「defect correction」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a defect correction device capable of improving the yield by preventing a specific defect from becoming a problem in subsequent processes.例文帳に追加

特定の欠陥が後の工程で問題となることを防止し、歩留まりを向上させることができる欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect correction device and method for reliably correcting a defect, and also to provide a method for manufacturing a patterned substrate.例文帳に追加

確実に欠陥を修正することができる欠陥修正装置、欠陥修正方法、及びパターン基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defective pixel correction technique for calculating a defect judgment reference for detecting a defect precisely, as easily as possible.例文帳に追加

正確な欠陥検出を可能とする欠陥判定基準をできるだけ簡単に算出する欠陥画素修正技術を提供する。 - 特許庁

To provide a correction projection foreign matter determination method of a color filter substrate, wherein the method reduces the number of defects to be confirmed by a defect correction machine by determining a projection foreign matter from among defects in the color filter substrate to be detected by an automatic defect inspection device before inputting the color filter substrate into the defect correction machine, and performs an efficient defect correction work by the minimum correction devices.例文帳に追加

自動欠陥検査装置で検出したカラーフィルタ基板内の欠陥の中から、カラーフィルタ基板を欠陥修正機投入する前に突起異物を判定することによって欠陥修正機で確認する欠陥数を減少させ、最小限の修正装置で効率的な欠陥修正作業を行うことを可能とするカラーフィルタ基板の修正突起異物判定方法を提供するを提供する。 - 特許庁

For a linear defect (V line defect) generated on an image due to defect on the vertical CCD of an imaging element (CCD), the imaging apparatus can detect an offset component equivalent to the defect level to perform correction.例文帳に追加

撮像装置では、撮像素子(ＣＣＤ)の垂直ＣＣＤ上の欠陥に起因して画像上で生じるライン性の傷(Ｖライン傷)に対して、例えば傷レベルに相当するオフセット成分を検出して補正を行える。 - 特許庁

To provide a photomask defect correction method that improves the efficiency of defect inspection and correction processes for a photomask and improve and stabilize the yield in mask production.例文帳に追加

フォトマスクにおける欠陥検査及び修正工程の効率化を図り、マスク生産における歩留の向上及び安定を図ることができるフォトマスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

A defect correction device 1 is a defect correction device for repairing defects on a substrate and is provided with a laser output mechanism 10 capable of varying the cross-sectional area of the irradiating laser.例文帳に追加

本発明の欠陥修正装置１は、基板上の欠陥部を修復する欠陥修正装置であって、照射するレーザの断面積を可変なレーザ出力機構１０を有している。 - 特許庁

If a defect is not generated under a state where both correction processing A and correction processing B are performed, content of the original image is simply approached even if any one of the correction processing A or correction processing B is reset and the possibility of generating a defect is low.例文帳に追加

補正処理Ａと補正処理Ｂの双方を実施した状態でディフェクトが発生していなければ、補正処理Ａと補正処理Ｂのいずれかを元に戻したとしても、それは原画像の内容に近づくだけであり、ディフェクトが発生する可能性は低い。 - 特許庁

Subsequently, the defect observation apparatus 3 forms a primary defect position correction expression for optimizing a defect position at the detection coordinate system, on the basis of the position deviation amount of each measurement point.例文帳に追加

続いて、欠陥観察装置３は、各測定ポイントの位置ずれ量に基づき、検出座標系での欠陥位置を適正化するための１次の欠陥位置補正式を作成する。 - 特許庁

Since adjustment of an optical system or fine correction by signal processing becomes possible, positional accuracy of defect inspection and accuracy of defect level (defect size) can be improved.例文帳に追加

本発明により、光学系の調整や信号処理による微細な補正が可能になるため、欠陥検出の位置精度および欠陥強度（欠陥寸法）の精度を向上させることができる。 - 特許庁

Correction is efficiently made, therefore, with a small amount of correction ink 40 comparing with the conventional method where the entire black defect 36 is removed at once.例文帳に追加

