例文 (999件) |
defect inspection deviceの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1051件
To provide a defect inspection device capable of easily responding to different samples.例文帳に追加
異なった試料に容易に対応できるようにした欠陥検査装置を提供すること。 - 特許庁
To provide an inspection device of an inspection object for stabilizing coordinate accuracy of foreign matter or defect detected on the inspection object.例文帳に追加
本発明の目的は、被検査物上に検出される異物や欠陥の座標精度を安定化させる被検査物の検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide a visual inspection device and a visual inspection method for finding a cold shut defect of an impeller and allowing inspection to be performed in a short time.例文帳に追加
羽根車の湯境欠陥を発見でき、短時間に検査を行う事が可能な外観検査方法及び外観検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide an inspection condition selection apparatus for a color display device capable of selecting an inspection condition capable of detecting a defect in lighting inspection.例文帳に追加
点灯検査において、欠陥が検出可能な検査条件を選出できるカラー表示デバイスの検査条件選出装置を提供する。 - 特許庁
The first defect detection for detecting the first true device defect, and the second defect detection for detecting the second true device defect and a pseudo defect together are performed by using inspection signals having each different signal pattern.例文帳に追加
異なる信号パターンの検査信号を用いることで、第1の真のデバイス欠陥を検出する第1の欠陥検出と、第2の真のデバイス欠陥と擬似欠陥とを合わせて検出する第2の欠陥検出とを行う。 - 特許庁
DEFECT INSPECTION METHOD AND DEVICE OF DISK STORAGE MEDIUM, AND CORRECTION METHOD AND DEVICE OF INSPECTION SLICE VALUE例文帳に追加
ディスク記憶媒体の欠陥検査方法,ディスク記憶媒体の欠陥検査装置,検査スライス値の補正方法および検査スライス値の補正装置 - 特許庁
To provide an inspection device which can well perform inspection of a defect in an emission state regardless of types of line heads.例文帳に追加
ラインヘッドの種類によらず良好に発光状態の欠陥検査を行うことが可能な検査装置を提供する。 - 特許庁
FLAW DETECTING METHOD OF WIDE DYNAMIC RANGE SOLID-STATE IMAGE PICKUP DEVICE, PIXEL DEFECT INSPECTION DEVICE, AND DIGITAL CAMERA例文帳に追加
広ダイナミックレンジ固体撮像素子のキズ検出方法および画素欠陥検査装置ならびにディジタルカメラ - 特許庁
The defect inspection device 21 is equipped with an illumination device 22, a camera 23 and a image processor 24.例文帳に追加
不良検査装置21は、照明装置22、カメラ23及び画像処理装置24等を備えている。 - 特許庁
To achieve high reliability defect inspection by obtaining and correcting the setting state of a spatial filter in advance, thereby markedly enhancing precision of defect inspection in a DF defect inspection device equipped with a spatial filter.例文帳に追加
空間フィルタを備えたDF欠陥検査装置において、事前に空間フィルタの設定状態を把握して補正し、欠陥検査精度を格段に向上させて信頼性の高い欠陥検査を実現することを可能とする。 - 特許庁
To provide a defect inspection method and a defect inspection device for a metal component, capable of detecting a defect existing in a surface and an inside of the metal component, without using a fluid such as water.例文帳に追加
水等の液体を用いること無く、金属部品の表面及び内部に存在する欠陥を検査することが可能な金属部品の欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate holding device that can cope with defect inspection or defect correction for eighth or tenth generation glass substrate.例文帳に追加
第8世代や第10世代のガラス基板に対する欠陥検査や欠陥修正に対応できる基板保持装置を実現する。 - 特許庁
To provide a defect inspection device which can detect a surface defect of a member having fine recessed and projecting parts on a surface thereof.例文帳に追加
表面に細かな凹凸を有する部材であってもその表面の欠陥を検出できる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To improve convenience of a defect review device or an inspection system user by shortening the time required to create a report on defect review.例文帳に追加
欠陥レビューのレポート作成に要する時間を短縮し、欠陥レビュー装置あるいは検査システムユーザの利便性を向上する。 - 特許庁
To provide a defect detecting device capable of detecting a defect at high resolution with significantly shorter inspection time.例文帳に追加
高い分解能で欠陥検出することができると共に検査時間を大幅に短縮できる欠陥検出装置を実現する。 - 特許庁
To quickly and accurately provide a defect inspection device of an optical system, capable of inspecting a defect of a hologram color filter.例文帳に追加
ホログラムカラーフィルタの欠陥を迅速かつ精度良く検査することができる光学システムの欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To improve an operation rate of an inspection device by setting an inspection condition, in a state where an actual inspection object does not exist, in defect inspection that uses a substrate with a pattern as the inspection object.例文帳に追加
パターン付基板を検査対象とした欠陥検査において,実際の検査対象物物が存在しない状態で、検査条件を設定することにより、検査装置の稼働率を向上させる。 - 特許庁
