「defect inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method and an apparatus for putting a defect of an observational object in a view of an electron microscope, etc. without failure, and further making a scale of the apparatus small, in the method and the apparatus for observing the defect detected by an optical foreign matter inspection device or an optical visual inspection device with the electron microscope in detail.例文帳に追加

光学式異物検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡で詳細に観察する方法およびその装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ、装置規模を小さくできる方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a crystal defect inspection method and a crystal defect inspection apparatus capable of detecting the positions of dislocation and lamination defects precisely and speedily with high sensitivity, when inspecting the in-plane distribution of dislocation and lamination defects existing in the epitaxial film of a silicon carbide single-crystal wafer for manufacturing a semiconductor element by an electroluminescence method.例文帳に追加

エレクトロルミネッセンス法により半導体素子製造用の炭化珪素単結晶ウェハのエピタキシャル膜に存在する転位や積層欠陥の面内分布を検査する際に、転位や積層欠陥の位置を高感度かつ高精度で、さらに高速で検出可能な結晶欠陥検査方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device for a display panel and the like, which inspects a defect by once imaging without generating halation and insufficient sensitivity, when defect-inspecting an inspection pattern with a gradation displayed by stepwise change patterns in every divided screen in the display panel of screen division drive.例文帳に追加

画面分割駆動の表示パネルにおいて分割画面毎に階調が段階的変化パターンにて表示される検査パターンを撮像装置にて撮像して欠陥検査する際、ハレーション及び感度不足を生じることなく一度の撮像で検査を行い得る表示パネルの検査装置等を提供する。 - 特許庁

The defect inspection method uses the defect inspection apparatus and discriminates whether the defects respectively detected by the defect detectors are the same by comparing and verifying the defect information of the inspected materials sent from defect detectors.例文帳に追加

欠陥検出器を複数有する欠陥検査装置であって、複数の欠陥検出器と、それぞれの欠陥検出器から送られてくる被検査材の欠陥情報を比較・照合することにより、それぞれの欠陥検出器が検出した欠陥が同じ欠陥であるのか、否かを判別する判別器とを備えた欠陥検査装置およびそれを用い、それぞれの欠陥検出器から送られてくる被検査材の欠陥情報を比較・照合することにより、それぞれの欠陥検出器が検出した欠陥が同じ欠陥であるのか、否かを判別する欠陥検査方法。 - 特許庁

To provide an inspection method and an inspection device capable of stably detecting a small defect such as a stain and a foreign matter generated in the contour vicinity even when the contour direction cannot be determined since the contour in an inspection object image is not a simple straight line shape and is a complicated shape such as a waveform in an inside surface inspection of a package.例文帳に追加

パッケージの内面検査、等において、検査対象画像における輪郭が単純な直線状ではなく波形状等の複雑形状であって輪郭の方向が定まらないような場合であっても、輪郭近傍に発生する小さな、汚れ、異物、等の欠陥を安定して検出することができる検査方法および検査装置を提供する。 - 特許庁

In step S1, a defect detection processing for extracting the ordinates of a new defect and a detection size by a prescribed process is performed, after a prescribed process by using an area reducing function of an inspection device, and in step S3, existence of a new defect is determined in chip unit by a discrimination condition validating all detected new defects.例文帳に追加

ステップＳ１で、検査装置の面積縮小機能を用いて所定の工程後に所定の工程による新規欠陥の座標及び検出サイズを抽出する欠陥検出処理を行い、ステップＳ３で、検出されたすべての新規欠陥を有効とする識別条件で新規欠陥の有無をチップ単位に判定する。 - 特許庁

A defect is detected which is generated in a wafer on which a pattern is formed, and positional relationships between a coordination system for indicating a defect position used by an inspection equipment 1 for outputting the position where the detected defect is generated and a coordination system used in the design data of the pattern are set in multiple ways (steps S3 and S4).例文帳に追加

パターンが形成されたウェハに発生した欠陥を検出し、検出した欠陥の発生位置を出力する検査装置１が使用する欠陥位置を指し示すための座標系と、パターンの設計データにおいて使用される座標系と、の間の位置関係を複数設定する（ステップＳ３、Ｓ４）。 - 特許庁

