例文 (627件) |
defect correctionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 627件
The defect correction efficiency is improved in comparison with a conventional technique which narrows down the correction object only by bus line resistances or electric characteristics of pixels.例文帳に追加
バスライン抵抗または絵素の電気的特性のみによって修正対象を絞り込む従来技術に比べて、欠陥修正効率を向上させることができる。 - 特許庁
To provide an imaging apparatus and its defective pixel correction method by which calculation of position information is simplified and increase of circuit scale of a defect correction system is suppressed.例文帳に追加
位置情報算出を単純化でき、また、欠陥補正系の回路規模の増大を抑えることが可能な撮像装置およびその欠陥画素補正方法を提供する。 - 特許庁
Next, comparison between a set threshold to be a defect criterion with the correction data, and comparison with a normal value of an inclination of the correction data in a set section are performed.例文帳に追加
次に、設定された欠陥判断基準となる閾値と修正データとの比較と、設定された区間内での修正データの傾きの正常値との比較とを行う。 - 特許庁
To provide a radiographic apparatus, accurately making image correction for a portion requiring image correction corresponding to a change in a defect size due to HV application.例文帳に追加
HV印加に起因する欠陥サイズの変化に対応して、画像補正が必要な箇所に正確に画像補正することができる放射線画像撮影装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of correcting a defect of a color filter, in which a white defect part in a colored layer of the color filter is corrected by selectively making a correction fluid stay in the white defect part so that a color blend or a projection is not generated newly, and to provide an apparatus for correcting the defect of the color filter.例文帳に追加
カラーフィルタの着色層における白欠陥を修正する方法において、修正液を白欠陥部に選択的に残すことができ、従って新たな混色や突起を発生させることの無い修正方法および修正装置を提供すること。 - 特許庁
Further, the 1st image is moved by the virtual movement distance according to the detected pixel defect position and a 2nd pixel defect correction table is generated based upon the 1st image which is moved and the pixel defect position.例文帳に追加
更に、上記検出された画素欠陥位置に基づき上記第1の画像を上記仮想の移動距離だけ移動し、上記移動された第1の画像と上記画素欠陥位置に基いて第2の画素欠陥補正テーブルを生成する。 - 特許庁
ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, TWO-DIMENSIONAL IMAGE DETECTOR PROVIDED THEREWITH, AND PIXEL DEFECT CORRECTION METHOD OF TWO-DIMENSIONAL IMAGE DETECTOR例文帳に追加
アクティブマトリクス基板及びそれを備えた二次元画像検出器並びに二次元画像検出器の画素欠陥修正方法 - 特許庁
To provide a pixel defect correction device which is capable of reducing the amount of position information on pixel defects recorded in a nonvolatile memory.例文帳に追加
不揮発性メモリに記録する画素欠陥位置情報量を削減できる画素欠陥補正装置を提供する。 - 特許庁
On the basis of the said analysis, the monitoring device identifies a cycle unit that is not correctly operated, displays the conceivable causes of the defect or abnormality of the faulty cycle unit and provides an analysis report and the correction advice.例文帳に追加
そのコンピュータは、各個別サイクルユニットの各サイクルが開始したか、完結したかの情報を記録する。 - 特許庁
If any defective part is found out, a defect correction processing section 22 corrects the defective part to have a background color of the document.例文帳に追加
もし欠損箇所があれば、その欠損箇所は欠損補正処理部22によって帳票の地色に補正される。 - 特許庁
To provide a defect correction method for a colored component of a display element by an ink jet method using an inexpensive and highly versatile material by eliminating failure of correction and achieving a high correction success rate.例文帳に追加
修正の失敗をなくし、高い修正成功率を実現させる、安価で汎用性の高い材料を用いたインクジェット法による表示素子用カラー化部品の欠陥修正方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a proximity effect correction method for decreasing the number of times of proximity effect correction which induces defects in judging the accuracy of proximity effect correction and thereby, for decreasing works in conventional defect judgment inspection.例文帳に追加