したがって、黒欠陥３６全体を一度に除去する従来に比べ、少量の修正インク４０で効率良く修正できる。 - 特許庁

To suppress deterioration of resolution by erroneous correction by suppressing defect correction at an edge of an image pattern.例文帳に追加

画像パターンのエッジではキズ補正を抑制することで誤補正による解像度低下を抑制することを最も主要な特徴とする。 - 特許庁

To provide a correction device for removing a defect by estimating, in the event of positional slippage between a visible image and a defect image, the position of the defect from the defect image also in an area where a defect pixel corresponding to the visible image cannot be acquired, and compensating the visible image.例文帳に追加

可視画像と欠陥画像に位置ずれが生じた場合、可視画像に対応する欠陥画素が取得できない領域においても、欠陥画像から欠陥の位置を推測し、可視画像を補うことにより、欠陥を除去する補正装置を提供する。 - 特許庁

Accordingly, the narrow and thick correction layer 12A can be easily formed in the disconnection defect part 8b.例文帳に追加

したがって、断線欠陥部８ｂに幅が狭くて厚い修正層１２Ａを容易に形成できる。 - 特許庁

DEFECT CORRECTION METHOD OF IMAGE DISPLAY DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF IMAGE DISPLAY DEVICE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

画像表示素子の欠陥補正方法、画像表示素子の製造方法及び画像表示素子 - 特許庁

LASER BEAM MACHINING APPARATUS, LASER BEAM MACHINING METHOD, TFT (THIN FILM TRANSISTOR) SUBSTRATE AND DEFECT CORRECTION METHOD OF TFT SUBSTRATE例文帳に追加

レーザ加工装置、レーザ加工方法、ＴＦＴ基板、及び、ＴＦＴ基板の欠陥修正方法 - 特許庁

IMAGING APPARATUS HAVING CCD TYPE SOLID-STATE IMAGING DEVICE MOUNTED THEREON AND PIXEL DEFECT CORRECTION METHOD THEREOF例文帳に追加

ＣＣＤ型固体撮像素子を搭載した撮像装置及びその画素欠陥補正方法 - 特許庁

DEFECT CORRECTION METHOD OF PHOTOMASK, PHOTOMASK, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

フォトマスクの欠陥修正方法及びフォトマスクとその製造方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁

Prior to correction of defect, a stage 2 moves a substrate 1 two-dimensionally to a position where the defect are put in the visual field area of an objective 14.例文帳に追加

欠陥の修正が行われる前に、ステージ２は、欠陥が対物レンズ１４の視野領域に入る位置に基板１を二次元移動する。 - 特許庁

A defect correction circuit 16 corrects a picture signal Y(n) in accordance with the address information of the registered pixel defect and generates a picture signal Y'(n).例文帳に追加

登録された画素欠陥のアドレス情報に応じて欠陥補正回路１６が画像信号Ｙ(n)を補正して、画像信号Ｙ'(n)を生成する。 - 特許庁

In an image processor for processing data picked up using an imaging device, imaging data concerning a defect pixel having a defect level higher than a predetermined level undergoes interpolation correction processing based on the imaging data of other pixel, and imaging data concerning a defect pixel having a defect level lower than a predetermined level undergoes offset correction processing or gain correction processing.例文帳に追加

撮像素子を用いて撮像された撮像データを処理する画像処理装置において、欠陥レベルが所定レベルより高い欠陥画素に係る撮像データは、他の画素の撮像データに基づく補間補正処理を行い、欠陥レベルが所定レベルより低い欠陥画素に係る撮像データは、オフセット補正処理又はゲイン補正処理を行なう。 - 特許庁

To provide a defect correction method for a color filter by which a defect in a color filter is corrected in a stable discharged amount of a correction liquid without being affected by the lapse of time when the liquid is not discharged even when a thixotropic correction liquid is used in the case of performing the correction using a microdispenser.例文帳に追加

マイクロディスペンサを用いた修正を行う際に、チクソトロピー性を有する修正液を用いても、吐出していない時間の経過に影響されず安定した吐出量でカラーフィルタの欠陥の修正を行うカラーフィルタの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

