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「defect inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索
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defect inspectionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2367



例文

In this inspection device, various characteristic quantities of a defect is extracted accurately by providing a defect detection threshold and a characteristic quantity extraction threshold which is smaller than the defect detection threshold to a differential image signal between each image signal of dies having similar brightness.例文帳に追加

明るさが近いダイ間の画像信号同士の差分画像信号に対して欠陥検出しきい値と該欠陥検出しきい値よりも低い特徴量抽出のしきい値とを設けることで、欠陥の各種特徴量を精度よく抽出する検査装置。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a mask defect by which delay caused by pseudo-error occurrence can be prevented and decrease in the accuracy of defect inspection can be prevented in the process of inspecting a mask defect carried out for the pattern obtained by optical proximity effect correction of a designed pattern.例文帳に追加

設計パタンを光近接効果補正して得たパタンに対して実施されるマスクの欠陥検査工程において、擬似的なエラー発生による遅延を防止出来ると共に、欠陥検査精度の低下をも防止出来るマスク欠陥検査方法の提供。 - 特許庁

To provide a marking signal control method for marking a print matter printed on a web-shaped base material according to defect detection signals for a defect detected by a plurality of defect inspection devices, the method controlling output of a marking signal for a plurality of defect detection signals such that marks are distinguishable for each defect detection signal.例文帳に追加

ウェブ状の基材に印刷された印刷物に、複数の欠陥検査装置により検出された欠陥の欠陥検出信号によりマーキングを行うためのマーキング信号制御方法であって、複数の欠陥検出信号に対するマーキング信号の出力制御を行い、各々の欠陥検出信号に対し、マーキングを区別できるようにした、マーキング信号制御方法を提供する。 - 特許庁

An endoscope device 3 includes a feature detection part for detecting a first feature part of an inspection object from an image based on a first condition, a defect detection part for detecting a first defect part of the inspection object based on the first feature part, and a display part for displaying information indicating the first defect part with an image thereof.例文帳に追加

内視鏡装置3は、第1の条件に基づいて、画像から検査対象物の第1の特徴部を検出する特徴検出部と、第1の特徴部に基づいて、検査対象物の第1の欠陥部を検出する欠陥検出部と、第1の欠陥部を示す情報を、画像と共に表示する表示部とを有する。 - 特許庁

例文

To obtain a liquid crystal display device whose yield and display quality are enhanced without the need of excessive costs by repairing a line defect due to disconnection confirmed by display inspection after a CF is stuck and turning a bright spot defect into an inconspicuous black spot defect without introducing an inspection device in a TFT substrate state.例文帳に追加

TFT基板状態での検査装置を導入することなく、CF貼り付け以降の表示検査で確認された断線による線欠陥を修復、および輝点欠陥を目立たない黒点欠陥にすることで、歩留まりの向上および表示品質の向上した液晶表示装置を余分なコストをかけることなく得ることを目的とする。 - 特許庁


例文

According to the influence of the defect on a photomask 10 on the operation of the device, inspection areas (e.g. areas A and B) on the photomask are divided into two or more areas and inspection sensitivity is set for each divided inspection area.例文帳に追加

フォトマスク10上の欠陥がデバイスの動作に与える影響に応じて、フォトマスク上の検査領域(例えば、領域A及び領域B)を2つ以上の領域に分割し、この分割した各々の検査領域に対して検査感度設定を行う。 - 特許庁

In this defect inspection apparatus, the inspection face of a monolithic carrier which has an outer edge in a prescribed shape and in which a regular lattice-shaped pattern is formed in a region surrounded by the outer edge is imaged by a low-magnification camera 20, and the imaged inspection face is output to a microcomputer 70 as image data.例文帳に追加

低倍率カメラ20により、所定形状の外縁を有し、この外縁によって囲まれる領域に規則的な格子状パターンが形成されるモノリス担体の検査面を撮像し、画像データとしてマイクロコンピュータ70に出力する。 - 特許庁

The processing device 3 provides a first inspection domain in the direct irradiation area on the picked-up image picked up by the imaging device 2, and sets a second inspection domain in the diffused light irradiation area, and detects a defect related to irregularities on the inspection surface B by using brightness information of at least either of the first inspection domain and the second inspection domain.例文帳に追加

処理装置3は、撮像装置2で撮像された撮像画像において直接照射エリアに第1の検査領域を設けるとともに拡散光照射エリアに第2の検査領域を設定し、第1の検査領域および第2の検査領域の少なくとも一方の輝度情報を用いて、被検査面Bの凹凸に関する欠陥を検出する。 - 特許庁