To provide an inspection method of a liquid crystal display device capable of surely reproducing an operation defect and having improved inspection accuracy and inspection efficiency.例文帳に追加
確実に動作不良を再現させることができ、検査精度および検査効率の向上した液晶表示装置の検査方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a pipe end face inspection device and a pipe end face inspection method capable of detecting accurately a defect of the end face of a pipe which is an inspection object.例文帳に追加
検査対象の管の端面における欠陥を精度良く検出することが可能な管端面検査装置及び管端面検査方法を提供する。 - 特許庁
A defect display device 4 reads the image and the defect information obtained by the automatic defect inspection device 2 from the storage part 41 on the basis of the substrate ID of a substrate to be visually inspected in a visual inspection device 3, and highlights a defect part with respect to the image.例文帳に追加
欠陥表示装置4は、目視検査装置3において目視検査を行う基板の基板IDに基づいて自動欠陥検査装置2で取得された画像及び欠陥情報を記憶部41から読み出して、画像に対して欠陥部分を強調表示する。 - 特許庁
To inspect a painted state of a surface by one image pickup simply and with high efficiency, in a painted surface defect inspection method and a painted surface defect inspection device.例文帳に追加
塗装表面欠陥検査方法及び塗装表面欠陥検査装置に関し、表面塗装状態の検査を1回の画像撮像により簡便に且つ高効率に行う。 - 特許庁
To provide a tool defect inspection method and a tool defect inspection device for viewing the whole blade surface with fixed brightness, and inspecting efficiently and accurately.例文帳に追加
一定の明るさで刃面全体を見ることができ、効率良く正確に検査することができる工具欠陥検査方法と工具欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide a novel surface defect inspection device and surface defect inspection method for accurately and almost simultaneously detecting small rugged defects and pattern-like defects.例文帳に追加
小さな凹凸欠陥や模様状欠陥を精度良くかつほぼ同時に検出することができる新規な表面欠陥検査装置および表面欠陥検査方法の提供。 - 特許庁
To provide a device and method for defect inspection, capable of ensuring the size of an image block processable by a PE (Processor Element) used in image processing in defect inspection.例文帳に追加
欠陥検査の画像処理に用いるPEの処理可能な画像ブロックのサイズを確保することができる欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁
Furthermore, since the inspection device includes a function of collating the inspection results for both samples, the relation between a defect and the cause of the defect can be analyzed easily.例文帳に追加
更に、双方の試料に対する検査結果を照合する機能を備えることにより、欠陥と欠陥が生じる原因との関係を容易に解析できるようにする。 - 特許庁
To provide a surface inspection device and a surface inspection method, capable of detecting highly precisely an appearance defect, even relative to the appearance defect having low detection precision in a circular slit.例文帳に追加
円形スリットでは検出精度が悪い外観不良に対しても、高精度に外観不良を検出できる表面検査装置および表面検査方法を提供する。 - 特許庁
The position coordinate of a defect in a substrate for calibration is referred to as an absolute coordinate while the position coordinate of a defect in the substrate for calibration detected by the inspection device is referred to as an inspection coordinate.例文帳に追加
校正用基板の欠陥の位置座標を絶対座標と呼び、検査装置によって検出した校正用基板の欠陥の位置座標を検査座標と呼ぶ。 - 特許庁
To provide a photoelectric conversion element capable of accelerating processing and changing a resolution without increasing costs, and a defect inspection device and a defect inspection method using it.例文帳に追加
コストを増加させずに処理の高速化と解像度の変更が可能な光電変換素子と、それを用いた欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁
To provide an overlay mark for overlay inspection having a pattern capable of performing defect inspection with favorable accuracy not obtained in a prior art in a defect inspection apparatus in a manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加
半導体デバイスの製造過程の欠陥検査装置において従来にはない精度の良い欠陥検査を実現することできるパターンを有するオーバーレイ検査用のオーバーレイマークを提供する。 - 特許庁
At least either of a wafer parameter as a settable inspection information and a sensitivity parameter of a defect inspection device is generated from the design information of a semiconductor wafer, and incorporated into a recipe for defect inspection.例文帳に追加
半導体ウェーハの設計情報から、設定可能な検査情報であるウェーハパラメータと欠陥検査装置の感度パラメータとの少なくともいずれかを生成して欠陥検査のためのレシピに組み込む。 - 特許庁
To provide a method and device for correcting an error in a defect coordinate output from an inspection device to make it easy to select a visual field size for defect search of a defect review device and a defect for fine alignment.例文帳に追加
