「defect inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

The defect inspection apparatus is characterized by the direction of a pattern; the direction of the projection of illumination light to a sample, and the polarization of the illumination light.例文帳に追加

本発明の特徴は、パターンの方向と、照明光の試料への射影の方向と照明光の偏光に着目したことにある。 - 特許庁

To provide a defect inspection method which enables detection of defects on an edge line of a surface to be inspected, only on the basis of the binarized images of the surface to be inspected.例文帳に追加

被検査面の二値化画像のみに基づいて被検査面のエッジライン上の欠陥を検出可能な欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To easily produce a test piece for calibration which can stably perform the calibration of a seam defect inspection machine with high precision.例文帳に追加

巻締め不良検査機の較正を高精度でかつ安定的に行うことを可能とする較正用試験片を容易に作成できるようにする。 - 特許庁

To perform total inspection in high productivity, high accuracy and high probability in relation to the presence of actual adhesion defect in the face and side boards forming a paper container.例文帳に追加

紙容器を構成する面板と側板の現実の接着不良の有無を高い生産性と高精度・高確率で全数検査すること。 - 特許庁

To speed up an inspection speed by equipping the defect detection capacity of a surface to be inspected that is at least equivalent to a conventional capacity, at low cost.例文帳に追加

低コストでこれまでと同等以上の被検査物表面の欠陥検出能力を備え検査速度を高速化できるようにする。 - 特許庁

To prevent a significant defect such as a liquid leakage or reduction in battery function by total inspection.例文帳に追加

全数検査により、液漏れや電池機能低下といった重大欠陥を未然に防ぐことのできる連続袋体のシール検査装置を提供する。 - 特許庁

In an aspect, an inspection method is disclosed for detecting the presence or absence of a defect on an object comprising a recess having a physical depth.例文帳に追加

一態様では、物理的深さを有する凹部を含むオブジェクト上の欠陥の存在又は不在を検出する検査方法が開示される。 - 特許庁

To provide a silicon wafer inspection device for detecting a defect such as a crack occurred in a silicon wafer, especially in its edge, surely at high speed.例文帳に追加

シリコンウエハー、特にそのエッジ部に生じたクラック等の欠陥を高速度でかつ確実に検出できるシリコンウエハー検査装置を提供する。 - 特許庁

To obtain an inspection result of a black stain G etc., stably without differences of determination results of the black stain defect G etc., by inspectors.例文帳に追加

検査員によって黒シミ欠陥Ｇ等の判定結果が異なるようなことがなく、安定して黒シミ欠陥Ｇ等の検査結果を得ること。 - 特許庁

To provide a visual inspection apparatus capable of easily, reliably detecting a defect such as a flaw and dirt on the surface of a cigarette.例文帳に追加

シガレットの表面における傷や汚れ等の欠陥を容易に、しかも確実に検出することのできる外観検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image analysis means, an image analysis device and an inspection device enabling to detect a defect of a display panel at high detection sensitivity.例文帳に追加

表示パネルの欠陥を高い検出感度で検出することができる画像解析方法および画像解析装置、検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an efficient method for easy defect inspection and repair together with the structure of a micro thermoelectric power generating element.例文帳に追加

微小な熱電発電素子において、欠陥の検査および補修を容易に効率よく行う方法とその構造を提供することである。 - 特許庁

Then, a signal showing the signal intensity of the acquired image which is equal to or more than the detection threshold is determined as the defect in the desired inspection area.例文帳に追加

そして、取得された所望検査領域の像の信号強度が前記検出しきい値以上を示す信号を欠陥として判定する。 - 特許庁

To provide an ultrasonic inspection method capable of inspecting accurately a defect on a work by suppressing generation of bubbles on the work surface.例文帳に追加

ワークの表面での気泡の発生を抑えることにより、ワークの欠陥を精度良く検査することができる超音波検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a weld zone undercut inspection device which can easily detect existence and a magnitude of a weld defect caused by undercut of the weld zone.例文帳に追加

溶接部のアンダーカットによる溶接欠陥の存在とその大きさを検出する簡易な溶接部アンダーカット検査装置を提供すること。 - 特許庁

However, when there is an unexpected pattern of voltage potentials during the voltage contrast inspection, this indicates that a defect is present within the test structure.例文帳に追加