A defect is detected by identifying online the relation between an inspection reference pattern image and an objective pattern image for inspection during inspection, constructing a mathematical model absorbing (fitting) displacement of pixels, expansion or contraction noise, or sensing noise of an image, and further comparing a new inspection reference pattern image (model image) obtained by the simulation of the obtained model with the objective pattern image for inspection.例文帳に追加

検査基準パターン画像と被検査パターン画像との関係を検査中にオンラインで同定して、画像の画素ズレや伸縮ノイズ、センシングノイズを吸収(フィッティング)した数式モデルを構築し、そのモデルのシミュレーションによって得られる新たな検査基準パターン画像(モデル画像)と被検査パターン画像とを比較することによって欠陥を検出する。 - 特許庁

例文

To provide a charged particle beam application inspection device and an inspection method capable of realizing a charge control technology having more excellent uniformity than hitherto, and having excellent inspection accuracy and length measurement accuracy, concerning the inspection method and the device using the charged particle beam for defect inspection at an optional part on an unfinished semiconductor wafer in a semiconductor device manufacturing process.例文帳に追加

半導体装置製造過程での未完成な半導体ウェハ上の任意の部分における欠陥検査のための、荷電粒子ビームを使用した検査方法および装置に関し、従来よりも均一性に優れた帯電制御技術を実現し、検査精度、測長精度に優れた荷電粒子線応用検査装置、検査方法を提供する。 - 特許庁

例文

A plurality of drive signals having a driving waveform, corresponding to a defect type of a TFT array are prepared, and a plurality of defect types are detected during inspection of one substrate, by altering a drive signal applied according to a scanning condition in the inspection of the substrate.例文帳に追加

TFTアレイの欠陥種に応じた駆動波形を有する駆動信号を複数用意しておき、一つの基板を検査する間に走査条件に応じて印加する駆動信号を切り替えることによって、一つの基板を検査する間に複数の欠陥種の検出を行う。 - 特許庁

To provide a defect limit specimen tool for visual inspection of an eyeglass lens that easily and certainly inspects whether there is a defect that has adverse effect on the field of view in a predetermined region and reduces the influence of an inspecting person on the inspection results.例文帳に追加

所定の領域内に視野を害する欠陥があるか否かを容易かつ確実に検査することができ、また検査者の検査結果への影響を低減することができるようにした眼鏡レンズ外観検査用欠陥限度見本具およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device capable of not only discriminating a stripe-shaped defect having a known shape generated on the surface of an inspection object by using an optical procedure but also evaluating quantitatively and highly accurately in a short time a parameter characterizing the shape of the stripe-shaped defect.例文帳に追加

光学的手法を用いて、被検査体表面に生じる形状が既知のスジ状欠点の有無を判別するだけでなく、スジ状欠点の形状を特徴付けるパラメータを、短時間で、かつ高精度に定量評価することを可能とする検査装置を提供すること。 - 特許庁

To develop a defect inspection method and a defect inspection device of a polarizing plate which can accurately detect only defects caused by a popularizing plate and an adhesive layer with simple device configuration, without detecting defects which are caused by a separate film and are not problematic, when inspecting defects of a polarizing plate with a separate film.例文帳に追加

セパレートフィルム付き偏光板の欠陥を検査する際に、簡便な装置構成にて、問題とならないセパレートフィルムに起因する欠陥を検出せず、偏光板本体および粘着剤層に起因する欠陥のみを精度よく検出できる欠陥検査方法・検査装置も開発。 - 特許庁

To provide an apparatus for detailed observation of defects detected by an optical defect inspection apparatus or by an optical visual inspection apparatus capable of placing a defect to be observed into the field of view of an electronic microscope or the like, without fail, and reducing the size of the apparatus.例文帳に追加

光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡等で詳細に観察する装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ装置規模を小さくできる装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor circuit component inspection method which detects a defect which is not revealed in an inspection at a normal actual use voltage and prevents the use of a semiconductor circuit provided with a semiconductor circuit component having a defect to be revealed through a change with the passage of time.例文帳に追加

通常の実使用電圧での検査では顕在化しない欠陥を検出し、経時変化により顕在化する欠陥を有する半導体回路構成部品を備えた半導体回路が使用されることを防止する半導体回路構成部品の検査方法を提供する。 - 特許庁

The defect inspection method comprises steps of: transmitting at least two inspection light beams 8 for illumination through first and second light transmitting parts having the same phase of the phase shift mask; again transmitting the light beams through the light transmitting parts by a reflection plate 3; and comparing the intensities of the reflection light beams 9 to inspect the defect of the phase shift mask.例文帳に追加