近接効果補正の精度判定において、欠陥となる近接効果補正の回数を低減し、これにより従来の欠陥判定検査における作業を軽減することができる近接効果補正方法を提供する。 - 特許庁
Data obtained by narrowing down the correction objects much more is generated by a computer or a work station and is downloaded to a correction device, and thus the conventionally used correction device is utilized to improve the defect correction efficiency of the display device.例文帳に追加
さらに、コンピュータまたはワークステーションによって修正対象をより絞り込んだデータを作成し、修正装置にダウンロードすることによって、従来から用いられている修正装置を利用して、表示装置の欠陥修正効率を向上させることができる。 - 特許庁
A correction paste 21 is coated on a rib chip defect 85 generated to a rib 83 formed on a surface of a glass substrate 80, and laser spot 31 is moved along the longitudinal direction of a correction portion 30 made of the coated correction paste 21, and the correction portion 30 is calcined.例文帳に追加
ガラス基板80の表面に形成されたリブ83に発生したリブ欠け欠陥85に修正ペースト21を塗布し、塗布した修正ペースト21からなる修正部30の長さ方向に沿ってレーザスポット31を移動させて修正部30を焼成する。 - 特許庁
A common inspection slice value 10 in all measuring channels of the defect inspection device, measuring channel correction values 11 which are the correction values for every measuring channel, and inspection head correction values 12 which are the correction values for every inspection head, are added by adders 14 to obtain an actual inspection slice value 15.例文帳に追加
欠陥検査装置の全測定チャネルで共通の検査スライス値10と,測定チャネルごとの補正値である測定チャネル補正値11と,検査ヘッドごとの補正値である検査ヘッド補正値12とを加算器14で加算して実際の検査スライス値15を得る。 - 特許庁
As in a case that a defect required to be corrected has been found but the defect is hardly located with a correction device as a result of an inspection by an image quality evaluation device, a positioning mark is formed.例文帳に追加
像質評価装置により検査を行った結果、修正すべき欠陥が発見されたがその位置の特定が修正装置では困難な場合に、位置合わせ用マークを形成する。 - 特許庁
To provide a linearly driving device and a variable shutter device each having simple configuration, a defect correcting device using them, and a defect correction method and a method for manufacturing a pattern substrate.例文帳に追加
簡便な構成の直線駆動装置、可変シャッター装置及びそれを用いた欠陥修正装置、並びに欠陥修正方法、及びパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁
At this time, the defect correction unit 17 corrects a defective pixel based on information for a location of the defective pixel stored at a defect memory 16, and outputs the result to a camera signal processing unit 18.例文帳に追加
このとき、欠陥補正部17は、欠陥記憶部16に記憶されている欠陥画素位置の情報に基づいて欠陥画素を補正し、カメラ信号処理部18に出力する。 - 特許庁
To provide a method for correction of a white defect in a mask pattern, capable of precisely correcting the white defect without damaging a photomask by using near field light, and to provide a mask pattern.例文帳に追加
フォトマスクがダメージを受けることなく、精度よく、白欠陥の修正を可能とする、近接場光を用いたマスクパターンの白欠陥修正方法およびマスクパターンを提供する。 - 特許庁
To provide a defect-correcting technique of high transmittance and satisfactory phase controllability, in order to provide a phase shift mask consisting of ruggedness of glass or quartz with high-quality defect correction.例文帳に追加
ガラスまたは石英の凹凸からなる位相シフトマスクに対して高品質な欠陥修正を提供するためには、高い透過率で、位相制御性も良い欠陥修正技術が必要である。 - 特許庁
To provide a defect correction circuit capable of also dealing with a defect caused by a change with the passage of time without especially limiting the number of handleable defects.例文帳に追加
本発明は、対処可能な欠陥個数に特に制限が無く、又経時変化で発生する欠陥に対しても対応可能な欠陥補正回路を提供することを目的とする。 - 特許庁
A pixel defect correction device receives pixel data from the imaging device having plural photoelectric conversion pixels to properly correct defective pixel data caused by the pixel defect of this imaging device.例文帳に追加
複数の光電変換画素を有する撮像素子からの画素データを受け、該撮像素子の画素欠陥に起因する不良画素データを適切に修正する画素欠陥修正装置である。 - 特許庁
