「defect correction」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing exposure mask capable of exactly performing the judgement of the necessity of defect correction of the exposure mask.例文帳に追加

露光用マスクの欠陥修正要否の判定を、より正確に行うことが可能な露光用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce light leakage accompanying laser beam processing when performing correction of a luminescent spot defect pixel of a liquid crystal display by using a laser beam.例文帳に追加

レーザ光を用いて液晶表示装置の輝点欠陥画素の修正を行うにあたり、レーザ加工に伴う光漏れを少なくする。 - 特許庁

To provide a method and a device for correcting a white defect in a photomask with high correction accuracy while preventing influences on image quality on transferring a pattern.例文帳に追加

転写時の像質への影響がなく修正精度の高いフォトマスクの白欠陥修正方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

As compared to the case only the relative position of the defect like heretofore, the selection of more optimum correction procedures is made possible.例文帳に追加

従来のように欠陥の相対位置のみを考慮する場合に比べて、より最適な修正手順を選択することが可能となる。 - 特許庁

THIN FILM DEFECT CORRECTION METHOD, DEFECTIVE-CORRECTING THIN FILM, METHOD OF FORMING CRYSTALLINE THIN FILM, THE CRYSTALLINE THIN FILM, AND THIN FILM SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

薄膜欠陥修正方法、欠陥修正薄膜、結晶性薄膜の形成方法、結晶性薄膜および薄膜半導体素子 - 特許庁

Alternatively, the OB signals may be classified for every output terminal of the image pickup apparatus to perform defect correction of the OB signals for every classification.例文帳に追加

その他、撮像部の出力端子別などにＯＢ信号を区分して、その区分別にＯＢ信号の欠陥補正を行ってもよい。 - 特許庁

To efficiently suppress charge-up of an isolated pattern without damaging the pattern in photomask defect correction using charged particle beam.例文帳に追加

荷電粒子ビームを用いたフォトマスク欠陥修正において、孤立パターンのチャージアップを、パターンを傷つけることなく、効率よく抑止する。 - 特許庁

Similarly, defect correction processing units 31G and 31B correct defects of image signals DGa and DBa to generate image signals DGb and DBb.例文帳に追加

欠陥補正処理部３１G,３１Bも同様に、画像信号ＤGa，ＤBaに対して欠陥補正を行い画像信号ＤGb，ＤBbを生成する。 - 特許庁

An operation reception part 102 receives the input identification code and error checking code as defect information and passes it to a correction part 104.例文帳に追加

操作受付部１０２は、入力された識別符号及び誤り判定符号を不良情報として受け付け、補正部１０４に渡す。 - 特許庁

DEFECT INSPECTION METHOD AND DEVICE OF DISK STORAGE MEDIUM, AND CORRECTION METHOD AND DEVICE OF INSPECTION SLICE VALUE例文帳に追加

ディスク記憶媒体の欠陥検査方法，ディスク記憶媒体の欠陥検査装置，検査スライス値の補正方法および検査スライス値の補正装置 - 特許庁

The solid-state image sensor 3 is operated in a light shield state, a linear defect detection correction circuit 6 detects the linear defect of the solid-state image sensor 3 on the basis of the pixel signal of the solid-state imaging element 3, and an address of the detected linear defect is stored.例文帳に追加

固体撮像素子３を遮光状態で動作させ、固体撮像素子３の画素信号に基づいて固体撮像素子３の線状欠陥を線状欠陥検出補正回路６により検出し、検出された線状欠陥のアドレスを記憶しておく。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a mask defect by which delay caused by pseudo-error occurrence can be prevented and decrease in the accuracy of defect inspection can be prevented in the process of inspecting a mask defect carried out for the pattern obtained by optical proximity effect correction of a designed pattern.例文帳に追加

設計パタンを光近接効果補正して得たパタンに対して実施されるマスクの欠陥検査工程において、擬似的なエラー発生による遅延を防止出来ると共に、欠陥検査精度の低下をも防止出来るマスク欠陥検査方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for correcting an output value of an imaging means, a shading correction method, a defect detection method, a defect detection program and a defect detection apparatus that can precisely calculate an input value by evaluating the sensitivity characteristic of an imaging element appropriately.例文帳に追加

撮像素子の感度特性を適切に評価して入力値を高精度に算出することができる撮像手段の出力値補正方法、シェーディング補正方法、欠陥検出方法、欠陥検出プログラムおよび欠陥検出装置を提供すること。 - 特許庁

In the printed matter inspecting method, a periphery of a detected defect candidate is searched after performing first positional correction using a standard image and the inspected image, and whether it is a real defect is determined by performing second positional correction relating to the defect candidate determined to have high possibility of error detection caused by the geometric distortion.例文帳に追加