To provide a defect position detecting device for a buried pipe detecting a defect of the old buried pipe and capable of accurately detecting a defect position even when the pipe is bent without particularly digging a hole in an inspection of the crack or the like of the buried pipe in particular.例文帳に追加

本発明は古くなった埋設配管の欠陥を検出する埋設配管欠陥箇所検出装置に係り、特に埋設配管の亀裂等の検査において特に穴を掘る必要もなく、例え配管が曲がっていても正確に欠陥個所を知ることができる埋設配管の欠陥箇所検出装置を提供するものである。 - 特許庁

To provide an outside development information practical use method of a steel strip and a collection/display program of defect data on the steel strip, when an operator inputs an outside inspection result of a defect in a one's own process onto an outside development displayed on a screen of a defect recording device and records it when processing the steel strip in a plurality of processes.例文帳に追加

鋼帯を複数の工程で処理するに際し、オペレータが自工程での欠陥の外観検査結果を、欠陥記録装置の画面上に表示された外観展開図上に入力して記録を行う際の鋼帯の外観展開図情報活用方法および鋼帯の欠陥データの収集・表示プログラムに関する。 - 特許庁

An image processing/defect detection part 300 receives image data acquired by scanning on a wafer W from an image input part 72, determines whether a defect exists by comparing the image data with reference image data, and outputs defect inspection result data, showing the result to a control part 401 of a PC terminal.例文帳に追加

画像処理／欠陥検出部３００は、ウエハＷ上の走査により得られた画像データを画像入力部７２から受け取り、該画像データを参照画像データと対比して欠陥が存在するか否かを判定し、それを表す欠陥検査結果データをＰＣ端末の制御部４０１に出力する。 - 特許庁

To provide a surface defect inspection device usable for detecting a surface defect such as micro-unevenness and a protrusion in an inspected object and for detecting and inspecting a defect accompanied by a concentration change on a surface, and capable of detecting easily and precisely the surface defects in the inspected objects having a plurality of kinds of diameters and lengths.例文帳に追加

被検査物の微小な凹凸、突起等の表面の欠陥の検出、さらに併せて表面の濃度変化を伴う欠陥の検出・検査に利用することができ、複数種類の直径や長さの被検査物の表面欠陥を精度よく容易に検出できる表面欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

Defect/image information output from an inspection device is butted on ADR/ADC information output from an observation means on a data processor, they are listed and displayed, and a relation between the defect characteristic amount and average detection ratio is displayed using the data, and the defect characteristic amount and the number of detections are displayed every review category.例文帳に追加

検査装置から出力される欠陥・画像情報と、観察装置から出力されるADR・ADC情報とをデータ処理装置上で突き合わせをし、一覧表示させると共に、そのデータを用いて欠陥特徴量と平均検出率の関係や、レビューカテゴリごとにその欠陥特徴量と検出数を示す。 - 特許庁

The electron microscope 5 for observing the defect detected by an optical defect inspection device is mounted with an optical microscope 6 for re-detecting the defect, and has a constitution where, when focusing of the optical microscope 6 is performed, a lighting position and a detecting position of the optical microscope 6 to a sample 1 are not changed.例文帳に追加

光学式欠陥検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡５において、欠陥を再検出する光学式顕微鏡６を搭載し、この光学式顕微鏡６の焦点合わせを行う時に、試料１に対して光学式顕微鏡６の照明位置と検出位置を変化させない構成とする。 - 特許庁

To provide an inspecting device which can perform the defect inspection of CF as a constitution material of a liquid crystal display device and a polarizing plate in a single body state nearly as precisely as the inspection at the final stage of a liquid crystal module.例文帳に追加

液晶表示装置の構成材料であるＣＦおよび偏光板の欠陥検査を、単体の状態で、液晶モジュールの最終工程での検査と同程度の精度で行うことができる検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a means capable of easily recognizing where the region is on the monitor screen in observing a defect region on a large substrate using a monitor device for visual inspection, and to provide a visual inspection system including the means.例文帳に追加

目視観察用のモニター装置を用いて、大型基板上の欠陥部位を観察するに当たり、当該部位が該モニター画面上のどこにあるのか容易に認識できる手段及びこの手段を備える目視検査システムを提供する。 - 特許庁