To enhance defect detection sensitivity at a pattern edge portion by improving the method of determining a correction amount, as to correction of gray level difference at the pattern edge portion performed in an image defect inspection method used for a visual inspection device for a semiconductor circuit.例文帳に追加
半導体回路の外観検査装置に使用される画像欠陥検査方法で行う、パターンエッジ部分におけるグレイレベル差の補正において、補正量の決定方法を改善して、パターンエッジ部分における欠陥検出感度を向上する。 - 特許庁
To provide a method for correcting a defect of a photomask capable of acquiring an excellent cross-sectional shape at the edge part of a pattern of an absorption layer or a light blocking layer after dark defect correction, a method for manufacturing a photomask using it, and a photomask defect correction device for performing the method.例文帳に追加
本発明は、黒欠陥修正後、吸収層または遮光層のパターンの端部にて良好な断面形状が得られるフォトマスクの欠陥修正方法、およびそれを用いたフォトマスクの製造方法、それを実施するためのフォトマスクの欠陥修正装置を提供することを主目的とする。 - 特許庁
To provide a black defect correction technique which can cleanly correct black defect in fine patterns in black defect correction of a mask without causing the riverbed in black defect correction of the mask, does not exert damage by ion irradiation to the mask surface, is relatively simple in the device to be used without enlarging and enables the relatively simple conduction of the work, and to provide the device capable of executing such technique.例文帳に追加
本発明が解決しようとする課題は、マスクの黒欠陥修正においてリバーベッドができず、微細なパターンにおける黒欠陥でもきれいに修正が可能で、マスク表面にイオン照射によるダメージを与えることもなく、しかも用いる装置が比較的シンプルで大型化せず、作業も比較的単純に行うことができる黒欠陥修正手法を提示すると共に、そのような手法を実行できる装置を提供することにある。 - 特許庁
The line sensor reads the calculated shading correction data at the home position on the shading correction plate, shading is corrected by the means shading correction data on the basis of the obtained read data (S12 in Figure 10), and at least a defect position of the shading correction plate is specified on the basis of the data after the correction (S17).例文帳に追加
シェーディング補正板上のホームポジションにおいてラインセンサにシェーディング補正板を読み取らせ、得られた読取データに対して、前記平均シェーディング補正用データによりシェーディング補正を行い(図10のS12)、この補正後データを基に、少なくともシェーディング補正板の欠陥位置を特定する(S17)。 - 特許庁
To provide a defect correction method by a laser beam in which a compound substrate disposed with a resin section of a correction object and an underlayer composed of ITO which is the underlayer thereof, successively from the surface side of a substrate on the substrate can be readily and surely subjected to correction of a projection defect of the resin section.例文帳に追加
基材上に、その表面側から順に、修正対象の樹脂部とその下地であるITOからなる下地層を配設した複合基材において、下地層を損傷することなく、簡単に、且つ、確実に、樹脂部の突起欠陥の修正を行える、レーザ光による欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁
A defect correction circuit 114 carrys out correction processing of a defective pixel on the basis of an instruction from a pixel detection circuit 113 and carrys out replacement processing of a pixel signal to an optional pixel designated from an operation section on the basis of pixel designation information set to the defect correction circuit 114 via a microcomputer 117.例文帳に追加
欠陥補正回路114は、画素検出回路113からの指示に基づいて欠陥画素の補正処理を行うとともに、マイクロコンピュータ117を介して欠陥補正回路114に設定された画素の指定情報に基づいて、操作部から指定された任意の画素に対して画素信号の置換処理を行う。 - 特許庁
To provide a substrate correction method for repairing a defect of a substrate at high precision without requiring a complicated process.例文帳に追加
複雑な工程を必要とせずに、高精度に基板の欠陥を修復することが可能な基板修正方法を提供する。 - 特許庁
Thus, an image pickup area is sectioned by the area setting key 21, and the priority of the defect correction is attached by the priority-setting key 22.例文帳に追加
撮像領域を領域設定キー21で区分し、その欠陥補正の優先順位を優先順位設定キー22でつける。 - 特許庁
LINEARLY DRIVING DEVICE, VARIABLE SHUTTER DEVICE, BEAM SHAPING DEVICE, BEAM IRRADIATING DEVICE, DEFECT CORRECTION METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加
直線駆動装置、可変シャッター装置、ビーム成形装置、ビーム照射装置、欠陥修正方法及びパターン基板の製造方法 - 特許庁