少なくとも2つの検査照明光8を位相シフトマスクの位相が等しい第1、第2の光透過部を透過させ、反射板3で再度光透過部を透過させ、それらの反射光9の光強度を比較して、その強度差により位相シフトマスクの欠陥検査を行う。 - 特許庁

To provide a quality inspection method and device for a micro surface defect in a magnetic metal zone, capable of detecting automatically such the micro surface defect as usually difficult to be visually confirmed and detectable by grinding inspection using a grinding stone, in an objective specimen having a coarse surface roughness.例文帳に追加

表面粗さの粗い被検査対象物において通常視認が困難で砥石がけ検査により検出しているような微小表面欠陥を自動検出することができる磁性金属帯の微小表面欠陥の品質検査方法及び装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Thereby, the visual inspection of a multiple layers phase defect becomes possible by an easy and practical through-put in a hole pattern which cannot be inspected easily by a mask inspection, and the yield is improved by supplying a defect free mask which is performed with a defective relief according to classification of the cause of failure.例文帳に追加

これにより、マスク検査では容易に検査できないホールパターンにおける、多層膜位相欠陥を容易かつ実用的なスループットで外観検査が可能となり、欠陥の原因の分類に応じた欠陥救済を行った無欠陥マスクを供給することで歩留まりが向上する。 - 特許庁

To provide a method for determining a correlation value of an object to be inspected, which determines the correlation value unlimitedly close to the measured value of the object to be inspected, namely the optimum threshold in the binarization on the side of image processing, and to provide a defect inspection method using the same and a defect inspection apparatus therefor.例文帳に追加

被検査対象の実測値に限りなく近い相関値、即ち、画像処理側での2値化における最適な閾値を決定する被検査対象相関値決定方法、及びこの方法を用いた欠陥検査方法とその欠陥検査装置を提供するものである。 - 特許庁

To provide a technology for detecting a minute concavo-convex defect (phase defect) of only several nm with high sensitivity in a mask blank inspection method that uses DUV light that allows usage of an inspection optical system which has high degree of completion as a mass production device and uses a lens in the atmospheric air.例文帳に追加

量産装置としての完成度が高く、かつ、大気中でのレンズを使用した検査光学系を使用できるDUV光を使用したマスクブランクの検査方法において、わずか数nmの微細な凹凸欠陥(位相欠陥)を高感度に検出できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device before crimping a wire and a defect inspection method before crimping a wire capable of correctly individually determining presence of respective defects of a crimp blade die, a crimp terminal, a wire core part and a wire covering part before crimping the wire at low cost.例文帳に追加

低コストで、電線の圧着前に圧着刃型、圧着端子、電線芯線部、および電線被覆部のそれぞれの不具合の有無を個別に正確に判断することができる、電線圧着前の不具合検査装置および電線圧着前の不具合検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a visual inspection device and a visual inspection method capable of defect detection even in a domain other than a repeated pattern domain without generating a reference image, when detecting a defect appearing in the appearance of a substrate on whose surface an electric pattern is to be formed or has been formed.例文帳に追加

表面に電気的パターンが形成される、又は形成された基板の外観に現れる欠陥を検出する際に、基準画像を生成することなく、繰り返しパターン領域以外の領域においても欠陥検出が可能な外観検査装置及び外観検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophoretic front plate inspection device and its inspection method that display an abnormal response defect, wherein driving speed is different from the surroundings more clearly, imaging the display, and accurately extracting the abnormal response defect included as local unevenness in the imaged image.例文帳に追加

周囲と駆動速度の異なる応答異常欠陥をよりはっきり表示させ、その表示を撮像し、撮像画像内において局所的なムラとして含まれる応答異常欠陥を高精度に抽出するための電気泳動型前面板検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

In the recording stop period in which recording data is not performed, either or both of defect inspection of a recording scheduled area and reading inspection of an already recorded area are performed by the microcomputer of the optical disk drive 7, defect of the disk is avoided and a recording state can be held appropriately.例文帳に追加

データの記録を行わない記録停止期間において、光ディスクドライブ7のマイクロコンピュータにより、記録予定エリアの欠陥検査と記録済みエリアの読取り検査との一方または両方を行い、ディスク上の欠陥を回避し、記録状態を適正に保てるようにする。 - 特許庁

To prevent occurrence of erroneous insertion in a terminal group of a uniform projection state defect where a uniform projection state defect occurs in each terminal, in relation to terminal inspection for inspecting a projection state of a terminal mounted to protrude to a holding member by a terminal inspection tool.例文帳に追加

保持部材に突出装着された端子の突出状態を端子検査治具で検査する端子検査について、各端子に一律的な突出状態不良を生じている一律的突出状態不良の端子群に過誤挿通が発生するのを防止できるようにする。 - 特許庁