検査装置から出力された欠陥座標の誤差を補正し、欠陥レビュー装置における欠陥探索用の視野サイズ及びファインアライメント用の欠陥を容易に選定することができる方法及び装置を提供する。 - 特許庁
The inspection system for the circuit pattern is provided with an electron beam visual inspection device, provided with a monitor for displaying the defect on a map; and an external visual inspection device for storing an image of the defect, and is constituted to display concurrently the map and the image of the defect on the monitor.例文帳に追加
また、回路パターンの検査システムは、マップに欠陥を表示するモニタを備えた電子線外観検査装置とこの欠陥の画像を記憶した外部外観検査装置とを備え、モニタにマップと欠陥の画像とを同時に表示する構成とする。 - 特許庁
To provide a laser ultrasonic inspection device and laser ultrasonic inspection method in which defect detection can be conducted using one laser device.例文帳に追加
一台のレーザ装置を用いて欠陥検出を行うことができるレーザ超音波検査装置及びレーザ超音波検査方法を提供する。 - 特許庁
To provide a dark field illumination device and a defect detection device capable of observing and detecting a defect in preferable conditions by a simple adjustment corresponding to the kind of an inspection sample or the direction of the defect.例文帳に追加
検査試料の種類や欠陥の方向に応じて、簡単な調整でその欠陥を好条件で観察、検出できる暗視野照明装置、及び、欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁
To provide a defect inspection device capable of suppressing complication of processing in inspection, and improving inspection accuracy, while preventing a smear phenomenon, in defect inspection in a manufacturing process of a PTP sheet, and a PTP packaging machine.例文帳に追加
PTPシートの製造過程における不良検査に際し、スミア現象を防止しつつ、検査に際しての処理の複雑化を抑制し、検査精度の向上を図ることのできる不良検査装置、及び、PTP包装機を提供する。 - 特許庁
To provide a defect inspection device capable of precise inspection of defects independent of pitch of repeated pattern on a substrate.例文帳に追加
基板に形成された繰り返しパターンのピッチによらず高精度な欠陥検査が行える欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To simplify the constitution of a surface defect inspection device for inspection by an interference phase measuring system and a scattered light detection system.例文帳に追加
干渉位相測定系及び散乱光検出系による検査を行う表面欠陥検査装置の構成を簡略化する。 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM DEFLECTOR AND CHARGED PARTICLE BEAM DEFECT INSPECTION DEVICE AND METHOD USING THE SAME例文帳に追加
荷電粒子ビーム偏向装置及びそれを用いた荷電粒子ビーム欠陥検査装置及び方法 - 特許庁
To provide an inspection device for inspecting a defect with high detection sensitivity at high speed.例文帳に追加
高い検出感度で、高速に欠陥検査をすることができる検査装置提供すること。 - 特許庁
A first coordinate system is created in a defect inspection device using the physical scale (S3).例文帳に追加
前記物理目盛を用いて欠陥検査装置内での第1の座標系を作成する(S3)。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTION OF DEFECT AS WELL AS MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE USING THEM例文帳に追加
欠陥検査方法、欠陥検査装置及びそれらを用いた半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
To provide an external appearance inspection device which can detect the defect of a reticle with high sensitivity.例文帳に追加
レチクルの欠陥の検出を高感度で行うことのできる外観検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide a surface inspection device capable of detecting easily a large-scale defect of a wafer.例文帳に追加
ウェハにおける大規模な欠陥を容易に検出可能な表面検査装置を提供する。 - 特許庁
A defect inspection device 1 is equipped with a camera 3 for obtaining a surface image of the workpiece W.例文帳に追加
欠陥検査装置1は、ワークWの表面画像を取得するカメラ3を備えている。 - 特許庁
Then the wafer is transferred into a microscopic inspection device, in which the defect is examined more closely and imaged.例文帳に追加
そしてウエハを微視的検査装置に移送し、欠陥をより詳細に検査し、撮像する。 - 特許庁
To provide a circuit inspection device capable of detecting surely and easily a defect of a circuit board.例文帳に追加
確実かつ容易に回路基板の不良を検出できる回路検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide a defect inspection device constituted so as not to photograph a rolling streak by devising the illumination way of a shearing surface.例文帳に追加
せん断加工面の照明の仕方を工夫して圧延スジを撮影しないようにする。 - 特許庁
DEFECT INSPECTION METHOD OF PHOTOMASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK例文帳に追加
フォトマスクの欠陥検査方法、半導体装置の製造方法、およびフォトマスクの製造方法 - 特許庁
To highly precisely perform defect inspection of a subject (work-piece) in a compact device structure.例文帳に追加
小型の装置構成で、高精度に、被検体(ワーク)の欠陥検査を行うことを可能にする。 - 特許庁
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