To form a correction film in a halftone mask so as to correct a white defect generating in a semitransmitting film of the halftone mask.例文帳に追加
ハーフトーンマスクにおいて、ハーフトーンマスクの半透過膜に発生した白欠陥を修正するための修正膜を形成する。 - 特許庁
The solid-state image sensor 3 is activated at a low temperature, a linear defect detection correction circuit 6 detects the linear defect of the solid-state image sensor 3 on the basis of the pixel signal of the solid-state image sensor 3, and an address of the detected linear defect is stored.例文帳に追加
固体撮像素子3を低温で動作させ、固体撮像素子3の画素信号に基づいて固体撮像素子3の線状欠陥を線状欠陥検出補正回路6により検出し、検出された線状欠陥のアドレスを記憶しておく。 - 特許庁
To provide a method for avoiding defect in a control program for reducing an excess cost and delay of schedule by avoiding the defect even when the defect occurs in the control program in a non-rewritable memory and a correction of the program is required.例文帳に追加
書換え不可能メモリ内の制御プログラム上に不具合が発生し修正が必要になった場合でも、不具合を回避することで余分なコストの発生や日程の遅れを軽減することができる不具合制御プログラム回避方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pixel defect correction device, a pixel defect detector and a pixel defect detecting method that can correct a defective pixel and stably detect the defective pixel without increasing the circuit scale in response to a color filter of an image pickup element.例文帳に追加
撮像素子の有する色フィルタに応じて、回路規模が増大することなく、欠陥画素を補正でき、また、欠陥画素を安定して検出することのできる画素欠陥補正装置および画素欠陥検出装置ならびに方法を提供。 - 特許庁
To provide a laser defect correcting method and a laser defect correcting device capable of realizing high-quality defect correction without damaging a base plate by surely preventing particles scattered at the time of laser transpiration with simple constitution from adhering to the base plate again.例文帳に追加
簡単な構成でレーザ蒸散時の飛散した粒子が基板に再付着することを確実に防止して、基板にダメージを与えずに高品質な欠陥修正が可能なレーザ欠陥修正方法およびレーザ欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁
To provide an image signal processing apparatus to process an image signal from an imaging element which eliminates noise of the defect correction or the like and conducts both a resolution maintenance and an outline correction properly.例文帳に追加
撮像素子からの画像信号を処理する画像信号処理装置において、欠陥補正等のノイズ除去と、解像度維持や輪郭補正との両方を好適に行うことが難しい。 - 特許庁
To provide a fine pattern correction device which can correct the defect of a fine pattern in a short period of time, and is low in its price, small in its installation area and high in its correction quality.例文帳に追加
微細パターンの欠陥を短時間で修正することができ、装置価格が低く、装置設置面積が小さく、修正の品質が高い微細パターン修正装置を提供する。 - 特許庁
Thereafter, a defect correction circuit 208 reads the stored addresses of the defective pixels according to the reading method at photographing and applies prescribed correction processing to the defective pixels.例文帳に追加
その後、撮影時に、欠陥補正回路208は、記憶された欠陥画素のアドレスを、その読み出し方法に応じて読み取り、その欠陥画素に対して所定の補正処理を施す。 - 特許庁
In the method for correcting a pattern, correction ink 7 is applied to the white defect 6a of a pixel 6 in a liquid crystal color filter substrate 1, thereafter, a gas containing the vapor of a solvent 16 is sprayed on the correction ink 7 so that the thickness of the correction ink 7 may be uniformized, consequently to reduce the viscosity of the correction ink 7.例文帳に追加
このパターン修正方法では、液晶カラーフィルタ基板1の画素6の白欠陥6aに修正インク7を塗布した後、修正インク7の厚みが均一になるように、溶媒16の蒸気を含む気体を修正インク7に噴霧し、修正インク7の粘度を低下させる。 - 特許庁
By employing the functions of the pixel detection circuit 113 and the defect correction circuit 114 in a composite way, the designation of a marking pixel is made possible in addition to defect correction and additional functions such as marking of the optional pixel with respect to the image signal and area designation are realized.例文帳に追加