A defect-correcting apparatus accumulates in a database many defect correction methods, including those implemented in the past and detects defects, by checking a defect image with captured locations being tested on a wiring board against a defect-free reference image.例文帳に追加

過去に実施された欠陥修正手法を含む複数の欠陥修正手法をデータベースに蓄積し、配線基板の検査対象箇所を撮影した欠陥画像と、欠陥のない参照画像とを照合して欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a method with which defect in color filter can be corrected at low cost and with a few number of steps and a time required for correction of the defect can be shortened while sticking of correction ink to a part other than the defect can be prevented.例文帳に追加

修正用インクの欠陥部以外への付着を防止するとともに、欠陥を低コストかつ少ない工程数で修正し、欠陥の修正に要する時間を短縮化することのできるカラーフィルタの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

In the method for applying the defect correction and the calibration to image data (100) in the image system using a plane spatial optical modulator (146), a tone correction LUT (148') is applied to the image data (100) and the calibration correction is applied before the defect correction of using a defect map (122) and an associated gain table (124).例文帳に追加

面空間光変調器（１４６）を使う画像システムにおいて画像データ（１００）に欠陥修正及び較正を適用する方法であって、画像データ（１００）にトーン修正ＬＵＴ（１４８’）を適用し、欠陥マップ（１２２）及び関連する利得テーブル（１２４）を使う欠陥修正を適用する前に、較正修正を適用する。 - 特許庁

Furthermore, when the measured amount of dark current is greater than a set level, white defect correction process is performed, and when the measured amount of dark current is not greater than the set level, the white defect correction process is not performed.例文帳に追加

更に、測定した暗電流量が設定レベルを超えている場合は白キズ補正処理を実施し、測定した暗電流量が設定レベルを超えている場合は白キズ補正処理を実施しない。 - 特許庁

The stylus for color filter defect correction is a stylus for color filter defect correction for applying ink to a defective place of a color filter and has a part, made water-repellent, nearby its tip.例文帳に追加

カラーフィルタの欠陥箇所にインクを塗布するためのカラーフィルタ欠陥修正用針であって、針先端の近くに撥水加工を施した部分が形成されているようにしたカラーフィルタ欠陥修正用針。 - 特許庁

To provide a semiconductor storage device with an error correction function having low redundancy and high defect affirmative relief rate, and also to provide its error correction method.例文帳に追加

冗長度が低く、不良救済率が高い誤り訂正機能付き半導体記憶装置およびその誤り訂正方法を提供する。 - 特許庁

A memory 15 stores defective pixel information (defective pixel addresses, correction gain values, offset correction values, defect types) of the imaging device 10 in advance.例文帳に追加

メモリ１５は、あらかじめ撮像素子１０の欠陥画素情報（欠陥画素アドレス、補正ゲイン値、オフセット補正値、欠陥の種類）を格納している。 - 特許庁

To provide a photomask making a large processing precision tolerance margin for a correction part of defects in HT mask defect correction.例文帳に追加

ＨＴマスクの欠陥修正において、欠陥の修正部分の加工精度許容マージンを大きくすることができるフォトマスク等を提供する。 - 特許庁

To solve such a problem, a photographing person operates a frame feed/zoom switch before main photographing to designate any one of a plurality of kinds of defect correcting methods including a defect correcting method by offset for correcting a V line defect and a defect correcting method of a V line defect by pixel correction.例文帳に追加

このような問題に対して、本撮影前に、撮影者がコマ送り・ズームスイッチを操作することで、Ｖライン傷を補正するオフセットによる傷補正方法および画素補間による傷補正方法を含む複数種類の傷補正方法のうち一のＶライン傷の傷補正方法を指定する。 - 特許庁

To provide a correction color for a defect part of a color filter pattern, which is used for a color filter correction method that copes with a size increase, is automated, rational, and economical in perfect correction of color filter defect parts during color filter production.例文帳に追加

カラーフィルターの製造に際し、カラーフィルターの欠陥部分を完全に補修するに、大型化に対応できる、自動化された合理的、経済的なカラーフィルターの新規な補修方法に使用されるカラーフィルターのパターン欠陥部の補修用カラーの提供。 - 特許庁