基準画像と検査画像を用いて第一の位置補正を行った後に、検出された欠陥候補に対してその周辺部を探索し、幾何学的歪みに起因した誤検知の可能性が高いと判定された欠陥候補に対しては、第二の位置補正を行い真の欠陥であるかを判定することを特徴とする印刷物検査方法。 - 特許庁

To provide an image correction apparatus and an imaging unit which enable eye-related defect such as red-eye portions or gold-eye portions in an image to be confirmed by a simple operation, as an image correction apparatus and an imaging unit for detecting eye-related defect such as red-eye portions or gold-eye portions in an image and correcting the detected defect.例文帳に追加

本発明は、画像中の赤目部分や金目部分などといった目の不具合を検出し、検出された不具合を修正する画像修正装置および撮像装置に関し、画像中の赤目部分や金目部分などといった目の不具合の確認が、容易な操作で実現される画像修正装置および撮像装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a device for correcting a defect of a reticle pattern and a correction method by which correction accuracy of a defective pattern of a reticle is improved, the efficiency is improved to reduce a correction time, and productivity is increased as well as the cost can be reduced.例文帳に追加

レチクルの欠陥パターンの修正精度を向上し、効率を向上させて修正時間の短縮を図り、生産性を向上させるとともにコスト低減を図れるレチクルパターンの欠陥修正装置および修正方法を提供する。 - 特許庁

Subsequently, the correction ink is applied to a laser beam irradiation region by an inkjet device 6, a solvent included in the correction ink is evaporated concurrently with the application of the correction ink and, thereby, the defect existing in the color filter 2 is corrected.例文帳に追加

次いで、インクジェット装置６によりレーザ光照射領域に修正用インクを付与し、修正用インクを付与すると同時に修正用インクに含まれる溶媒が蒸発させることによってカラーフィルタ２に存在する欠陥を修正する。 - 特許庁

The wiring board is manufactured through a wiring part forming stage, an optical inspection stage of detecting a defective wiring part where a defect occurs, and a defect correcting stage of correcting the defect of the defective wiring and in the defect correcting stage, a defect correction procedure previously stored in a database is read out selectively corresponding to the position relation between the defect and a finite number of regions constituting a wiring.例文帳に追加

配線基板の製造を、配線部形成工程と、欠陥が生じた欠陥配線部を検出する光学検査工程と、欠陥配線部の欠陥の修正を行う欠陥修正工程とによって行い、欠陥修正工程において、予めデータベースに蓄積された欠陥修正手順を、欠陥と、配線部を構成する有限数の領域との位置関係に対応して選択的に読み出して前記修正を行う。 - 特許庁

To provide a defective pixel detection method and an image processing apparatus, which can accurately detect a position, in which image correction is required, to accurately perform image correction even in the case where normal pixels adjacent to a line defect generate abnormal output signals due to an influence of the line defect.例文帳に追加

線欠陥の影響により、隣接する正常な画素が異常な出力信号を発生する場合でも、画像補正が必要な箇所を正確に検出し、正確に画像補正することができる欠陥画素検出方法および画像処理装置を提供する。 - 特許庁

The image correction apparatus is provided with an image acquisition section for acquiring image data representing an image, a correction section for detecting the eye-related defect in the image represented by the image data acquired by the image acquisition section and for correcting the detected defect and an image display section for displaying the image based on the image data.例文帳に追加

画像を表す画像データを取得する画像取得部と、画像取得部により取得された画像データにより表わされる画像中の目の不具合を検出し、検出された不具合を修正する修正部と、画像データに基づく画像を表示する画像表示部とを備える。 - 特許庁

By using a transfer film on which an absorption layer absorbing laser beam wavelengths of a laser correction system is laminated as a thin film shape, the absorption layer 15 is thermally transferred on the black defect 10, the laser beam of the laser correction system is applied to the thermally transferred absorption layer and the black defect is corrected.例文帳に追加

１）レーザ修正装置のレーザ光の波長を吸収する吸収層が薄膜状に積層された転写フィルムを用いて、黒欠陥１０上に吸収層１５を熱転写し、２）熱転写した吸収層にレーザ修正装置のレーザ光を照射し、黒欠陥を修正すること。 - 特許庁

A correction similar to the correction of irradiated region with respect to the pattern matching processing from the usual secondary ion image or secondary electron image of the ion beam defect correcting device is performed and a defect region 3b which is extracted by the AFM and is subjected to fine adjustment by the conformation of the pattern for alignment is corrected by ion beams 8.例文帳に追加