To provide a printed-state inspection device that picks up an image formed of reflected light from a printed surface by projecting light upon the printed surface, detects a printing defect from the obtained image, and is improved in inspection efficiency.例文帳に追加

印刷面に光を照射し、その反射光により形成される像を撮像し、得られた画像から印刷の欠陥を検出する印刷状態検査装置であって、検査効率の向上を図ったものを提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal panel inspection apparatus capable of discriminating the video of dust sticking to the surfaces on both sides of a liquid crystal panel and the defect inside the liquid crystal panel in an inspection apparatus for inspecting the liquid crystal panel in a state having no polarizing plate by using an imaging apparatus.例文帳に追加

偏光板が無い状態の液晶パネルを撮像装置を用いて検査する装置において，液晶パネルの両側の表面に付着したゴミの映像と，液晶パネルの内部の欠陥とを区別できるようにする。 - 特許庁

In printed wiring board wiring inspecting equipment performing wiring inspection of a printed wiring board, nets in the two-dimensional or three-dimensional proximity relation are extracted, and inspection is performed by previously restricting a portion on which shortcircuit defect is apt to be generated.例文帳に追加

プリント配線板の布線検査を実施するプリント配線板布線検査装置において、２次元或いは３次元的に近接関係にあるネットを抽出し、短絡不良の発生し易い箇所を予め絞り込み検査する。 - 特許庁

The array substrate 10 is divided into three inspection blocks 10C, 10D, 10E, and total three scanning signal lines 2 are selected each from each inspection block, and reinspected simultaneously, and thereby a pixel address of a defect candidate is specified.例文帳に追加

次に、アレイ基板１０を３個の検査ブロック１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅに分割し、各検査ブロックから１本ずつ合計３本の走査信号線２を選択して同時に再検査し、これにより不良候補の画素アドレスを特定する。 - 特許庁

By using this inspection apparatus, any white skipped area is deleted from the image data by irradiation with intense light to conduct defect inspection.例文帳に追加

ソルダレジストが塗布された部分の回路パターンを得るためには、照射する光を強くする必要があるが、ソルダレジストを塗布しなかった部分は白飛びになってしまい、ソルダレジストがある部分と無い部分を検査するための検査装置が必要であった。 - 特許庁

To provide a surface inspection method for a scarfed steel material, capable of certainly detecting a defect such as a non-scarfed part or a molten drip remaining on the surfaces of the steel material whose surfaces are scarfed with high accuracy, and to provide an inspection device used for the same.例文帳に追加

表面を溶削された鋼材の表面に残留する湯だれや未溶削部などの欠陥を精度良く確実に検出できる溶削済み鋼材の表面検査方法、およびこれに用いる検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection technology capable of grasping quantitatively the inspection performance of a defect to be detected when setting properly both a detection condition and a determination condition, and setting accurately the detection condition and the determination condition.例文帳に追加

検出条件と判定条件の双方を適切に設定した場合の検出すべき欠陥の検出性能を定量的に把握でき、正確に検出条件と判定条件を設定できるパターン検査技術を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus for speeding up inspection with high resolution for a technique in inspecting defects, foreign materials, residues, and steps, etc., using electron beam for a pattern on a wafer in a manufacturing process for a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection system capable of highly accurately determining correlation between the distribution pattern of defects in a semiconductor wafer found in a defect inspection, and the distribution pattern in a defective semiconductor chip found in an electric test, in a short time.例文帳に追加

欠陥検査で発見された半導体ウエハの欠陥の分布パターンと、電気的試験で発見された不良半導体チップの分布パターンとの間の相関関係を、極めて高い確度をもって、より高精度に短時間に行う。 - 特許庁

To provide an inspection apparatus for transmitting a fixed transmit dose through a sample by performing thickness measurement and a defect inspection while fixedly keeping an interval between a radiation source and the sheet-like sample by reducing vertical conveyance swinging in the sample.例文帳に追加

試料の上下方向の搬送振れを減少させることで、放射線源とシート状試料の間隔を一定に保ちながら厚さ測定、欠陥検査をし、一定の透過線量を試料に透過する検査装置を提供する。 - 特許庁

To realize a liquid crystal display device and inspection method therefor, capable of strictly and quantitatively detecting and discriminating defect and defective states of a liquid crystal panel, a signal driver, etc., without necessitating an external inspection device.例文帳に追加