しかし電圧コントラスト検査中に予期されないパターンの電位が存在するとき、これは欠陥がテスト構造内に存在することを示す。 - 特許庁

This honeycomb structure defect inspection device includes a straightening vane 41 and an air current forming means (an air source 92 and a header pipe 59).例文帳に追加

整流板４１と、気流形成手段（空気源９２及びヘッダ管５９）と、を具備するハニカム構造体欠陥検査装置の提供による。 - 特許庁

The lens has the film composed of polythiourethane on the lens base material as main component whose surface defect can be observed by a visual inspection shown by JIS-T7313.例文帳に追加

JIS-T7313に示される視覚的な検査により表面欠陥が観察されるレンズ基材上にポリチオウレタンを主成分とする被膜を有するレンズ。 - 特許庁

To provide a defect-inspection apparatus for inspecting in real time objects to be inspected such as fibers, metallic rods and the like which run while continuously vibrating.例文帳に追加

繊維や金属棒材のような連続的に振動しながら走行する被検査物をリアルタイムに検査する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

Inspection for manufacturing defect and performance (such as an access speed) are conducted for each of the modules 1 to 3 and a rejected module is eliminated from choices.例文帳に追加

その個々のメモリモジュール１〜３に対して、製造上の欠陥テストと性能テスト（アクセス速度等）を行い、不合格を選択肢より外す。 - 特許庁

To provide a paper cup inspection device detecting both of a pinhole and a molding defect in a paper cup bottom part with high sensitivity.例文帳に追加

紙カップ底部のピンホールを高い感度で検出するとともに、紙カップ底部の成型不良を検出する紙カップ検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a surface inspection method of a magnesium containing material capable of visually recognizing even a minute defect without using an expensive machine.例文帳に追加

高価な機械を用いることなく微小な欠陥でも目視で確認することができるマグネシウム含有材の表面検査方法の提供。 - 特許庁

The resist of the resist mask used is prepared by adding an absorbent which absorbs light at 365 or 248 nm wavelength corresponding to the probe light for the defect inspection.例文帳に追加

欠陥検査プローブ光である波長３６５ｎｍあるいは２４８ｎｍの光を吸収する吸光剤をレジストに入れたレジストマスクとする。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR INSPECTING/ANALYZING DEFECT AND INSPECTION DEVICE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE PATTERN例文帳に追加

半導体デバイスパターンの欠陥検査・不良解析方法、半導体デバイスパターンの欠陥検査・不良解析システム、および、半導体デバイスパターンの検査装置 - 特許庁

A surface defect is detected by a surface defect detector 14 and tracked by a controller 19, when a defect reaches the position of a marking device 15, marking is done to the thin steel sheet 1, an operator on an inspection base 13 is informed by a setting display board 25.例文帳に追加

表面欠陥検出器１４により表面欠陥を検出し、制御装置１９によりトラッキングし、欠陥がマーキング装置１５の位置に到達したとき、薄鋼板１にマーキングを施すと共に、設定表示盤２５により検査台１３上のオペレータに知らせる。 - 特許庁

A defect inspection method for inspecting the defect of the surface of a sample, includes the step of detecting the defect by addition processing of a detecting signal in which the amount of the misalignment of a pixel of detection signals calculated by comparing the distribution of Haze signal and predetermined light quantity distribution is corrected.例文帳に追加

試料の表面の欠陥を検査する欠陥検査方法であって、Ｈａｚｅ信号の分布と予め定めた光量分布とを比較して算出した検出信号の画素ずれ量を補正した検出信号を加算処理して欠陥を検出する工程を有する欠陥検査方法。 - 特許庁

Thereupon, the presence or absence of the foreign substance aggregation defect X is inspected by lighting inspection; and if the foreign substance aggregation defect X is detected, vibrations are applied by an oscillator 30 to the foreign substance aggregation defect point, so as to thereby disperse the aggregated granular foreign substances (x).例文帳に追加

そこで、点灯検査により異物凝集欠陥Ｘの有無を有無を検査し、異物凝集欠陥Ｘが検出された場合には、加振装置３０により異物凝集欠陥箇所に振動を付与することで、凝集した粒状異物ｘを分散させるようにする。 - 特許庁

To provide a defect detecting method to reliably detect solely a defect in an inspection object with laminated layers on which information, such as a pattern is printed on a base material without influence of the information, such as the pattern printed on the print layers when detecting the defect.例文帳に追加