The wiring board is manufactured through a wiring part forming stage, an optical inspection stage of detecting a defective wiring part where a defect occurs, and a defect correcting stage of correcting the defect of the defective wiring and in the defect correcting stage, a defect correction procedure previously stored in a database is read out selectively corresponding to the position relation between the defect and a finite number of regions constituting a wiring.例文帳に追加

配線基板の製造を、配線部形成工程と、欠陥が生じた欠陥配線部を検出する光学検査工程と、欠陥配線部の欠陥の修正を行う欠陥修正工程とによって行い、欠陥修正工程において、予めデータベースに蓄積された欠陥修正手順を、欠陥と、配線部を構成する有限数の領域との位置関係に対応して選択的に読み出して前記修正を行う。 - 特許庁

To properly set inspecting conditions used for a visual inspection apparatus and a visual inspection method such as optical conditions and defect detecting conditions depending on a sample to be actually inspected.例文帳に追加

光学条件や欠陥の検出条件等といった、外観検査装置及び外観検査方法に用いられる検査条件を、実際の検査対象の試料に応じて適切に設定する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device and a pattern inspection method capable specifying a defect shape precisely without being affected by the spattering of copper, and to provide a printed circuit board inspected by the method.例文帳に追加

銅の飛び散りに影響されず,欠陥形状について高精度に特定できるパターン検査装置およびパターン検査方法およびその方法により検査されたプリント配線板を提供すること。 - 特許庁

To provide an inspection device for pattern defects, capable of realizing high reliability stable pattern defect inspection, having high resolution relative to minute patterns by using an ultraviolet laser beam as the light source.例文帳に追加

紫外レーザ光を光源として微細パターンを高解像度で、しかも安定したパターン欠陥検査を高信頼性で実現するようにしたパターン欠陥検査装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an inspection method, capable of obtaining the distribution or the trend of the electric resistance and electric capacity of the entire surface of a substrate in a short time in inspection of defect in a substrate, such as a semiconductor device or liquid crystal.例文帳に追加

半導体装置や液晶等の基板欠陥検査において、基板全面の電気抵抗および電気容量の分布や傾向を短時間に求めることが可能な検査方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of an electrophotographic photoreceptor includes at least the inspection process 101, and the inspection process includes at least a defect detection process 102 of detecting a defective part of an electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

電子写真感光体の製造方法は検査工程101を少なくとも含み、検査工程は電子写真感光体の欠陥部を検出する欠陥検出工程102を少なくとも含む。 - 特許庁

To provide a land pattern inspection method and inspection device capable of detecting a minute defect of a land which can not be detected by a method for measuring diameters of a through hole with a radial length measuring instrument.例文帳に追加

スルーホールの直径を放射状の測長子で計測する方法では検出できないような、ランドの微細な欠陥を検出できるランドパターン検査方法及び検査装置を提供すること。 - 特許庁

Thus, fine defects in the recessed part on the substrate 9, which is difficult to be detected by an ordinary defect inspection device for performing inspection, by irradiating the substrate with light can be detected with high accuracy.例文帳に追加

これにより、基板に光を照射して検査を行う通常の欠陥検査装置では検出が困難な基板9上の微小な凹部内の欠陥を高精度に検出することができる。 - 特許庁

Since the substrate 2 is arranged on the upper part of the TFT array inspection apparatus 1, electric contact defect between a signal electrode terminal 2c of the substrate 2 and the terminal (prober pin 3a) of the inspection apparatus side can be reduced.例文帳に追加

基板2をTFTアレイ検査装置1の上部に配置することによって、基板2の信号電極端子2cと検査装置側の端子(プローバピン3a)との電気的な接触不良を低減する。 - 特許庁

To precisely detect the mechanical defect of a lip in the inspection of sealing performance for an elastic body-made rotating seal, and perform the automatic inspection.例文帳に追加

弾性体製の回転シールの密封性能を検査する装置と方法であって、リップの機械的欠陥を精度よく検査することが可能で、かつ自動検査を可能とする検査方法を開発する。 - 特許庁

To provide an inspection apparatus and an inspection method of a flexure blank for an HDD suspension capable of automatically and surely discriminating the presence/absence of the defect of the flexure blank for the HDD suspension.例文帳に追加

自動的にかつ、確実にHDDサスペンション用フレキシャーブランクの欠陥の有無を判別することのできるHDDサスペンション用フレキシャーブランクの検査装置及び検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a precise defect-part detection method for an inspection object in which a binarization threshold value dealing with even a fluctuation in a condition (illumination brightness or the like) in an imaging operation of the inspection object is calculated.例文帳に追加