外部に検査装置を必要とすることなく、液晶表示パネルや信号ドライバ等の欠陥や不良状態を厳密かつ定量的に検出、判定することができる液晶表示装置及びその検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a system for determining allowable dimensions for a defect of a structural member beforehand and thereby able to show a target value for inspection precision, and to enable the selection of an optimum inspection method for the structural member.例文帳に追加

構造部材の許容欠陥寸法を予め決定する方法およびシステムを提供し、それによって検査精度の目標値を示し、構造部材に対して最適な検査方法を選択することができるようにする。 - 特許庁

To provide an inspection device and its method requiring no pin to be brought into contact with circuit wiring in supply of an inspection signal to the circuit wiring and allowing detection of a minute defect indistinguishable by a naked eye.例文帳に追加

回路配線に検査信号を供給するにあたり、該回路配線に接触するピンを不要とし、また、肉眼により識別できないような微細な欠陥をも検出し得る検査装置及び検査方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an inspection method of a printed board, which enables determination of not only the number of found defects but also whether or not the printed board is defective with consideration of even expansion/contraction rate of the board, in defect inspection of the printed board.例文帳に追加

プリント基板の欠陥検査において、発見された欠陥数のみでなく、基板の伸縮率をも考慮してプリント基板が「不良品」かどうかを判別することが可能なプリント基板の検査方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and device of defect inspection for accurately detecting various defects such as various flaws present on an inspection object formed of a sheet-like or plate-like material; and a linear light source device used for it.例文帳に追加

シート状もしくは板状の材料等からなる検査対象物に存在する様々な傷等の欠陥を精度良く検出できる欠陥検査の方法及び装置並びにそれに用いるライン状光源装置を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that a nozzle is determined to be defective even though it is normal by blurring manner of ink in the case of executing the inspection by recording a test pattern consisting of a minute dot group onto non-coat paper in the nozzle defect inspection in an inkjet printer.例文帳に追加

インクジェットプリンタにおけるノズル不良検査は、非コート紙に対して微細なドット群からなるテストパターンを記録して検査を実施した場合、インクの滲み方により正常であるにも拘わらずノズル不良と判断される。 - 特許庁

Thereby, only a real defect excluding the part where patterns are joined (false defects) is left in the part where defects are detected by the comparing inspection, which lessens works for deciding defects by an operator and reduces the inspection time for the mask.例文帳に追加

これにより、比較検査で得られた欠陥検出部には、描画繋ぎ部分（擬似欠陥）を除いた正真の欠陥だけが残されるので、作業者の欠陥判定の負担を軽くすることができ、マスクの検査時間を短縮できる。 - 特許庁

To provide a defect inspection device of a high resolution realizing the increase of inspection speed in a technology of inspecting defects of patterns, foreign matters, remnants, steps or the like on a wafer in the course of manufacturing process by electron beams.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer inspecting apparatus and method capable of performing defect inspection for each chip region over the whole wafer without interrupting the inspection, and to provide a semiconductor device formed after using the apparatus and the method.例文帳に追加

検査が中断されることなくウェハ全面の検査対象の各チップ領域について欠陥検査が可能な半導体ウェハ検査装置及びその検査方法及びその利用を経て形成された半導体装置を提供する。 - 特許庁

Since a defect is extracted by using the reduced image information wherein a frequency component is maintained, while reducing the image size furthermore than an image corresponding to original image information, high-speed defect inspection can be performed by suppressing cost increase.例文帳に追加

元の画像情報に対応した画像よりも画像サイズを縮小する一方で、周波数成分を維持した縮小画像情報を用いて欠陥を抽出するので、コストの増大を抑えて高速に欠陥検査を行うことができる。 - 特許庁

The data processing circuit 45 has: a memory for storing inputted control data; and a control section for selectively storing control data on a peripheral region including the position of defects in a memory, based on the defect data obtained by a defect inspection machine.例文帳に追加

データ処理回路４５は、入力された制御データを格納するためのメモリと、欠陥検査機で得られた欠陥データに基づき、欠陥の位置を含む周囲領域に関する制御データを選択的にメモリに格納させる制御部とを備えている。 - 特許庁

