置するステージと、基板を加工する加工部となる局所排気領域と、ステージに向けてガスを噴射することにより該ステージから浮上するためのガス供給部と、ステージに向けて噴射したガス及び局所排気領域から該ステージ側に供給されたガスを排気する排気部とを備えた局所排気装置を有する。 - 特許庁

Thus, an actual CAD model which is more faithful to the shape of the prototype can be created by positioning the actually measured CAD model with the reference CAD model 32 by using a positioning processing part 22 and compensating a defect part of the actually measured CAD model by the shape information of a corresponding part of the reference CAD model 32 by using a model correction processing part 24.例文帳に追加

そこで、位置合わせ処理部２２で実測ＣＡＤモデルと基準ＣＡＤモデル３２とを位置合わせし、モデル修正処理部２４にて実測ＣＡＤモデルの欠落部分を基準ＣＡＤモデル３２の対応部分の形状情報で補完することにより、試作品の形状により忠実な実物ＣＡＤモデルを作成することができる。 - 特許庁

To achieve the improvement in yield of an image display device and the reduction in the manufacturing cost by providing a defect correction method of the image display device, which is capable of satisfactorily correcting not only defects of pixel electrodes (switching devices) but also bright spots due to the existence of foreign matters or the like in a liquid crystal part, without damaging the image display device.例文帳に追加

画素電極（スイッチング素子）の欠陥のみならず、液晶部分に異物等が存在することによる輝点についても、画像表示素子を損傷させることなく、良好に補正することができる画像表示素子の欠陥補正方法を提供し、画像表示素子の歩留まりの向上及び製造コストの低廉化を図る。 - 特許庁

To record and reproduce data by previously protecting data from being lost owing to an after-defect on a magnetic disk and the deterioration of performance in a recording and reproducing head, dividing data information into lengths correctable by an error correction code(ECC) in order to improve the data error rate in reproduction and using a plurality of magnetic disks and magnetic heads.例文帳に追加

本発明では、磁気ディスク上の後発欠陥、及び記録再生用ヘッドの性能劣化に伴うデータの喪失を未然に保護し、再生の際のデータ誤り率を向上する為に、データ情報をエラー訂正コード（ＥＣＣ）の訂正可能な長さに分割し、更に複数の磁気ディスク、及び磁気ヘッドを使用して記録再生を行う。 - 特許庁

The defect detection apparatus can correct an output luminance value of a background image according to a sensitivity characteristic of an imaging means in a background image correction step ST3 to approximate the output luminance value to an input value and correct the background image even if the background image is captured under a long exposure time and an extremely low luminance value.例文帳に追加

欠陥検出装置は、背景画像補正工程ＳＴ３にて撮像手段の感度特性に基づいて背景画像の出力輝度値を補正することで、露光時間を長くして輝度値が極端に低い背景用画像を撮像した場合でも、その出力輝度値を入力値に近似させることができ、背景画像の補正が実行できる。 - 特許庁

A defect correction unit 330 detects respective edges of a first image formed by the pixel values of image generation pixels and a second image formed by the pixel values of phase difference detection pixels among pixel values included in image data generated by an image pickup apparatus comprising plural image generation pixels and plural pairs of phase difference detection pixels.例文帳に追加

欠陥補正部３３０は、画像生成画素と一対の位相差検出画素とのそれぞれを複数備える撮像素子により生成される画像データに含まれる画素値のうち前記画像生成画素の画素値により形成される第１像と、前記位相差検出画素の画素値により形成される第２像とのそれぞれのエッジを検出する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reflective mask having a light-shielding region where an absorbing layer is laminated in a periphery of a pattern region, by which a defect can be corrected without leaving a correction mark while preventing decrease in the throughput of the mask manufacture and damages in a normal pattern or a reflection layer, and thereby, a high-quality mask is manufactured, and also to provide a mask blank suitable for the method.例文帳に追加

パターン領域の周辺に吸収層を積層した遮光領域を設けた反射型マスクの製造において、マスク製造のスループットを低下させず、正常パターンや反射層に損傷を与えることなく、修正痕を残さずに欠陥修正を行い、高品質のマスクを製造することができる反射型マスクの製造方法およびそれに適したマスクブランクを提供する。 - 特許庁

The correction data created with respect to a CCD camera 4 for imaging the image display is verified by the CCD camera 4 by imaging the defect free image display which is constructed artificially by combining an integrating sphere 3 for generating uniform radiations and a translucent shading member 2 having a translucent part for treating each display pixel in the image display.例文帳に追加

画像表示装置を撮像するＣＣＤカメラ４について作成された補正データの検証を、均一光を発生する積分球３と、画像表示装置における各表示画素に対応する透光部を有する透光遮光部材２とを組み合わせることによって擬似的に構成される無欠陥の画像表示装置をＣＣＤカメラ４によって撮像することにより行う。 - 特許庁

Further, while reducing the photomask verification time by reducing the number of times of executing the optical intensity simulation, those having no effect on the manufacture of a semiconductor or on the operation or the characteristics of a semiconductor element are excluded from the photomask verification result so that only the fatal defect is detected, thereby reducing the time and the number of processes related to the correction of layout pattern CAD data.例文帳に追加

加えて、光強度シミュレーションの実施回数を削減することにより、フォトマスク検証時間の削減を図りつつ、さらに半導体製造上、あるいは半導体素子の動作、特性に影響を与えないものをフォトマスク検証結果から除外し致命的な欠陥のみを検出し、レイアウトパターンＣＡＤデータの修正に関わる時間、工数を削減する。 - 特許庁

To provide a microscope objective lens with a socket type frame for position correction which is applicable by being combined with various cover glasses and/or various liquid immersion liquid and/or at various working temperature, which can be moved in an axial direction, which can be used instead of a compression spring used for the microscope objective lens and other objective lens and further which can remove a defect of the spring.例文帳に追加

様々なカバーガラスおよび/または様々な液浸液と組み合わせて、および/または様々な作業温度において適用可能な軸方向に移動でき、顕微鏡対物レンズおよびその他の対物レンズに使用される圧縮バネの代わりになり、しかもバネの欠点を取り除くことができる位置修正用ソケット型フレームの付いた顕微鏡対物レンズ。 - 特許庁

The temperature white defect correction unit obtains a difference of pixel values between the pixels at positions corresponding to the two fields by each region, discriminates whether or not either of both the pixels is defective depending on the sign of the difference when the difference between both corresponding pixels exceeds a prescribed threshold range, and corrects the value of the pixel discriminated to be defective by using the pixel value of the other pixel.例文帳に追加

温度白キズ補正装置は、２つのフィールドの互いに対応する配列位置の各画素間の画素値についての差分を領域毎に求め、対応する両画素間の差分が所定の閾値範囲を越えるとき、その差分の符号に応じて、両画素のいずれか一方の画素が欠陥画素であると判定し、欠陥画素であると判定された一方の画素の画素値を他方の画素の画素値で補正する。 - 特許庁