基材上に絵柄等の情報が印刷された印刷層が積層された検査対象物の欠陥検出に際し、印刷層に印刷された絵柄等の情報の影響を受けずに、欠陥のみを確実に検出することができる欠陥検出方法等を提供する。 - 特許庁

To reduce the generation of a pseudo-defect when a lightness difference exists between two compared images, in an image defect inspection device and a method for detecting a difference between fellow picture elements corresponding to the two images to detect a picture element portion as a defect when the difference exceeds a detection threshold.例文帳に追加

２画像の対応する各画素同士の画素値の差分を検出して、この差分が検出閾値を超えるとき画素部分を欠陥として検出する画像欠陥検査装置及び方法において、比較する２画像に明度差がある場合の疑似欠陥の発生を低減する。 - 特許庁

According to algorithm for discriminating the kind of defect on a wafer, if the size of defect measured with a wafer inspection device containing a plurality of dark field part detectors is smaller than a limit value indicating the maximum size of COPs, the kind of defect is decided as being not particles.例文帳に追加

ウェーハ上の欠陥の種類を判別するためのアルゴリズムによれば、複数の暗視野部検出器を含むウェーハ検査装置によって測定されたウェーハ上の欠陥のサイズがＣＯＰの最大サイズを表わす限界値よりも小さければ前記欠陥の種類がパーチクルでないと判定する。 - 特許庁

To provide an apparatus for marking a defect, which can detect the defect in a long sheet product transferred to the longitudinal direction by using an inspection device, and can place a mark at the detected defect position by using an oil-based marking pen, without causing a decrease in the marking property due to drying of the tip of the pen.例文帳に追加

長さ方向に搬送される長尺のシート状製品の欠陥を検査装置により検出し、ペン先の乾燥によるマーキング性の低下を招くことなく、検出された欠陥部分に油性マーキングペンを用いてマーキングを施すことができる欠陥マーキング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a surface defect inspection device for a band like body capable of detecting a surface defect by carrying out image pickup of a band like body surface at a optional pickup angle by a light source with low light intensity in regard to a surface defect inspecting device using a time delay integration type video camera.例文帳に追加

時間遅延積分型ビデオカメラを用いた表面欠陥検査装置において、低い光強度の光源により任意の撮像角度で帯状体面を撮像し、表面欠陥を検出することができる帯状体の表面欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

In the defect inspection apparatus for determining an inconsistency part as the defect by comparing the image of a pattern formed to be the same pattern, the amount of the characteristics of the image of a region where a plurality of the optical conditions are dealing is plotted to the characteristic space and an aberrant value in the characteristic space is detected as a defect.例文帳に追加

同一パターンとなるように形成されたパターンの画像を比較して不一致部を欠陥と判定する欠陥検査装置を複数の光学条件の対応する領域の画像の特徴量を特徴空間にプロットし、特徴空間上のはずれ値を欠陥として検出。 - 特許庁

By preparing an inspection plate 100 and making a master information carrier 2 closely contact the plate 100 for inspection instead of a direct defect inspection using the master information carrier, defects on the master information carrier 2 are transferred to the plate 100 for inspection, and the defects are indirectly inspected on the plate 100.例文帳に追加

マスタ情報担体での直接的な欠陥検査に代わって、検査用基板１００を用意し、マスタ情報担体２を検査用基板１００に密着させることにより、マスタ情報担体２上の欠陥を検査用基板１００に転写し、検査用基板１００において間接的にマスタ情報担体２の欠陥を検査する。 - 特許庁

An inspection device 2 for a display device 1 includes: an inspection circuit 100 which judges a defect of each of pixels 20 based on current which flows through an inspection interconnect 111 connected with interconnects 12 of the display device 1; and an inspection driver circuit 200 which drives by supplying a necessary signal to the display device 1.例文帳に追加

型表示装置１のための検査装置２は、表示装置１の配線１２に接続された検査用配線１１１に流れる電流に基づいて、複数の画素２０の各々の欠陥を検査する検査回路１００と、表示装置１に必要な信号を供給して駆動する検査駆動回路２００とを有する。 - 特許庁