イオンビーム欠陥修正装置の通常の二次イオン像もしくは二次電子像からのパターンマッチング加工に対する照射領域の補正と同様な補正を行い、AFMで抽出し、位置合わせ用のパターンの合わせ込みで微調整された欠陥領域3bをイオンビーム8で修正する。 - 特許庁

To provide an image reader for acquiring suitable shading correction reference data free of an image defect having a density difference in a width direction of an image formed from image data after shading correction.例文帳に追加

シェーディング補正後の画像データから形成される画像の幅方向に濃度差が表れる画像不良が発生しない、適正なシェーディング補正基準データを取得できる画像読取装置を提供する。 - 特許庁

This pattern correction device jets atomized correction liquid from a coating nozzle 30 to a white void defect part 13a that a colored layer 13 of a pixel PIX_B has while opening a shutter 31.例文帳に追加

このパターン修正装置では、画素ＰＩＸ＿Ｂの着色層１３にある白抜け欠陥部１３ａに、シャッタ３１を開きながら塗布ノズル３０から霧状の修正液２０を噴出する。 - 特許庁

To provide a setting method for setting a depression position of correction rolls for a roller leveler not causing a defect in a shape of a steel plate after correction even if the size and strength of the steel plate to be corrected is variously changed.例文帳に追加

矯正される鋼板の寸法や強度が種々異なっても、矯正後の鋼板に形状不良の生じないローラレベラ用矯正ロールの圧下位置の設定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a bodysuit intended for solving a defect of limited local figure correction by a local patch method and presenting effect of the whole figure correction of the upper half of the body.例文帳に追加

本発明は、ボディスーツおいて、「局部的当て布」方式による、限定された局部的な体型補整の欠陥を解決し、上半身部の全体的な体型補整の効果を現出することを目標とする。 - 特許庁

Thereby, by preventing that the demerit point defect disappears subsequently to make a laser repair impossible or the like, inspection and correction efficiency is improved.例文帳に追加

これにより、後発的に滅点欠陥が消滅してレーザリペアなどが不可能となる等を防止して検査・修正効率の向上を図る。 - 特許庁

A signal correction circuit 42 references the coordinate memory 24 to correct the defect of an image signal resulting from the defective pixel and to store the result in a memory card 45.例文帳に追加

信号補正回路42は、座標メモリ24を参照して、欠陥画素に起因する画像信号の欠陥を補正してメモリカード45に記録する。 - 特許庁

To provide an image processor which can perform pixel defect correction processing while avoiding picture deterioration as much as possible, and to provide a control method and a program.例文帳に追加

画質劣化を可及的に回避しつつ画素欠陥補正処理を行ない得る画像処理装置、制御方法、及びプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate holding device that can hold a substrate by a simpler structure, and to provide a defect correction device to which the substrate holding device is applied.例文帳に追加

より単純な構造で基板を保持できる基板保持装置と、その基板保持装置を適用した欠陥修正装置とを提供する。 - 特許庁

And an electrode film 4 or the metal foil 3 is not damaged at the time of pressing because there is no particle in the defect correction paste 5.例文帳に追加

また、欠陥修正ペースト５には粒子は存在しないので、プレスにおいて、電極膜４あるいは金属箔３を傷つけることも無い。 - 特許庁

PHOTOMASK DEFECT CORRECTION METHOD, PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD, PHASE SHIFT MASK MANUFACTURING METHOD, PHOTOMASK, PHASE SHIFT MASK, PHOTOMASK SET, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

フォトマスクの欠陥修正方法、フォトマスクの製造方法、位相シフトマスクの製造方法、フォトマスク、位相シフトマスク、フォトマスクセット及びパターン転写方法 - 特許庁

By eliminating the step 1a from the device pattern 1 of the photomask, correction in the event of a defect at an edge thereof can be facilitated.例文帳に追加

また、フォトマスクのデバイスパターン１から段差１ａを消失させることで、そのエッジに欠陥が発生した場合の修正の容易化が図られる。 - 特許庁

It includes an input means for receiving selection of the pattern of the arrangement defect which is displayed on the display unit for correcting NC data 10a, by using correction data for canceling the defect which the arrangement defect pattern shows.例文帳に追加

実装画像データ及び設計画像データを表示部に表示している状態にて、配置不良パターンの示す不良を解消するための補正データを用いてＮＣデータを補正するために行われる表示部に表示されている配置不良のパターンの選択を受け付ける入力手段と、を具備する。 - 特許庁

The step of correcting the defect portion includes forming a resist film on the photomask again, performing prescribed pattern drawing on a prescribed region including the defect portion, developing it to form a correction resist pattern, and removing the residual substance at the defect portion by performing etching using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