To provide a defect correction device capable of high accuracy correction of defects having a variety of dimensions and also to provide a laser-output decision system to be employed for the defect correction device.例文帳に追加

本発明は、種々の大きさの欠陥部にたいしても高精度に修正を行える欠陥修正装置を提供することであり、また、本発明の他の目的は、上記欠陥修正装置に用いられるレーザの出力判定システムを提供することである。 - 特許庁

To provide a defect correction device of an electronic circuit pattern, the correction device actualizing defect species which are difficult to be recognized by observation using a conventional correction device relative to defects detected by an electric inspection or the like, and normalizing a pixel or forming a semi-black point therefrom.例文帳に追加

電気検査等で検出された欠陥に対して、従来の修正装置での観察では認識が困難であった欠陥種を顕在化し、画素を正常化あるいは半黒点化できる電子回路パターンの欠陥修正装置の提供。 - 特許庁

To provide a defect correction method capable of easily correcting a defect of rib chipping occurred in a manufacturing process of a high definition/high luminance PDP.例文帳に追加

高精細／高輝度型のＰＤＰの製造工程において発生したリブ欠け欠陥も容易に修正することが可能な欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To speedily and accurately correct a defect of a functional unit and to accurately inform all system developers of the defect of the functional unit and the correction result.例文帳に追加

機能ユニットの不具合が迅速・的確に修正され、システム開発者すべてに機能ユニットの不具合やその修正結果が的確に連絡されるようにする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a photomask including a defect correction step capable of efficiently and precisely correcting even a large black defect.例文帳に追加

大きな黒欠陥であっても効率的に、しかも精度良く修正することができる欠陥修正工程を有するフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

A defect correction circuit 16 corrects an image signal Y(n) according to the address information of the registered pixel defect to generate an image signal Y'(n).例文帳に追加

登録された画素欠陥のアドレス情報に応じて欠陥補正回路１６が画像信号Ｙ（ｎ）を補正して、画像信号Ｙ'（ｎ）を生成する。 - 特許庁

To provide a pattern substrate defect correction method and device to reliably correct a defect, and to provide a pattern substrate manufacturing method.例文帳に追加

確実に欠陥を修正することができるパターン基板の欠陥修正方法及び欠陥修正装置並びにパターン基板製造方法を提供する。 - 特許庁

A correction determining means determines necessity of layout correction by comparing the feature value with a correction determining criterion matching the electric property defect read from a database.例文帳に追加

修正判定手段は、この特徴量とデータベースから読み出した電気特性不良に対応する修正判定基準とを比較することでレイアウト修正の要否を判定する。 - 特許庁

A defect correction circuit 110 uses defect information (a defective position and a defective level) stored in a defect information storage RAM 120 to particularize a defective pixel in the image signal thereby correcting the defective pixel.例文帳に追加

欠陥補正回路１１０は、欠陥情報格納ＲＡＭ１２０に格納された欠陥情報（欠陥個所、欠陥レベル）を用いて、画像信号の欠陥画素を特定し、この欠陥画素の補正を行う。 - 特許庁

If the result is out of the range, the device waits until the user determines whether to make the automatic correction of an image defect or not.例文帳に追加

範囲外であれば、画像欠陥の自動補正を行うか否か、ユーザの選択待ち状態とする。 - 特許庁

METHOD OF PATTERNING SUBSTRATE BY FEEDING MASK DEFECT DATA FORWARD FOR SUBSEQUENT CORRECTION例文帳に追加

後の修正のためにマスク欠陥データをフィードフォワードすることによって基板にパターンを形成する方法 - 特許庁

To achieve defect pixel correction processing with high precision in a CMOS type image sensor.例文帳に追加

本発明は、ＣＭＯＳ型イメージセンサにおいて、高精度の欠陥画素補正処理を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a pattern correcting method capable of performing correction, even if the width of defect on a substrate is small.例文帳に追加

基板上のパターンの欠陥幅が小さくとも修正が可能なパターン修正方法を提供する。 - 特許庁