このような画素検出回路113および欠陥補正回路114の機能を複合的に用いて、欠陥補正だけでなく、マーキング用の画素指定を可能とし、画像信号に対する任意画素のマーキングや領域指定等の付加機能を実現する。 - 特許庁
To provide a defect correction method and a manufacturing method of an alignment layer, which can contribute to yield improvement of a liquid crystal display panel, a manufacturing method of a liquid crystal display panel, a manufacturing method of a liquid crystal display device, and an alignment layer defect correction device.例文帳に追加
液晶表示パネルの歩留まり向上に貢献することができる配向膜の欠陥修正方法及び製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び液晶表示装置の製造方法、並びに、配向膜欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁
When both the side misregistration and side skew occur, the image defect is not caused by positionally moving the image in the main scanning direction by the amount equivalent to the value obtained by subtracting the defect amount from the correction amount calculated by the correction amount calculation part.例文帳に追加
また、サイドレジずれとサイドスキューが発生している場合も、画像の位置を主走査方向に向かって、補正量算出部によって算出された補正量から欠損量を差し引いた値に相当する分だけ移動させると、画像欠損は発生しない。 - 特許庁
In the phase defect correction method of reflection type mask, phase difference between a phase defect part and a high reflection part is practically brought to 0 (zero) by laminating a multilayer film composed of two kinds of material on the phase defect part, and the reflectance of the phase defect part is substantially equalized to the reflectance of the high reflection part.例文帳に追加
位相欠陥部上に2種類の材料からなる多層膜を積層することにより、該位相欠陥部と高反射部の位相差を実用上0(ゼロ)とし、該位相欠陥部の反射率と高反射部の反射率を実用上等しくするように行う反射型フォトマスクの位相欠陥修正方法である。 - 特許庁
To provide an image processing apparatus, method, and program for accurately correcting a deviation between the effect of a defect on visible data and the effect of a defect on invisible data and reducing a computation processing amount for the correction.例文帳に追加
可視データが欠陥により受ける影響と非可視データが欠陥により受ける影響とのずれを正確に補正するするとともに、当該補正のための演算処理量を軽減する。 - 特許庁
To provide a defect correcting method of a phase shift photomask that can raise and stabilize the yield of mask production by making efficient defect inspection and correction stages of the phase shift mask.例文帳に追加
位相シフトマスクにおける欠陥検査及び修正工程の効率化を図り、マスク生産における歩留の向上及び安定を図ることができる位相シフトマスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁
To provide an imaging apparatus for detecting a very small defect of a solid-state image sensor conspicuous as an image is brighter and correcting a pixel signal of the detected very small defect, and to provide a correction method of the pixel signal.例文帳に追加
画像が明るいほど目立つ固体撮像素子の微小欠陥を検出し、検出された微小欠陥の画素信号を補正する撮像装置および画素信号の補正方法を提供する。 - 特許庁
To provide a stylus for color filter defect correction and a color filter defect correcting device which are improved in cleaning property by stabilizing the sticking amount of ink and cleaning liquid so that a specified amount is not exceeded.例文帳に追加
インキや洗浄液の付着量が所定量を超えないように安定化させ、洗浄性を向上させたカラーフィルタ欠陥修正用針とカラーフィルタ欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁
Successively, a control unit included in the defect correction device generates a composite image for decision by compositing the defect region image with an image including information of a relevant equal potential plane of the repeated pattern.例文帳に追加
続いて、欠陥修正装置が備える制御部が、その欠陥領域画像と繰り返しパターンの該当する等電位面の情報を含む画像とを合成して判定用の合成画像を生成する。 - 特許庁
Consequently, an external image processor which has acquired the image data can perform defect pixel correction accurately for the image data GD using the defect pixel information outputted in association with the image data.例文帳に追加
この結果、画像データを取得した外部の画像処理装置は、関連付けて出力された欠陥画素情報を用いて、画像データGDに対して正確に欠陥画素補正を実行できる。 - 特許庁
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