検査対象の撮像時の条件(照明の明るさ等)等の変動にも対応した二値化しきい値を算出し、より正確な検査対象の欠陥部分検出方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device capable of reducing a time required for collating a defective portion in an inspection object determined as a defective with a displayed defect item, and a PTP packer.例文帳に追加

不良と判定された検査対象における不良箇所と、表示される不良項目との照合に要する時間を低減させることが可能な検査装置、及び、PTP包装機を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device which can perform an inspection at a high speed on whether a natural defect exists or not which creates confusion with the proof pit, which is processed for protecting a copyright in an optical disk.例文帳に追加

著作権保護のために加工が施された光ディスクにおいて、証明ピットと混同を招く自然欠損が存在しているか否かの検査を高速に行うことができる検査装置を提供する。 - 特許庁

To check for a defect on a sample with use of transmitted light and reflected light and to carry out inspection with high sensitivity by reducing the amount of light that is lost due to spatial separation of the inspection field of a short-wavelength optical system.例文帳に追加

透過光と反射光の両方を利用して試料上の欠陥を検査し、且つ短波長光学系の検査視野の空間分離に伴う光量損失を抑えて感度の良い検査を行う。 - 特許庁

To provide an airtightness inspection method of a casing allowing finding of an airtightness failure by an extremely small defect such as a pin hole while preventing the reduction of inspection efficiency as much as possible.例文帳に追加

検査効率の低下を極力防止しつつ、ピンホール等の極めて小さい欠陥による気密不良を発見することが可能となる容器の気密性検査方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a steel-plate inspection method in which a defective part including a surface defect to be removed is detected surely and in which the defective part can be removed with satisfactory efficiency and to provide a utilization method for electronic information on the inspection method.例文帳に追加

除去すべき表面欠陥を含む不良部を確実に検出し、その不良部を効率よく除去することのできる鋼板検査方法およびその電子情報の利用方法の提供。 - 特許庁

To provide an inspection system and an inspection method of a cell substrate that are capable of detecting a defect in the cell substrate used in a three-dimensional image display device, while suppressing increases in a manufacturing cost and a manufacturing time.例文帳に追加

製造コスト及び製造時間の増大を抑制しつつ、三次元画像表示装置に使用されるセル基板の欠陥を検出できるセル基板の検査システム及び検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method and device using an electronic beam capable of preventing the incorrect detection of a defect in a sample even if the methods of acquiring a reference image and an inspection image are different from each other.例文帳に追加

本発明は、基準画像と検査画像の取得法が異なっても試料の欠陥の誤検出を防止できる電子ビームを用いた検査方法及び検査装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device permitting a simple and improved inspection for defect detection before completing a liquid crystal display device, and also permitting improvement of productivity after completing inspection.例文帳に追加

液晶表示装置完成前に簡易的かつ不良検出力を向上させた検査が可能で、また検査完了後の生産性を向上させることが可能な液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

In the event of dye comparison, difference images between an image of an inspection chip and images of left and right chips are threshold-determined by threshold processing parts 52a and 52b, respectively, by using the second threshold to find a defect candidate on the inspection chip.例文帳に追加

ダイ比較の場合には、閾値処理部52a,52bにおいて、検査チップの画像と左右のチップの画像との差画像をそれぞれ第二の閾値で閾値判定し、検査チップの欠陥候補を求める。 - 特許庁

Consequently, connection failure occurring at the connection boundary of respective chips can be detected by shifting the connection boundary position of the sections, and inspection accuracy employing the Die to Die defect inspection method is enhanced.例文帳に追加

これにより、区画の接続境界の位置をずらして各々のチップの接続境界で生じる接続不良を検出することができ、Die to Dieの欠陥検査手法を用いた検査精度を向上させる。 - 特許庁

The defect inspection method employs an inspection device having a beam source 1 for irradiating a sample 10 with a charged particle beam 2 and a detector 18 for detecting a charged particle from the sample surface.例文帳に追加

欠陥検査方法は、荷電粒子ビーム2を試料10に照射するビーム源1と、試料表面からの荷電粒子を検出部する検出部18とを備える検査装置を用いる。 - 特許庁

例文

In a pattern data processing part 40, pattern data used for mask design is converted to image data for inspection by FIR filter processing, and the image for defect detection and the image data for inspection are collated with each other.例文帳に追加

また、パターンデータ処理部40で、マスクの設計に用いたパターンデータにFIRフィルタ処理を行って検査用画像データに変換し、欠陥検出用画像と検査用画像データとを照合する。 - 特許庁




  
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