After the semiconductor chip is mounted an each device area followed by bonding using a bonding wire 6, a visual inspection such as on discontinuity of the bonding wire 6, is performed and a defect mark FM is posted onto the surface of the semiconductor chip 4 having a assembly-related defect.例文帳に追加

各々のデバイス領域に半導体チップ４を搭載して、ボンディングワイヤ６によるボンディング後、ボンディングワイヤ６の断線などの外観検査を行い、組み立て不良がある半導体チップ４の表面に不良マークＦＭを貼り付ける。 - 特許庁

To provide a semiconductor device defect inspection method and a system thereof which inspects predetermined risky spots using a step-and-repeat type high resolution SEM and estimates a defect occurrence frequency at the risky spots statistically with high reliability.例文帳に追加

ステップ・アンド・リピート式の高解像度ＳＥＭを用いて予め定められた危険点を検査し、危険点での欠陥発生頻度を統計的かつ信頼性を持って推定する半導体デバイスの欠陥検査方法及びそのシステムを提供する。 - 特許庁

And each of the set positional relationships is used to position the defect output by the inspection equipment 1 and the design data, and a local pattern of the site at which the defect is positioned is extracted from the design data for every positional relationship (step S6).例文帳に追加

そして、設定された位置関係の夫々を用いて検査装置１が出力した欠陥位置と設計データとを位置合わせし、設計データから欠陥位置が位置合わせされた部位の局所パターンを位置関係毎に抽出する（ステップＳ６）。 - 特許庁

To provide a review apparatus positively, highly accurately and efficiently conducting automatic defect review (ADR) and automatic defect classification (ADC) by aligning defects detected in an upstream inspection apparatus in a short time, for the review apparatus.例文帳に追加

上流の検査装置で検出された欠陥を、レビュー装置に対して確実に、高精度に、しかも短時間にアライメントをして効率よく、詳細再検査（ＡＤＲ）や欠陥分類（ＡＤＣ）を行うことができるようにしたレビュー装置を提供する。 - 特許庁

This device is provided independently with a detection signal processing circuit for forming a large current high-speed image for detecting the existence of the defect, and a detection signal processing circuit for forming an image of a specified narrow portion detected by the defect detecting inspection hereinbefore.例文帳に追加

欠陥の存在を検出する為の大電流高速画像形成用の検出信号処理回路と、この欠陥検出検査により検出された特定の狭い部位の画像形成用の検出信号処理回路とを独立に設ける。 - 特許庁

In an inspection method of the flexible container, the flexible container is irradiated with light of a light emitting diode in a state where the whole shape of the flexible container is maintained, and the defect part is detected by detecting the light transmitting through the defect part of the flexible container.例文帳に追加

フレキシブルコンテナの全体形状を保った状態で、該フレキシブルコンテナに発光ダイオードの光を照射し、該フレキシブルコンテナの欠陥部を透過する光を検出することにより欠陥部を検知することを特徴とするフレキシブルコンテナの検査方法。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a defect in a semiconductor single crystal, which is capable of observing and inspecting a harmful minute crystal defect securely, without generating defects such as color change in a surface of an inspection target like a semiconductor single-crystal wafer.例文帳に追加

半導体単結晶ウェハのような被検査物の表面に変色などの欠陥を生じせしめることなく、有害な微細結晶欠陥を確実に観察・検査することが可能な、半導体単結晶中の欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

A stage control system 141 in a review operation control mechanism 14 selects only coordinate data which meet predetermined conditions from a mask image database 142 out of coordinate data of defect positions obtained by a defect inspection as regions subjected to the review, for example.例文帳に追加

レビュー操作制御機構１４におけるステージコントロールシステム１４１は、例えば、欠陥検査で得られた欠陥位置の座標データのうち、マスク画像データベース１４２からの所定条件に合致した座標データのみをレビュー対象領域として選択する。 - 特許庁

The estimation of the phase difference and transmittance at the exposure wavelength is made possible by calculating the phase difference and transmittance at the inspection wavelength of the detected phase defect and the improvement in the evaluation accuracy is made possible by calculating the defect transfer characteristic using the same.例文帳に追加

検出された位相欠陥の検査波長での位相差、透過率を算出したことで、露光波長での位相差、透過率を見積もることができ、これを用いて欠陥転写特性を計算することにより評価精度の向上が可能となる。 - 特許庁