In order to detect a defect of the image formed on the recording medium efficiently, an image setting mode and post processing mode are decided from received information together with the image data, an inspection area needing inspection is decided in accordance with the decided mode, and a time for inspection is reduced by inspecting the inspection area only.例文帳に追加

記録媒体上に形成された画像の欠陥を効率的に検出するために、画像データとともに受信した情報から画像設定モードおよび後処理モードを判別し、判別したモードに応じて検査を必要とする検査領域を決定し、その検査領域だけを検査することで検査時間を短縮する。 - 特許庁

An inspection object is irradiated with inspection light, and reflected light polarized and separated by the inspection object is received, and light components of the received reflected light are subjected to photoelectric conversion, to thereby generate interference data showing the value of each polarized component, and a defect on the surface of the inspection object is detected according to the interference data.例文帳に追加

検査光を検査対象物に照射し、検査対象物において偏光分離された反射光を受光し、受光した反射光の光成分を光電変換して各偏光成分の値を示す干渉データを生成し、干渉データに基づいて、検査対象物の表面の欠陥を検出する。 - 特許庁

For example, when three defects 5a, 5b and 5c are detected by the defect inspection, only the defect 5a which has influence on the circuit pattern in the DSA region 8 out of them is sorted out.例文帳に追加

例えば欠陥検査で３つの欠陥５ａ，５ｂ，５ｃが検出されている場合には、それらの中からＤＳＡ領域８内の配線パターンに影響を及ぼす欠陥５ａのみを選別することが可能になる。 - 特許庁

For display, many inspection recipes are arranged on the coordinate system specified by many axes having characteristics values (charge robustness, defect detection speed, defect detection accuracy and others) which have the mutual trade-off relationship.例文帳に追加

複数の検査レシピは、互いにトレードオフの関係にある特性値（帯電ロバスト性、欠陥検出速度、欠陥検出精度等）を持つ複数の軸により特定される座標系上に配置されて表示される。 - 特許庁

To provide an imaging condition determination method for finding an area where the luminance difference becomes maximum in unit patterns of a periodic pattern, and to provide a defect inspection method that uses the same, and a defect inspecting device.例文帳に追加

周期性パターンの単位パターンにおいて輝度差が最大となる領域を求めるための周期性パターンの撮像条件決定方法、これを用いた欠陥検査方法、および欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

In the defect inspection method, a surface image on a wafer end part is acquired (Step S1), and a defect on the wafer end part is detected based on the coordinates from a first origin which is specified for the wafer, using the acquired surface image (Step S2).例文帳に追加

ウェハ端部の表面画像を取得し（ステップＳ１）、取得された表面画像を用いて、ウェハ端部の欠陥を、そのウェハに設定されている第１原点からの座標によって検出する（ステップＳ２）。 - 特許庁

To provide a highly reliable defect inspection device for thoroughly detecting even an irregularly-shaped defect of a small curvature change caused on the surface of a transparent sheet-like object and formable at low cost and in a space saving manner.例文帳に追加

透明体シート状物表面に発生した曲率変化の小さな凹凸状欠陥でも漏れなく検出し、低コスト、かつ、省スペースで構成できる信頼性の高い欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To inspect a surface defect of a magnetic disk using continuous recording system, as well as a surface defect of a magnetic disk using discrete track recording system and patterned media recording system, with only one inspection apparatus.例文帳に追加

一台の検査装置で従来の連続記録磁性媒体の磁気ディスクの表面欠陥の検査とディスクリートトラック方式、パターンドメディア方式の磁気ディスクの表面欠陥の検査を行うことを可能にする。 - 特許庁

A flat panel inspection system 100 as the defect detection apparatus is provided with an image processing section 104 for identifying a defect region in the flat panel 200, based on image data obtained by imaging the flat panel 200.例文帳に追加

欠陥検出装置としてのフラットパネル検査システム１００は、フラットパネル２００を撮像して得られた画像データに基づいてフラットパネル２００の欠陥領域を特定する画像処理部１０４を備えている。 - 特許庁

To provide a method and a system for preferentially analyzing a defect with the possibility of becoming an electrical failure in the inspection of the foreign matter and pattern defect of a work forming an electronic device such as a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路などの電子デバイスを形成するワークの異物やパターン欠陥の検査において、電気的に不良になる可能性の欠陥を優先的に解析する方法とシステムを提供する。 - 特許庁