欠陥部分を修正する工程は、フォトマスク上に再度レジスト膜を形成し、欠陥部分を含む所定領域に所定のパターン描画を行い、現像して修正用レジストパターンを形成し、該レジストパターンをマスクとしてエッチングを施して欠陥部分の余剰物を除去する。 - 特許庁

To provide a method for correcting a photomask deficiency defect by which an FIB (focused ion beam) correction device can be used as a tool to correct a minute edge deficiency defect portion in a circuit pattern part, the deficiency defect region of the circuit pattern part is subjected to vapor deposition with high accuracy, and the photomask having excellent cleaning durability can be obtained.例文帳に追加

回路パターン部の微小なエッジ欠損欠陥部を修正するツールとしてＦＩＢ修正装置を用いることができ、精度良く回路パターン部の欠損欠陥領域に蒸着するとともに、フォトマスクの耐洗浄性に優れたフォトマスク欠損欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

When the image data are acquired by the image acquisition section, the image display section displays a corrected image after the defect is corrected by the correction section, so that the detected defect and the corrected defect are confirmed simultaneously at one time by the corrected image.例文帳に追加

画像表示部が、画像取得部によって画像データが取得されたときに、修正部により不具合が修正された後の修正後画像を表示することによって、検出された不具合と修正された不具合とをその修正後画像によって同時に１回で確認することができる。 - 特許庁

(5) Where an objection under paragraph (3) is made, the court, when it finds in a written petition for commencement of bankruptcy proceedings any defect other than the defect for which it ordered correction by a disposition set forth in paragraph (1), shall specify a reasonable period and order that such additional defect should be corrected within that period. 例文帳に追加

５　裁判所は、第三項の異議の申立てがあった場合において、破産手続開始の申立書に第一項の処分において補正を命じた不備以外の不備があると認めるときは、相当の期間を定め、その期間内に当該不備を補正すべきことを命じなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The reproducing device having an error correction circuit (228) is provided with a defect detector (230) which detects a defect by calculating a moving average of a reproducing signal, and slicing the moving average with a threshold Th.例文帳に追加

誤り訂正回路（２２８）を有する再生装置に、再生信号の移動平均値を演算して、この移動平均値を対象として、閾値Ｔｈでスライスして、欠陥を検出する媒体欠陥検出器（２３０）を設ける。 - 特許庁

To ensure accurate fine alignment correction while reducing the man hour of a user required for review, in an observation device having a function to perform fine alignment by using the location information on a defect registered in a defect file.例文帳に追加

欠陥ファイルに登録された欠陥の位置情報を用いてファインアライメントを実行する機能を備えた観察装置において、ファインアライメント補正を正確なものとし、レビューのために要するユーザの工数を低減する。 - 特許庁

The defect correction method for correcting a defect on a substrate 6 wherein two or more circuit patterns are formed detects a defective part on the substrate 6 and acquires position information on the substrate 6 of the defective part.例文帳に追加

複数の配線パターンが形成された基板６上の欠陥を修正する欠陥修正方法であって、基板６上の欠陥部位を検出し、その欠陥部位の基板６上における位置情報を取得する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask by which no correction scum of a residual defect is left when the residual defect of a halftone phase shift mask is removed by using an AFM (atomic force microscope) correcting device.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの残留欠陥をＡＦＭ型修正機を用いて除去する際、残留欠陥の修正カスを残さないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The black defect correction technique of the mask comprises recognizing the position of a black defect section of the mask by an atomic force microscope (AFM), moving the probe of the AFM upward of the black defect position, and removing the black defect by electrochemical reaction in the state of interposing an electrolyte between the probe and the black defect section as both electrodes and further comprises confirming the removal of the black defect by the AFM.例文帳に追加

本発明のマスク黒欠陥修正手法は、原子間力顕微鏡によってマスクの黒欠陥部位置を把握し、前記黒欠陥位置上方に前記原子間力顕微鏡の探針を移動させ、前記探針と前記マスク黒欠陥部を両電極とし電解液を介在させた状態で電気化学的反応により前記黒欠陥を除去するものであって、更に前記原子間力顕微鏡によって前記黒欠陥の除去を確認するものである。 - 特許庁

By the method for making mask pattern data, a proximity correction mask with high accuracy and no correction defect can be obtained in a short period of time while keeping the process margin in a complicated LSI pattern.例文帳に追加

以上のように、本発明のマスクパターンデータ作成方法によれば、複雑なＬＳＩパターンにおいて、プロセス余裕度を保ちながら補正欠陥の無い高精度な近接効果補正マスクを短時間で提供することができる。 - 特許庁

To provide a device and a method for defect correction capable of improving productivity, and to provide a pattern substrate manufacturing method that uses them.例文帳に追加

生産性を向上することができる欠陥修正装置、及び欠陥修正方法、並びにそれを用いたパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